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公开(公告)号：CN109562407B
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN201780042983.7
申请日：2017-08-09
Applicant: 住友重机械工业株式会社
Inventor： 冈本裕司
Abstract: 本发明提供一种能够抑制所形成的膜的形状的偏差的膜形成装置及膜形成方法。膜形成部将膜材料涂布于基板而形成膜。摄像装置对配置于膜形成部的基板的表面进行拍摄。控制部控制膜形成部。控制部中存储有对应该形成的膜的平面形状进行定义的图案数据。基于该图案数据形成膜之前，控制部使膜材料在为了形成膜而涂布膜材料的区域内侧的一部分吐出而形成评价图案。基于用摄像装置对评价图案进行拍摄而得到的图像判定基板的表面状态的好坏，并基于判定结果执行不同的处理。
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公开(公告)号：CN110099513A
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201811248191.8
申请日：2012-07-17
Applicant: 住友重机械工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板制造装置及基板制造方法。本发明的基板制造装置，在第1涂布站中，对底层基板的单面涂布液状薄膜材料，并对涂布于底层基板的薄膜材料照射光来固化薄膜材料的表层部。在第1涂布站中被涂布薄膜材料的底层基板搬入到反转站。在反转站对涂布于底层基板的薄膜材料照射光来使薄膜材料固化至其内部，并且使底层基板的背面和表面反转。搬送装置在第1涂布站与反转站之间搬送底层基板。控制装置控制第1涂布站、反转站及搬送装置。控制装置控制搬送装置将在第1涂布站中经处理的底层基板搬送到反转站。
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公开(公告)号：CN109562407A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780042983.7
申请日：2017-08-09
Applicant: 住友重机械工业株式会社
Inventor： 冈本裕司
Abstract: 本发明提供一种能够抑制所形成的膜的形状的偏差的膜形成装置及膜形成方法。膜形成部将膜材料涂布于基板而形成膜。摄像装置对配置于膜形成部的基板的表面进行拍摄。控制部控制膜形成部。控制部中存储有对应该形成的膜的平面形状进行定义的图案数据。基于该图案数据形成膜之前，控制部使膜材料在为了形成膜而涂布膜材料的区域内侧的一部分吐出而形成评价图案。基于用摄像装置对评价图案进行拍摄而得到的图像判定基板的表面状态的好坏，并基于判定结果执行不同的处理。
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公开(公告)号：CN105451897B
公开(公告)日：2018-08-14
申请号：CN201480036121.X
申请日：2014-06-20
Applicant: 住友重机械工业株式会社
CPC classification number: H05K3/3452 , H05K3/28 , H05K2203/013 , H05K2203/1476
Abstract: 本发明提供一种薄膜形成方法以及薄膜形成装置。沿基板(10)表面的应形成薄膜图案的预定区域(11)的边缘(12)形成脊状的阻挡结构(14)。形成阻挡结构(14)之后，使光固化性的液态的薄膜材料液滴化并着落于预定区域(11)内，然后对着落于预定区域(11)的薄膜材料照射临时固化用光以使其临时固化，从而形成膜要件(15A)。将光固化性的液态的薄膜材料涂布于膜要件(15A)之上而形成液态膜(16)。对液态膜(16)以及膜要件(15A)照射光强度比临时固化用光的光强度更强的正式固化用光，以使液态膜(16)固化，并且提高膜要件(16)的固化度。
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公开(公告)号：CN104349602B
公开(公告)日：2017-08-22
申请号：CN201410341806.7
申请日：2014-07-17
Applicant: 住友重机械工业株式会社
Inventor： 冈本裕司
CPC classification number: H01L2224/32145 , H01L2224/48091 , H01L2224/49171 , H01L2224/73265 , H01L2924/00014
Abstract: 本发明提供一种薄膜形成方法及薄膜形成装置，所述薄膜形成方法中，即使基板的表面为憎液性，也能够使薄膜材料覆盖应涂布的区域的整个区域。本发明的薄膜形成方法中，在憎液性的表面一边移动着落地点一边重复进行使光固化性的薄膜材料着落的处理、和着落后向表面上的薄膜材料照射光而使其固化的处理，由此在表面的应涂布薄膜材料的区域形成第1膜。通过在第1膜上涂布液状的薄膜材料，来形成液状的第2膜。在形成第2膜之后，照射光而使第2膜固化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103688603B
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201280035149.2
申请日：2012-06-12
Applicant: 住友重机械工业株式会社
CPC classification number: H05K3/0091 , H05K3/28 , H05K2201/09909 , H05K2203/0759
Abstract: 本发明提供一种薄膜形成方法及薄膜形成装置。通过反复进行薄膜材料的液滴向基板的表面中形成薄膜图案的区域的边缘的着落与已着落的薄膜材料的固化，在形成薄膜图案的区域的边缘形成由薄膜材料构成的边缘图案。以边缘图案来使薄膜材料的液滴着落于所划分出边缘的内部区域。使着落于内部区域的薄膜材料固化。形成由边缘图案和着落于内部区域的薄膜材料构成的薄膜图案。
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公开(公告)号：CN102554467B
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201110401771.8
申请日：2011-12-06
Applicant: 住友重机械工业株式会社
IPC: B23K26/067 , B23K26/382
Abstract: 本发明提供一种高速加工的激光加工装置及激光加工方法。本发明的激光加工装置具有：激光光源，射出激光束；分光系统，能够至少向第1方向和第2方向分配从激光光源射出的激光束；及第1偏转器，能够偏转通过分光系统向第1方向、第2方向分配的激光束而射出，其中，第1偏转器包含：第1偏转元件，配置于通过分光系统向第1方向分配的激光束的光路上，且能够偏转激光束而射出；第2偏转元件，配置于通过分光系统向第2方向分配的激光束的光路上，且能够偏转激光束而射出；及第3偏转元件，配置于经由第1偏转元件的激光束及经由第2偏转元件的激光束的光路上，且能够偏转入射的激光束而射出。
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公开(公告)号：CN103847227A
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN201310322545.X
申请日：2013-07-29
Applicant: 住友重机械工业株式会社
Inventor： 冈本裕司
Abstract: 本发明提供一种基板制造装置及基板制造方法，该基板制造装置在面内形成膜厚不同的薄膜时，能够避免生产率下降。本发明的基板制造装置，在载物台的保持面保持应形成薄膜的基板。从与载物台对置的喷嘴头的多个喷嘴孔朝向载物台上保持的基板吐出薄膜材料的液滴。移动机构使载物台及喷嘴头的其中一方相对于另一方在与保持面平行的扫描方向上移动。控制装置控制移动机构。当从控制装置接收喷嘴孔和与该喷嘴孔建立对应关联的信号波形之间的对应关系被特定的吐出信号，则喷嘴头从喷嘴孔吐出和与该喷嘴孔建立对应关联的信号波形相应的体积的薄膜材料的液滴。
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公开(公告)号：CN103832103A
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201310330340.6
申请日：2013-07-31
Applicant: 住友重机械工业株式会社
Inventor： 冈本裕司
Abstract: 本发明提供一种基板制造方法及基板制造装置，该基板制造方法不易在薄膜的表面产生阶梯差。本发明的基板制造方法，使从多个喷嘴孔吐出薄膜材料的液滴的喷嘴单元对置于基板，使喷嘴单元相对于基板相对移动的同时使薄膜材料的液滴着落于基板，从而在基板的表面形成沿应形成的多个图案的边缘的多个边缘图案。使喷嘴单元相对于基板向第1方向相对移动的同时使薄膜材料的液滴着落于被边缘图案包围的实地区域，从而在实地区域形成薄膜。在实地区域形成薄膜的工序中，以在使喷嘴单元相对于基板朝一个方向相对移动的期间所形成的薄膜的边缘未穿过实地区域的内部的条件下形成薄膜。
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公开(公告)号：CN103192602A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201210594007.1
申请日：2012-12-31
Applicant: 住友重机械工业株式会社
Inventor： 冈本裕司
Abstract: 本发明提供一种薄膜形成装置及薄膜形成方法，其目的在于要求缩减用于在阻焊抗蚀剂等薄膜上印字的工序数。本发明的薄膜形成装置及薄膜形成方法中，第1喷头及第2喷头对置于对象物。第1喷头及第2喷头分别吐出第1色及第2色的液状材料。移动机构使保持对象物的载物台相对于第1喷头及第2喷头向对象物的面内方向移动。控制装置控制第1喷头及移动机构而在对象物上以第1色液状材料形成第1薄膜，且控制第2喷头及移动机构而在对象物上以第2色液状材料形成第2薄膜。
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