有机硅树脂、树脂组合物、树脂膜、半导体器件和制造方法

    公开(公告)号:CN105566913B

    公开(公告)日:2020-06-05

    申请号:CN201510725622.5

    申请日:2015-10-30

    Abstract: 包含由式(1)表示的构成单元并且具有3,000‑500,000的Mw的有机硅树脂含有:10‑50wt%的(A‑1)具有10‑40wt%的有机硅含量(所述有机硅含量是合成有机硅树脂的含硅氧烷结构单元的单体在所用合成单体中占的重量分数)的第一有机硅树脂和(A‑2)具有50‑80wt%的有机硅含量(所述有机硅含量是合成有机硅树脂的含硅氧烷结构单元的单体在所用合成单体中占的重量分数)的第二有机硅树脂。包含有机硅树脂的树脂组合物能够以膜形式形成,并且其具有令人满意的对于大尺寸/薄晶片的覆盖或封装性能。树脂组合物或树脂膜确保令人满意的粘合性、低翘曲和晶片保护性。该树脂膜可用于晶片级包装。

    光固化性树脂组合物及使用所述组合物的光固化性干膜

    公开(公告)号:CN106249547A

    公开(公告)日:2016-12-21

    申请号:CN201610404738.3

    申请日:2016-06-08

    Abstract: 本发明提供一种光固化性树脂组合物,当其用于形成图案时,能够容易地形成高膜厚且微小的图案。为此,本发明提供一种光固化性树脂组合物,其含有:(A)硅酮高分子化合物,其具有由下述通式(1)和(2)所示的重复单元;(B)光致产酸剂,其利用波长190~500nm的光而分解,并产生酸;(C)选自下述化合物中的1种或2种以上的化合物:被甲醛或甲醛-醇类改性后的氨基缩合物、在1分子中平均具有2个以上羟甲基或烷氧基羟甲基的酚类化合物、以及将多元酚的羟基以缩水甘油氧基取代而成的化合物;以及,(D)选自具有3个以上羟基的多元酚中的1种或2种以上的化合物。

    晶片加工体、晶片加工用暂时粘着材料及薄型晶片的制造方法

    公开(公告)号:CN105470188A

    公开(公告)日:2016-04-06

    申请号:CN201510624839.7

    申请日:2015-09-25

    Abstract: 本发明提供一种对于超过300℃的高温热工序具有耐受性且容易进行暂时粘着及剥离的晶片加工用暂时粘着材料、以及可以提高薄型晶片的生产性的晶片加工体。为此,本发明提供一种晶片加工体,其是在支撑体上形成暂时粘着材料层,且将晶片积层在暂时粘着材料层上而成,晶片的表面具有电路面且背面需要加工,并且,粘着材料层是具有以下的两层结构的复合暂时粘着材料层:第一暂时粘着层,是由膜厚不足100nm的热塑性有机聚硅氧烷聚合物层(A)构成,且是以能够剥离的方式积层于晶片的表面;以及,第二暂时粘着层,是由热固化性硅氧烷改性聚合物层(B)构成,且是以能够剥离的方式积层于第一暂时粘着层,并且以能够剥离的方式积层于支撑体上。

    半导体器件、制备方法和层合体

    公开(公告)号:CN108666224B

    公开(公告)日:2023-09-05

    申请号:CN201810254959.6

    申请日:2018-03-27

    Abstract: 提供了半导体器件,其包括支撑体、粘合树脂层、绝缘层、重布线层、芯片层和模塑树脂层。粘合树脂层树脂层(A)和树脂层(B)组成,所述树脂层(A)包含在其主链中含有稠环的光分解性树脂,所述树脂层(B)包含非有机硅系热塑性树脂并且具有在25℃为1‑500MPa的储能弹性模量E’和5至50MPa的拉伸断裂强度。所述半导体器件易于制造并且具有耐热加工性,容易分离所述支撑体并且有效地生产半导体封装。

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