公开(公告)号：CN1525251A

公开(公告)日：2004-09-01

申请号：CN200410006042.2

申请日：2004-02-25

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 屋木康彦 ,  薮慎太郎 ,  田端秀敏

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的课题是提供一种即使工件受环境的影响而伸缩也能确保曝光精度的曝光机构和曝光方法。一种使掩模的掩模标记与工件的校准标记校准后进行曝光的曝光机构，包括：通过摄像装置对上述工件W的校准标记Wm和配置在与该工件相对的位置上的基准掩模KM的基准标记Km进行拍摄以测定上述校准标记的位置的测定台3；根据用该测定台测得的上述校准标记的位置，分配并运送上述工件的运送台4；以及配备有对由该运送台运送的上述工件进行曝光的多个曝光部A、B、C的曝光台6，上述曝光部分别配备有相对上述基准掩模以规定的倍率预先形成的掩模。

公开(公告)号：CN3662895D

公开(公告)日：2007-06-27

申请号：CN200630144961.6

申请日：2006-09-06

Applicant: 株式会社ORC制作所

Designer： 安达伸雄 ,  屋木康彦 ,  石锅荣彦

公开(公告)号：CN3665624D

公开(公告)日：2007-07-04

申请号：CN200630144958.4

申请日：2006-09-06

Applicant: 株式会社ORC制作所

Designer： 安达伸雄 ,  屋木康彦 ,  石锅荣彦

公开(公告)号：CN3657188D

公开(公告)日：2007-06-13

申请号：CN200630144956.5

申请日：2006-09-06

Applicant: 株式会社ORC制作所

Designer： 安达伸雄 ,  屋木康彦 ,  石锅荣彦

公开(公告)号：CN3665622D

公开(公告)日：2007-07-04

申请号：CN200630144954.6

申请日：2006-09-06

Applicant: 株式会社ORC制作所

Designer： 安达伸雄 ,  屋木康彦 ,  石锅荣彦

公开(公告)号：CN3662894D

公开(公告)日：2007-06-27

申请号：CN200630144959.9

申请日：2006-09-06

Applicant: 株式会社ORC制作所

Designer： 安达伸雄 ,  屋木康彦 ,  石锅荣彦

公开(公告)号：CN3665623D

公开(公告)日：2007-07-04

申请号：CN200630144955.0

申请日：2006-09-06

Applicant: 株式会社ORC制作所

Designer： 安达伸雄 ,  屋木康彦 ,  石锅荣彦

公开(公告)号：CN3662893D

公开(公告)日：2007-06-27

申请号：CN200630144957.X

申请日：2006-09-06

Applicant: 株式会社ORC制作所

Designer： 安达伸雄 ,  屋木康彦 ,  石锅荣彦

公开(公告)号：CN3657189D

公开(公告)日：2007-06-13

申请号：CN200630144960.1

申请日：2006-09-06

Applicant: 株式会社ORC制作所

Designer： 安达伸雄 ,  屋木康彦 ,  石锅荣彦