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公开(公告)号：CN100592110C
公开(公告)日：2010-02-24
申请号：CN200510052186.6
申请日：2005-02-28
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B1/10 , G02F1/1335 , G09F9/00
Abstract: 本发明提供一种防静电性粘合型光学薄膜，它是在光学薄膜的至少一面依次层压了防静电层、粘合剂层的防静电性粘合型光学薄膜，该防静电层含有金属氧化物。本发明还提供该防静电性粘合型光学薄膜的制造方法、以及包含该防静电性粘合型光学薄膜的图像形成装置。
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公开(公告)号：CN101531873A
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：CN200910007509.8
申请日：2009-02-11
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C09J133/08 , C09J133/10 , C09J133/14 , C09J7/02 , G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: C09J133/14 , C08L2312/08 , C09J7/385 , G02F2202/28 , Y10T428/2848 , Y10T428/2891
Abstract: 本发明提供一种光学薄膜用粘合剂组合物、粘合型光学薄膜及图像显示装置。所述光学薄膜用粘合剂组合物的特征在于，含有如下所述的(甲基)丙烯酸系聚合物；以及交联剂，其中相对100重量份该(甲基)丙烯酸系聚合物，含有0.01～2重量份过氧化物，及0.01～2重量份硅烷偶合剂。其中的(甲基)丙烯酸系聚合物中，作为单体单元，含有34～94重量％(a)(甲基)丙烯酸烷基酯、5～50重量％(b)含芳香环(甲基)丙烯酸酯及0.01～0.5重量份％(c)含氨基(甲基)丙烯酸酯。
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公开(公告)号：CN101418198A
公开(公告)日：2009-04-29
申请号：CN200810169063.4
申请日：2008-10-20
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C09J133/06 , C09J7/00 , G02B5/30 , G09F9/00
Abstract: 本发明提供一种可以形成能够满足再加工性以及可加工性的粘合剂层的光学薄膜用粘合剂组合物，所述的再加工性是指可以在没有残留浆糊的情况下从液晶面板容易地剥离光学薄膜，所述的可加工性是指当在光学薄膜上形成粘合剂层之后可以在不会产生粘合剂的污染或脱落等的情况下进行加工。该光学薄膜用粘合剂组合物的特征在于，是含有(甲基)丙烯酸系聚合物和作为交联剂的过氧化物而成的粘合剂，相对于(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，含有所述的过氧化物0.01～2重量份，所述(甲基)丙烯酸系聚合物是作为单体单元而含有(甲基)丙烯酸烷基酯45～99.99重量％以及含叔氨基单体0.01～2重量％而成的。
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公开(公告)号：CN100458467C
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：CN200580034535.X
申请日：2005-10-12
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: G02B1/16 , B32B27/00 , G02B1/105 , G02B1/12 , G02B27/0006 , G02F2202/22 , G02F2202/28 , H01L51/0036 , H01L51/5281 , Y10T428/25 , Y10T428/254 , Y10T428/28 , Y10T428/31504 , Y10T428/31786
Abstract: 本发明的目的是提供在光学膜的至少一面层叠有防静电层的防静电性光学膜，其防静电效果优异、且光透射率高。另外，其目的是提供在上述效果的基础上，难以发生粘合剂欠缺、再加工性良好的防静电性粘合型光学膜。本发明的防静电性光学膜，其在光学膜的至少一面层叠有防静电层，其特征在于，对层叠有上述防静电层侧的光学膜的表面实施摩擦处理，且上述防静电层中的导电性聚合物是定向的。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108735650B
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN201810343654.2
申请日：2018-04-17
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 提供适合于通过扩展工序将粘接剂层良好割断的切割芯片接合薄膜。具备切割带(10)和粘接剂层(20)。切割带(10)具有基材(11)和粘合剂层(12)的层叠结构，粘接剂层(20)与粘合剂层(12)密合。相对于在对由DDAF的自外周端起直至向内侧20mm为止的外侧区域(R1)切取的试验片(50mm×10mm)在初始夹具间距离20mm、‑15℃及拉伸速度300mm/分钟的条件下进行的拉伸试验中在应变值30％时产生的拉伸应力的、在对由DDAF的比前述外侧区域(R1)更靠近内侧的内侧区域(R2)内切取的试验片(50mm×10mm)在同条件下的拉伸试验中在应变值30％时产生的拉伸应力的比值为0.9～1.1。
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公开(公告)号：CN111050891A
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201880058948.9
申请日：2018-08-16
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明的目的在于，提供耐氧化剂性(耐氯性)和盐截留性优异的复合半透膜及其制造方法。本发明的复合半透膜的特征在于，在多孔性支撑体的表面上形成有包含聚酰胺系树脂的表皮层，所述聚酰胺系树脂是将多官能胺成分与多官能酰卤成分聚合而得到的，上述多官能胺成分包含脂环式二胺，上述表皮层的利用FT-IR(傅里叶变换红外光谱法)的透射法得到的、来自酰胺基的C＝O伸缩振动的吸收峰强度为0.03以上。
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公开(公告)号：CN105939777B
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201580006103.1
申请日：2015-01-14
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: B01D63/10 , B01D67/0006 , B01D69/02 , B01D69/125 , B01D71/56 , B01D2313/146 , B01D2323/08 , B01D2325/02 , B01D2325/30 , B32B5/026 , B32B27/34 , B32B2307/714 , C08G69/28 , C08G69/32 , C09D177/10
Abstract: 本发明的目的在于提供一种与以往的分离膜元件相比耐氧化剂性优异、且盐截留率难以降低的螺旋型分离膜元件。本发明的螺旋型分离膜元件的特征在于，含有供给侧流路材料、在多孔性支撑体的表面形成有含有将多官能胺成分与多官能酰卤成分界面聚合而得到的聚酰胺系树脂的皮层的复合半透膜、以及透过侧流路材料，所述多官能胺成分含有N，N’－二甲基间苯二胺，所述透过侧流路材料的孔隙率为40～75％。
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公开(公告)号：CN108728003A
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201810345162.7
申请日：2018-04-17
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C09J7/29 , H01L21/78 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种切割芯片接合薄膜，其适合于使粘接剂层确保在扩展工序中的割断性并且实现对环形框等框构件的良好的粘合力。本发明的切割芯片接合薄膜(X)具备切割带(10)及粘接剂层(20)。切割带(10)具有包含基材(11)和粘合剂层(12)的层叠结构。粘接剂层(20)与粘合剂层(12)可剥离地密合。粘接剂层(20)的对宽度4mm的粘接剂层试样片在初始夹具间距离10mm、频率10Hz、动态应变±0.5μm、及升温速度5℃/分钟的条件下测定的-15℃下的拉伸储能模量为1000～4000MPa，并且在前述条件下测定的23℃下的拉伸储能模量为10～240MPa。
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公开(公告)号：CN102378483B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201110217062.4
申请日：2011-07-29
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: H05K1/034 , H01B3/445 , H05K1/0393 , H05K3/06 , H05K3/108 , H05K3/28 , H05K2201/0116 , H05K2201/015
Abstract: 本发明提供一种布线电路板及其制造方法。该布线电路板在由多孔质的ePTFE构成的多孔质的基底绝缘层之上形成多个导体图案。各导体图案具有晶种层和导体层的层叠构造。以覆盖各导体图案的方式在基底绝缘层之上形成覆盖绝缘层。用作多孔质的基底绝缘层的ePTFE具有连续孔。ePTFE的平均孔径为0.05μm以上、1.0μm以下。
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