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公开(公告)号：CN109983043A
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201780071835.8
申请日：2017-11-29
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C08F220/18 , C08F230/08 , C08F212/14 , C08F220/38 , C08F220/22 , H01L21/027 , H01L21/311 , G03F1/00
Abstract: 本申请可以提供嵌段共聚物及其用途。本申请的嵌段共聚物可以具有优异的自组装特性或相分离特性和优异的蚀刻选择性，并且可以自由地赋予其所需的各种其他功能。
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公开(公告)号：CN107075053B
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201580059758.5
申请日：2015-09-30
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C08F297/00 , C08F299/00 , C08F212/08 , C08F220/10 , C08L53/00 , C08J5/18 , G03F7/00
CPC classification number: C08L53/005 , B05D1/005 , B05D3/007 , B81C1/00428 , B81C2201/0149 , B82Y40/00 , C01P2002/70 , C07B2200/00 , C08F2/14 , C08F32/06 , C08F212/08 , C08F216/12 , C08F220/10 , C08F220/26 , C08F220/30 , C08F293/00 , C08F293/005 , C08F297/00 , C08F299/00 , C08F299/024 , C08F2220/301 , C08F2438/03 , C08G61/08 , C08G61/12 , C08G2261/1424 , C08G2261/1426 , C08G2261/332 , C08G2261/3324 , C08G2261/40 , C08G2261/418 , C08J5/18 , C08J7/123 , C08J2353/00 , C08L53/00 , C08L53/02 , C09D153/00 , G03F7/00 , G03F7/0002 , G03F7/0046 , G03F7/039 , G03F7/091 , G03F7/16 , G03F7/162 , G03F7/165 , G03F7/2004 , G03F7/30 , H01L21/0273 , H01L21/31055 , H01L21/31056 , H01L21/31058 , C08F214/182 , C08F261/06
Abstract: 本申请提供了嵌段共聚物及其用途。本申请的嵌段共聚物表现出优异的自组装特性或相分离特性，可具备多种所需功能而无限制，并且特别是可确保蚀刻选择性，使得所述嵌段共聚物可有效地适用于如图案形成这样的用途。
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公开(公告)号：CN110024081B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN201780072438.2
申请日：2017-12-13
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: H01L21/027 , H10K71/00 , G03F7/00
Abstract: 本申请涉及用于制备图案化基底的方法。该方法可以应用于制造器件如电子器件和集成电路的过程；或应用于其他应用，例如集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、液晶显示器(LCD)、薄膜磁头或有机发光二极管等的制造；并且还可以用于在用于制造离散轨道介质(例如集成电路、比特图案化介质和/或磁存储装置如硬盘驱动器)的表面上构建图案。
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公开(公告)号：CN110023383B
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN201780072437.8
申请日：2017-11-29
Applicant: 株式会社LG化学
Abstract: 本申请涉及嵌段共聚物及其用途。本申请可以提供层合体以及使用其生产图案化基底的方法，所述层合体能够在基底上形成高度取向的嵌段共聚物，并因此可以有效地应用于生产各种图案化基底。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111094370B
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN201880059350.1
申请日：2018-09-17
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C08F220/30 , C08F212/14 , B32B27/28 , B32B27/08 , B29C71/02
Abstract: 本申请涉及用于制备图案化基底的方法。所述方法可以应用于制造诸如电子装置和集成电路的装置的过程，或者其他应用，例如集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、液晶显示器(LCD)、薄膜磁头或有机发光二极管等的制造，并且还可以用于诸如集成电路、比特图案化介质和/或磁存储装置如硬盘驱动器的离散轨道介质的制造用于在表面上构建图案。
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公开(公告)号：CN110869442A
公开(公告)日：2020-03-06
申请号：CN201880046248.8
申请日：2018-07-16
Applicant: 株式会社LG化学
Abstract: 本申请涉及中性层组合物。本申请可以提供能够形成可以有效地控制各种嵌段共聚物的取向特性的中性层的中性层组合物。
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公开(公告)号：CN110023385A
公开(公告)日：2019-07-16
申请号：CN201780074049.3
申请日：2017-11-29
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C08J5/22 , H01L21/027 , H01L21/311 , G03F1/00 , C08F220/18 , C08F220/22 , C08F297/02 , C08F220/44 , C08F220/38
Abstract: 本申请涉及用于生产聚合物膜的方法。本申请是能够在基底上有效地形成包含高度对准的嵌段共聚物而没有取向缺陷、配位数缺陷、距离缺陷等的聚合物膜的生产方法，其可以提供用于生产能够有效地应用于生产各种图案化基底的聚合物膜的方法和使用该聚合物膜生产图案化基底的方法。
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公开(公告)号：CN110023383A
公开(公告)日：2019-07-16
申请号：CN201780072437.8
申请日：2017-11-29
Applicant: 株式会社LG化学
Abstract: 本申请涉及嵌段共聚物及其用途。本申请可以提供层合体以及使用其生产图案化基底的方法，所述层合体能够在基底上形成高度取向的嵌段共聚物，并因此可以有效地应用于生产各种图案化基底。
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公开(公告)号：CN109983044A
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201780071982.5
申请日：2017-11-29
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C08F220/18 , C08F220/38 , C08F220/22 , C08F228/02 , H01L21/027 , H01L21/311 , G03F1/00
Abstract: 本申请涉及聚合物组合物及其用途。本申请可以提供具有优异的自组装特性并且即使在未进行中性处理的表面上也能够形成垂直取向结构的聚合物组合物及其用途，其中可以在短时间内有效地形成垂直取向的自组装结构。
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