喷出压力评价方法、喷出压力评价程序、记录介质及基板处理装置

    公开(公告)号:CN116337316A

    公开(公告)日:2023-06-27

    申请号:CN202211543974.5

    申请日:2022-12-01

    Abstract: 本发明提供一种喷出压力评价方法,能够在与喷出压力的适当与否相对应的合理时间内,进行为了从喷嘴喷出处理液而对处理液施加的喷出压力的评价。设置有通过互不相同的评价项目分别评价喷出压力的从第1个到第N个的N个评价阶段。但是,在基于第I个评价阶段所涉及的评价项目的评价中判断为喷出压力适当的情况下,执行基于第(I+1)个评价阶段所涉及的评价项目的喷出压力的评价,另一方面,在基于第I个评价阶段所涉及的评价项目的评价中判断为喷出压力不适当的情况下,不执行在第I个评价阶段之后的顺序的评价阶段的喷出压力的评价(即,被省略)。

    控制参数调整方法以及存储介质
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116643491A

    公开(公告)日:2023-08-25

    申请号:CN202211650928.5

    申请日:2022-12-21

    Abstract: 本发明提供即使在使基板相对于喷嘴移动的移动控制存在限制条件的情况下也能够高效地调整移动控制参数的控制参数调整方法。控制参数调整方法包括:喷出数据准备工序(S20),准备表示喷嘴(71)喷出的处理液的喷出量的时间变化的喷出数据;以及移动控制参数调整工序,在喷出数据准备工序后,对用于控制使基板(S)相对于喷嘴相对地移动的移动机构(5)的移动控制参数进行调整。移动控制参数调整工序包括:移动速度测量工序(S24),测量根据设定的移动控制参数控制所述移动机构时的移动速度;以及评价值导出工序(S28),使用喷出数据和施加了移动机构中的移动控制的限制条件的速度数据评价函数,导出移动速度测量工序中得到的速度数据的评价值。

    参数优化方法、记录介质和基板处理装置

    公开(公告)号:CN116504670A

    公开(公告)日:2023-07-28

    申请号:CN202310075763.1

    申请日:2023-01-16

    Abstract: 本发明的课题是提供一种能够在喷出处理液的装置中适当且有效地实施参数优化的技术。本发明的涂布装置(1)具备:喷出控制部(910),基于包括第一参数和第二参数的多个参数,控制来自喷嘴(71)的涂布液的喷出;喷出特性测量部(911),测量喷嘴(71)喷出涂布液时的喷出特性;第一优化部(915),基于喷出特性通过全局搜索优化第一参数;第二优化部(917),基于喷出特性通过局部搜索优化第二参数。第一参数包含将来自喷嘴(71)的涂布液的喷出速度提高到稳定喷出速度的上升期间所对应的参数V1~V4、T1~T9。第二参数包含喷出速度保持在稳定喷出速度的稳定喷出期间所对应的参数V5。

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