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公开(公告)号：CN101025575A
公开(公告)日：2007-08-29
申请号：CN200710078862.6
申请日：2007-02-16
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 田端秀敏
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/00
Abstract: 本发明提供基板曝光装置与基板曝光方法。不需要推动基板的端面使之变形而给予负荷的方式的预定位机构，适用于大型且薄的基板的基板且可进行高精度曝光。基板曝光装置包括：曝光用光学系统(22)；曝光台(16)；晒相框(19)，其经由透光板支撑掩模；第一摄影装置(27)，其对调整标记M1、M2摄影；第二摄影装置(23)，其透过上述透光板，对上述基板的至少二边摄影；该第二摄影装置用的照明装置；控制装置(25)，其分析由上述第二摄影装置拍摄的图像，控制上述曝光台以对上述基板预定位，使得上述基板与上述掩模的各调整标记(24)进入上述第一摄影装置的视野内，并且分析由上述第一摄影装置所拍摄的图像，控制上述曝光台以调整上述基板的调整标记与上述掩模的调整标记。
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公开(公告)号：CN103168275A
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN201180049634.0
申请日：2011-11-04
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70208 , G03F7/203 , G03F7/70191 , G03F7/70291 , G03F7/7045 , G03F7/70541 , H05K1/0269 , H05K2201/09918 , H05K2201/09936
Abstract: 本发明提供能够一边适当地变更信息数据一边曝光电路图案的曝光装置。该曝光装置具备：第1光源(20)，其放射包含紫外线的第1光；投影曝光单元(70)，其使用第1光，将描绘于光掩膜上的电路图案曝光到基板上；基板工作台(60)，其载置基板；架台(11)，其配置基板工作台；与第1光源不同地配置的第2光源(41)，其放射包含紫外线的第2光；空间光调制单元(40)，其使用第2光，将以电子方式制作的信息数据曝光到基板上；以及空间光调制单元移动部(50)，其配置在壳体(11)上，使空间光调制单元在与基板工作台的移动方向平行的方向上移动。
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公开(公告)号：CN1525251A
公开(公告)日：2004-09-01
申请号：CN200410006042.2
申请日：2004-02-25
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 本发明的课题是提供一种即使工件受环境的影响而伸缩也能确保曝光精度的曝光机构和曝光方法。一种使掩模的掩模标记与工件的校准标记校准后进行曝光的曝光机构，包括：通过摄像装置对上述工件W的校准标记Wm和配置在与该工件相对的位置上的基准掩模KM的基准标记Km进行拍摄以测定上述校准标记的位置的测定台3；根据用该测定台测得的上述校准标记的位置，分配并运送上述工件的运送台4；以及配备有对由该运送台运送的上述工件进行曝光的多个曝光部A、B、C的曝光台6，上述曝光部分别配备有相对上述基准掩模以规定的倍率预先形成的掩模。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103168275B
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201180049634.0
申请日：2011-11-04
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70208 , G03F7/203 , G03F7/70191 , G03F7/70291 , G03F7/7045 , G03F7/70541 , H05K1/0269 , H05K2201/09918 , H05K2201/09936
Abstract: 本发明提供能够一边适当地变更信息数据一边曝光电路图案的曝光装置。该曝光装置具备：第1光源(20)，其放射包含紫外线的第1光；投影曝光单元(70)，其使用第1光，将描绘于光掩膜上的电路图案曝光到基板上；基板工作台(60)，其载置基板；架台(11)，其配置基板工作台；与第1光源不同地配置的第2光源(41)，其放射包含紫外线的第2光；空间光调制单元(40)，其使用第2光，将以电子方式制作的信息数据曝光到基板上；以及空间光调制单元移动部(50)，其配置在壳体(11)上，使空间光调制单元在与基板工作台的移动方向平行的方向上移动。
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公开(公告)号：CN100578363C
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200710078862.6
申请日：2007-02-16
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 田端秀敏
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/00
Abstract: 本发明提供基板曝光装置与基板曝光方法。不需要推动基板的端面使之变形而给予负荷的方式的预定位机构，适用于大型且薄的基板的基板且可进行高精度曝光。基板曝光装置包括：曝光用光学系统(22)；曝光台(16)；晒相框(19)，其经由透光板支撑掩模；第一摄影装置(27)，其对调整标记M1、M2摄影；第二摄影装置(23)，其透过上述透光板，对上述基板的至少二边摄影；该第二摄影装置用的照明装置；控制装置(25)，其分析由上述第二摄影装置拍摄的图像，控制上述曝光台以对上述基板预定位，使得上述基板与上述掩模的各调整标记(24)进入上述第一摄影装置的视野内，并且分析由上述第一摄影装置所拍摄的图像，控制上述曝光台以调整上述基板的调整标记与上述掩模的调整标记。
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公开(公告)号：CN100520590C
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200510075830.1
申请日：2005-05-27
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种曝光装置、曝光方法以及曝光处理程序，曝光装置包括：判断单元、存储单元以及曝光处理控制单元，判断单元根据利用摄影单元对分别形成于基板上和形成于具有在基板上形成的图案的掩模上的基板标记和掩模标记进行摄影后的上述两标记，判断上述基板是否可以曝光；存储单元将与判定为不可曝光的基板有关的信息，和被判定为不可曝光的区域的未曝光处理区域有关的信息作为错误信息进行存储；曝光处理控制装置在针对一连串的基板片数结束了上述调整处理及曝光处理后而再次投入存在上述未曝光处理区域的基板时，根据存储在存储单元中的错误信息，进行控制，使对未曝光处理区域实施调整处理及曝光处理。
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公开(公告)号：CN1278188C
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200410006042.2
申请日：2004-02-25
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 本发明的课题是提供一种即使工件受环境的影响而伸缩也能确保曝光精度的曝光机构和曝光方法。一种使掩模的掩模标记与工件的校准标记校准后进行曝光的曝光机构，包括：通过摄像装置对上述工件W的校准标记Wm和配置在与该工件相对的位置上的基准掩模KM的基准标记Km进行拍摄以测定上述校准标记的位置的测定台3；根据用该测定台测得的上述校准标记的位置，分配并运送上述工件的运送台4；以及配备有对由该运送台运送的上述工件进行曝光的多个曝光部A、B、C的曝光台6，上述曝光部分别配备有相对上述基准掩模以规定的倍率预先形成的掩模。
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公开(公告)号：CN1702557A
公开(公告)日：2005-11-30
申请号：CN200510075830.1
申请日：2005-05-27
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种曝光装置、曝光方法以及曝光处理程序，曝光装置包括：判断单元、存储单元以及曝光处理控制单元，判断单元根据利用摄影单元对分别形成于基板上和形成于具有在基板上形成的图案的掩模上的基板标记和掩模标记进行摄影后的上述两标记，判断上述基板是否可以曝光；存储单元将与判定为不可曝光的基板有关的信息，和被判定为不可曝光的区域的未曝光处理区域有关的信息作为错误信息进行存储；曝光处理控制装置在针对一连串的基板片数结束了上述调整处理及曝光处理后而再次投入存在上述未曝光处理区域的基板时，根据存储在存储单元中的错误信息，进行控制，使对未曝光处理区域实施调整处理及曝光处理。
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