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公开(公告)号：CN116504670A
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202310075763.1
申请日：2023-01-16
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明的课题是提供一种能够在喷出处理液的装置中适当且有效地实施参数优化的技术。本发明的涂布装置(1)具备：喷出控制部(910)，基于包括第一参数和第二参数的多个参数，控制来自喷嘴(71)的涂布液的喷出；喷出特性测量部(911)，测量喷嘴(71)喷出涂布液时的喷出特性；第一优化部(915)，基于喷出特性通过全局搜索优化第一参数；第二优化部(917)，基于喷出特性通过局部搜索优化第二参数。第一参数包含将来自喷嘴(71)的涂布液的喷出速度提高到稳定喷出速度的上升期间所对应的参数V1～V4、T1～T9。第二参数包含喷出速度保持在稳定喷出速度的稳定喷出期间所对应的参数V5。
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公开(公告)号：CN112547415B
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202010854656.5
申请日：2020-08-24
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
Abstract: 提供一种涂布装置及涂布方法，通过使清洁构件以适当的按压力按压喷嘴来确保清洁能力，并有效地防止因摩擦而产生的细粉混入涂布层。在该涂布方法中，执行多次从喷嘴喷出涂布液来对被涂布物进行涂布的涂布工序，所述喷嘴设置有以狭缝状开口喷出口，该涂布方法执行清洁工序以及预备清洁工序，该清洁工序，在每次所述涂布工序结束时，使清洁构件与喷出口的周围的喷嘴的表面抵接，并使喷嘴与清洁构件相对移动，该预备清洁工序，当清洁工序的累计执行次数达到规定的阈值时，在执行下一次的涂布工序之前执行，将喷嘴与清洁构件的相对位置变更设定在使两者接近的一侧，并使清洁构件相对于喷嘴相对移动。
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公开(公告)号：CN108568372B
公开(公告)日：2021-11-12
申请号：CN201711445086.9
申请日：2017-12-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
IPC: B05B15/555 , B05B15/68 , B05B15/20 , B05B14/00 , B08B7/04
Abstract: 本发明提供一种能够更适当地降低在狭缝喷嘴的侧面上残留的附着物的量的喷嘴清洁装置。该喷嘴清洁装置具有接触构件、清洗液贮存槽和喷嘴升降单元。接触构件与喷嘴的外表面的下部区域接触，并沿该外表面一边在水平方向上移动一边刮除在下部区域上附着的附着物。清洗液贮存槽的上部开口，贮存作为贮存清洗液的清洗液。喷嘴升降单元，使移动到清洗液贮存槽的上方的喷嘴在下位置(P11)和上位置(P21)之间往复移动。下位置(P11)是下部区域的上方的上部区域与贮存清洗液进行液体接触的位置，上位置(P22)是下位置(P11)的上方的位置。
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公开(公告)号：CN109482582B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201810631033.4
申请日：2018-06-19
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明涉及一种清洗器具、清洗方法以及液体供给装置，利用清洗液更良好地且在短时间内清洗联接器，所述联接器具有能够装卸于液体贮存体上的盖部和贯通设置于所述盖部的配管，通过将所述配管插入所述液体贮存体的内部，能经由所述配管取出在所述内部贮存的液体，所述清洗器具具有：容器，具有能够插入配管的开口、能够经由所述开口容纳所述配管的内部空间，以及保持部，安装于所述容器的所述开口附近，保持从所述液体贮存体卸下的所述联接器；通过使所述清洗液在间隙空间与所述配管的内部之间流通，来清洗所述配管，所述间隙空间为，所述配管容纳于所述内部空间而在所述容器的内表面与所述配管的外表面之间形成的空间。
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公开(公告)号：CN107812628B
公开(公告)日：2019-12-17
申请号：CN201710333637.6
申请日：2017-05-10
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。本发明是一边使喷嘴相对于基板相对地移动，一边从填充有处理液的填充状态的泵将处理液输送至喷嘴，从而缩短从喷嘴使处理液喷出至基板的基板处理装置的节拍时间。本发明基板处理装置包括：补充部，将处理液补充至泵；移动部，使喷嘴相对地移动至维护部及喷出位置；及控制部，通过在利用移动部使喷嘴从喷出位置经由维护部移动至喷出位置期间从泵向喷嘴输送处理液，来进行用于将处理液喷出至下一个基板的准备动作。本发明可以缩短节拍时间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108568372A
公开(公告)日：2018-09-25
申请号：CN201711445086.9
申请日：2017-12-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
IPC: B05B15/555 , B05B15/68 , B05B15/20 , B05B14/00 , B08B7/04
Abstract: 本发明提供一种能够更适当地降低在狭缝喷嘴的侧面上残留的附着物的量的喷嘴清洁装置。该喷嘴清洁装置具有接触构件、清洗液贮存槽和喷嘴升降单元。接触构件与喷嘴的外表面的下部区域接触，并沿该外表面一边在水平方向上移动一边刮除在下部区域上附着的附着物。清洗液贮存槽的上部开口，贮存作为贮存清洗液的清洗液。喷嘴升降单元，使移动到清洗液贮存槽的上方的喷嘴在下位置(P11)和上位置(P21)之间往复移动。下位置(P11)是下部区域的上方的上部区域与贮存清洗液进行液体接触的位置，上位置(P22)是下位置(P11)的上方的位置。
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公开(公告)号：CN118218221A
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202311768716.1
申请日：2023-12-20
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
IPC: B05D3/04
Abstract: 本发明提供一种既避免降低生产效率，又防止因在冷却部的冷却面过度蓄积液态溶剂而导致的不良影响的减压干燥装置。一种减压干燥装置(1)，使涂敷于基板(9)的上表面的涂敷膜干燥，其中，具有：腔室(10)，容纳基板；支撑部(20)，在腔室内支撑基板；减压机构(30)，从腔室吸引气体，使腔室内的压力降低；以及冷却部(40)，对与支撑部所支撑的基板的上表面相对并大于基板(9)的冷却面(40a)进行冷却。冷却部(40)的冷却面(40a)具有：相对区域(RC)，在基板的厚度方向上与基板的能够形成涂敷膜(90)的区域(AC)相对；以及外侧区域(RO)，位于相对区域(RC)的外侧。冷却部(40)构成为外侧区域(RC)的温度高于相对区域的温度。
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公开(公告)号：CN115518828A
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN202210513193.5
申请日：2022-05-12
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
Abstract: 本发明提供一种能够长期使用的狭缝喷嘴、狭缝喷嘴的调整方法及基板处理装置。本发明包括：块体，具有能够安装于狭缝喷嘴的第二本体部的调整本体部、与从调整本体部向吐出口侧突出设置的突出部，通过调整本体部向第二本体部的安装，突出部相对于第二本体部在狭缝喷嘴的第一本体部的相反侧，在相向方向上隔开第二间隙与第二本体部相向；以及间隙调整部，执行扩大动作与狭小动作中的至少其中一者来调整开口尺寸，所述扩大动作是通过第二间隙的减少而使第二本体部在吐出口的附近从第一本体部分离来扩大开口尺寸，所述狭小动作是通过第二间隙的增大而使第二本体部在吐出口的附近接近第一本体部来缩窄开口尺寸。
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公开(公告)号：CN112547415A
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN202010854656.5
申请日：2020-08-24
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
Abstract: 提供一种涂布装置及涂布方法，通过使清洁构件以适当的按压力按压喷嘴来确保清洁能力，并有效地防止因摩擦而产生的细粉混入涂布层。在该涂布方法中，执行多次从喷嘴喷出涂布液来对被涂布物进行涂布的涂布工序，所述喷嘴设置有以狭缝状开口喷出口，该涂布方法执行清洁工序以及预备清洁工序，该清洁工序，在每次所述涂布工序结束时，使清洁构件与喷出口的周围的喷嘴的表面抵接，并使喷嘴与清洁构件相对移动，该预备清洁工序，当清洁工序的累计执行次数达到规定的阈值时，在执行下一次的涂布工序之前执行，将喷嘴与清洁构件的相对位置变更设定在使两者接近的一侧，并使清洁构件相对于喷嘴相对移动。
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公开(公告)号：CN108855720A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201810449439.0
申请日：2018-05-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明在喷嘴清扫技术和使用喷嘴清扫技术的涂敷装置中提供通用性优异的喷嘴清扫技术，喷嘴清扫技术在将喷嘴抵接构件的凹部按压于喷嘴的顶端部的状态下，使喷嘴抵接构件相对于顶端部在喷出口的延伸方向上相对地移动来清扫上述顶端部。喷嘴清扫装置具备：喷嘴抵接构件，具有能够与设置有喷出涂敷液的狭缝状的喷出口的喷嘴的顶端部抵接的凹部；开口调整部，从与喷出口的延伸方向交叉的方向对喷嘴抵接构件施加应力来调整凹部的开口形状；以及驱动部，使喷嘴抵接构件在延伸方向上相对地移动，在将由开口调整部调整了开口形状的凹部按压于顶端部的状态下，驱动部使喷嘴抵接构件相对于顶端部在延伸方向上移动来清扫顶端部。
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