半导体存储装置及便携式电子设备

    公开(公告)号:CN100481516C

    公开(公告)日:2009-04-22

    申请号:CN200380107812.6

    申请日:2003-12-19

    Abstract: 半导体存储装置具有存储功能体(261,262),存储功能体具有以下功能:将电荷保持在经由栅绝缘膜(214)而形成在半导体层(211)上的单一的栅电极(217)的两侧;存储功能体分别含有具有电荷存储区(250)的电荷保持膜(242);电荷存储区(250)横跨沟道区(273)的一部分和配置在沟道区的两侧的扩散区(212,213)的一部分而存在;由于存储功能体独立于栅绝缘膜而形成在栅电极的两侧,因此可以进行2位的动作;进一步,由于各存储功能体由栅电极被分离,因此可有效地抑制改写时的干扰,并且可以使栅绝缘膜薄膜化,并抑制短沟道效果;因而存储元件易于实现微型化。

    半导体存储器件和便携式电子装置

    公开(公告)号:CN100382322C

    公开(公告)日:2008-04-16

    申请号:CN200410044742.0

    申请日:2004-05-17

    CPC classification number: H01L29/66833 H01L21/28282 H01L29/6684

    Abstract: 一种半导体存储器件,它包含:经由栅绝缘膜形成在半导体层上的栅电极;排列在栅电极下方的沟道区;排列在沟道区二侧上且导电类型与沟道区相反的扩散区;以及形成在栅电极二侧上且具有保持电荷的功能的存储功能单元,其中,各个扩散区具有:排列成偏移于栅电极的高浓度杂质区;以及排列成与高浓度杂质区相接触以便与栅电极重叠的低浓度杂质区,且当电压被施加到栅电极时,从一个扩散区流到另一个扩散区的电流量,根据保持在存储功能单元中的电荷量而被改变。

    半导体存储装置及其制造方法以及便携式电子设备

    公开(公告)号:CN1707800A

    公开(公告)日:2005-12-14

    申请号:CN200510087825.2

    申请日:2005-06-03

    Abstract: 一种半导体存储装置,在半导体衬底上,具有通过栅极绝缘膜形成的单一栅电极以及在栅电极两侧形成的第1、第2存储器功能体。在半导体衬底的栅电极侧表面部形成P型沟道区域,在沟道区域两侧形成N型第1、第2扩散区域。沟道区域由位于第1、第2存储器功能体下的偏移区域和位于栅电极下的栅电极下区域构成。赋予偏移区域P型导电型的杂质浓度有效地稀于赋予栅电极下区域P型导电型的杂质的浓度。因此,可以实现栅电极的薄膜化,提供易于精细化的半导体存储装置。

    开关电路和具备该开关电路的电源电路

    公开(公告)号:CN106664082B

    公开(公告)日:2019-11-15

    申请号:CN201580035608.0

    申请日:2015-02-24

    Abstract: 将高耐压的常导通型晶体管(T1)与低耐压的常截止型晶体管(T2)串联连接,并设置与晶体管(T2)反向并联的二极管(D1、D2)。将晶体管(T1)的栅极端子连接到晶体管(T2)的源极端子,并设置对晶体管(T2)的栅极端子输出控制信号的栅极驱动电路(11)。使二极管(D2)的正向电压低于二极管(D1)的正向电压,使经由二极管(D2)将节点(N2)、(N3)相连的路径的电感成分大于经由二极管(D1)将节点(N2)、(N3)相连的路径的电感成分。由此,提供包括串联连接的晶体管且削减了变为截止时的瞬态电流的开关电路。

    显示装置和显示装置的亮度不均校正方法

    公开(公告)号:CN102831870B

    公开(公告)日:2015-05-13

    申请号:CN201210311483.8

    申请日:2010-08-05

    Abstract: 本发明涉及显示装置和显示装置的亮度不均校正方法。将包括亮度不均区域的、或者将包括亮度不均区域及其周边区域的校正区域所含有的像素中的一部分像素选择作为调整校正像素,并使得对调整校正像素的灰阶值校正量与对该校正区域所含有的除调整校正像素以外的像素的灰阶值校正量不同,从而实现了类似于对校正区域内的所有像素的亮度值相同地仅校正了小于与显示用图像数据的1灰阶相当的亮度值(或,与显示用图像数据的小数部分不为0的灰阶值相当的亮度值)。由此能够确切地校正显示装置的亮度不均。

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