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公开(公告)号:CN1126825C
公开(公告)日:2003-11-05
申请号:CN01137785.2
申请日:2001-10-31
Applicant: 日矿金属株式会社
Inventor: 波多野隆绍
Abstract: 近年,由于在计算机用显像管方面向高清晰度和高亮度发展,对电子枪的聚焦特性要求变得严格,随之对电极的表面性状要求也提高了。于是,希望有一种具有良好的耐蚀性、难以生锈的Fe-Cr-Ni系合金坯材。本发明是鉴于上述情况而完成的,目的是提供耐蚀性优良的电子枪电极用合金及其条。耐蚀性优良的电子枪电极用Fe-Cr-Ni系合金含有Cr:15~20质量%、Ni:9~15质量%、Mn:0.2~2.5质量%、C:0.001~0.04质量%,剩余部分由Fe和不可避免的杂质构成。
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公开(公告)号:CN100467637C
公开(公告)日:2009-03-11
申请号:CN200510075910.7
申请日:2005-06-01
Applicant: 日矿金属株式会社
Abstract: 本发明提供一种强度、导电性及弯曲加工性优良的钛铜,其特征在于,其含有Ti 1.5-2.3质量%,其余由Cu与不可避免的杂质构成,其中,0.2%屈服强度(YS)为750MPa以上,导电率(EC)为17%IACS以上,且在与压延方向垂直的方向进行JIS H3130所述的W弯曲试验时,不产生龟裂的最小弯曲半径(MBR:mm)与板厚(t:mm)的比(MBR/t)与0.2%屈服强度(YS:MPa)之间存在MBR/t≤0.04×YS-30的关系。
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公开(公告)号:CN1305355C
公开(公告)日:2007-03-14
申请号:CN99118363.0
申请日:1999-09-01
Applicant: 日矿金属株式会社
CPC classification number: B21B3/00 , B21B2003/005 , C22C9/00 , C22F1/08 , H05K1/0393 , H05K1/09 , H05K2201/0355 , H05K2203/0278 , Y10S428/901
Abstract: 通过适当提高高弯曲性轧制铜箔的软化温度,消除伴随保管中的软化的故障,提供同时保持优良的弯曲性和适宜的软化温度的FPC用轧制铜箔。挠性印刷电路基板用轧制铜箔,该铜箔含有Ag:0.0055~0.0197重量%、O:0.0100~0.0500重量%、S、As、Sb、Bi、Se、Te、Pb和Sn各成分中的一种以上的合计量:0.0030重量%以下,厚度是5~50μm,具有120~150℃的半软化温度,在室温持续保持300N/mm2以上的抗拉强度,具有优良的弯曲性和适宜的软化特性。
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公开(公告)号:CN1477224A
公开(公告)日:2004-02-25
申请号:CN03145717.7
申请日:2003-06-27
Applicant: 日矿金属株式会社
Abstract: 荫罩条材蚀刻后的翘曲即便不进行条材的消除应变退火也小。TS/0.2%YS之比在平行于轧制方向的方向上为1.03以下的铝脱氧钢或Fe-34-38质量%Ni或Fe-30-35质量%Ni-2-8质量%Co的轧制条材具有以下性质。(1)与轧制方向平行的截面及与之垂直的截面在板厚方向上的残余应力是如此分布的,即在板厚中央部上存在50N/mm2以下的最大拉伸应力。(2)从轧制宽度方向的中央区取下的、与轧制方向一致的长边为500毫米的且在轧制垂直方向上的短边为50毫米的矩形试样在长边方向上下垂时所产生的翘曲为10毫米以下。(3)与轧制垂直方向一致的长边为500毫米的且在轧制方向上短边为50毫米的矩形试样在长边方向上下垂时所产生的翘曲为10毫米以下。
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公开(公告)号:CN1120246C
公开(公告)日:2003-09-03
申请号:CN01111269.7
申请日:2001-03-15
Applicant: 日矿金属株式会社
Abstract: 本发明提供Ni:34~38%、Mn:0.5%以下、余量Fe和不可避免的杂质或伴随元素的C:0.10%以下、Si:0.30%以下、Al:0.30%以下、S:0.005%以下、P:0.005%以下的荫罩用Fe-Ni合金,且此材料表面镜面抛光后,在3%硝酸-乙醇溶液中20℃下,浸渍30秒钟时,直径为0.5μm~10μm的蚀刻孔的出现频率为2000个/mm2以上。和在Fe-Ni合金材料中微小夹杂物或析出物存在的简易观察方法以及由蚀刻加工穿设电子线透过孔时孔径均匀性的判别方法。
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公开(公告)号:CN1326010A
公开(公告)日:2001-12-12
申请号:CN01111268.9
申请日:2001-03-15
Applicant: 日矿金属株式会社
Abstract: 本发明涉及Ni:34~38%、Mn:0.2~0.5%、S:15~40ppm、Cu:20~500ppm,余量是Fe和不可避免的杂质或伴随元素:C:0.10%以下、Si:0.30%以下、Al:0.30%以下、P:0.005%以下的Fe-Ni合金荫罩用原材料。它还含有直径为50~1000nm的MnS夹杂物1500个/mm2或将轧制面镜面抛光后,在规定硝酸-乙醇溶液中浸渍,直径为0.5μm~10μm的蚀刻孔为2000个/mm2以上。长度超过10μm的夹杂物在0.5个/mm2以下。
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公开(公告)号:CN1318651A
公开(公告)日:2001-10-24
申请号:CN01111269.7
申请日:2001-03-15
Applicant: 日矿金属株式会社
Abstract: 本发明提供Ni:34~38%、Mn:0.5%以下、余量Fe和不可避免的杂质或伴随元素的C:0.10%以下、Si:0.30%以下、Al:0.30%以下、S:0.005%以下、P:0.005%以下的荫罩用Fe-Ni合金,且此材料表面镜面抛光后,在3%硝酸-乙醇溶液中20℃下,浸渍30秒钟时,直径为0.5μm~10μm的蚀刻孔的出现频率为2000个/mm2以上。和在Fe-Ni合金材料中微小夹杂物或析出物存在的简易观察方法以及由蚀刻加工穿设电子线透过孔时孔径均匀性的判别方法。
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