灯以及光源装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101290859B

    公开(公告)日:2013-03-20

    申请号:CN200810091468.0

    申请日:2008-04-17

    Abstract: 本发明提供一种放电灯,其利用IC标签严密地管理放电灯的个别信息,使得能安全点亮。在封入高压气体的灯(1)的发光管(2)的中心轴上且在导电性灯头(4)的端部,隔着绝缘性帽(41)安装IC标签(40)。IC标签(40)上包覆遮蔽部(47),以防止点亮时损害IC标签(40)或噪声进入,但能向IC标签(40)读写信息。将灯(1)输送时受到异常冲击的履历、在异常温度下保管的履历或包装箱已开封的履历等输送信息记录到IC标签(40)中。光源装置参照写入IC标签(40)中的输送信息等判断可否点亮。能够在包括保管输送中或点亮中在内的从制造阶段起直到使用后的所有过程中对放电灯的个别信息进行管理,能始终安全地点亮。

    放电灯
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101303957A

    公开(公告)日:2008-11-12

    申请号:CN200810091516.6

    申请日:2008-04-15

    Abstract: 本发明提供一种放电灯,以实现减小放电灯的阳极的温度上升,减少内管壁的黑化,防止密封管破损,增长使用寿命。放电灯利用内部导棒将对置的一对圆柱状的电极(阴极和阳极)保持在发光部内。在与内部导棒连接的连接部周边的阳极的背面设置深度大于孔径的凹部。此外形成从阳极的侧面通向凹部的贯通孔。侧面侧开口部比凹部侧开口部靠近放电侧。当将阳极的圆柱高度设为L1、将凹部的深度设为L2时,满足(L1/3)<L2<(2L1/3)。当将阳极的外径设为D1、将凹部内的内部导棒的最大外径设为D2、将凹部的最大直径设为D3时,满足(0.7×(D1-D2))<D3<(1.1×(D1-D2))。

    灯用包装箱
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101289131A

    公开(公告)日:2008-10-22

    申请号:CN200810092506.4

    申请日:2008-04-18

    Abstract: 本发明提供一种灯用包装箱,用于通过IC标签管理放电灯的输送状态,使得能安全地点亮。灯用包装箱(10)中收容有具备IC标签(40)的放电灯(1)。灯用包装箱上设置有朝向IC标签凹入的凹部(13),使得能在装入放电灯的状态下从外部与IC标签通信。在IC标签中记录输送状态信息或开封履历信息。输送状态信息是放电灯输送中的温度履历信息或冲击履历信息,开封履历信息是将包装箱开封的履历信息或将放电灯的发光管罩(14)开封的履历信息。IC标签中记录放电灯在输送时受到异常冲击的履历、在异常温度下保管的履历、包装箱开封的履历等输送信息。利用光源装置参照写入到IC标签的输送信息等,判断可否点亮。能够在整个保管输送过程中管理放电灯的个别信息,始终安全地点亮。

    曝光机构和曝光方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1278188C

    公开(公告)日:2006-10-04

    申请号:CN200410006042.2

    申请日:2004-02-25

    Abstract: 本发明的课题是提供一种即使工件受环境的影响而伸缩也能确保曝光精度的曝光机构和曝光方法。一种使掩模的掩模标记与工件的校准标记校准后进行曝光的曝光机构,包括:通过摄像装置对上述工件W的校准标记Wm和配置在与该工件相对的位置上的基准掩模KM的基准标记Km进行拍摄以测定上述校准标记的位置的测定台3;根据用该测定台测得的上述校准标记的位置,分配并运送上述工件的运送台4;以及配备有对由该运送台运送的上述工件进行曝光的多个曝光部A、B、C的曝光台6,上述曝光部分别配备有相对上述基准掩模以规定的倍率预先形成的掩模。

    曝光装置的曝光方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1573569A

    公开(公告)日:2005-02-02

    申请号:CN200410048823.8

    申请日:2004-06-04

    Abstract: 本发明提供一种曝光装置的曝光方法,能够通过短的步骤精度良好地进行基板与掩模的校准,并迅速地对基板整体进行曝光。其对具有校准标记的基板以及具有掩模标记并设有规定图案的掩模进行校准,在掩模密合于基板的状态下进行曝光,包括:以掩模标记为基础,求出掩模的一半区域以及整体的对角线彼此交叉所得到的分配点MA、MB的步骤;以校准标记为基础,求出基板的一半区域以及整体的对角线彼此交叉所得到的分配点WA、WB的步骤;对分配点MB与分配点WB进行比较的比较步骤;通过比较步骤,判断分配点WB相对于分配点MB是否在容许范围内的判断步骤;以及在判断步骤判断在容许范围内时,将曝光光线照射于上述基板整体的步骤。

    光源装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101048027B

    公开(公告)日:2010-06-23

    申请号:CN200610148626.2

    申请日:2006-11-20

    Abstract: 本发明的课题是提供一种光源装置,该光源装置自动地判断安装在光源装置中的放电灯是否为适当的放电灯,如果是适当的放电灯,则管理放电灯的使用状态以及使用历史。作为解决手段,该光源装置具有:放电灯,其具有灯头(1)以及在该灯头(1)上显示与放电灯有关的灯数据的灯数据显示部(2),该灯头(1)由用圆板状的抵接面(12)封闭了一端面的大直径的圆筒状的基部(11)以及贯通圆板状的抵接面的中央而同轴状地植入设置的小直径的突出部(13)构成;以及灯头座(3),其保持该放电灯的灯头而进行通电,在灯头座(3)上设置了读取灯数据显示部(2)的数据的读取装置。

    曝光装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101470357A

    公开(公告)日:2009-07-01

    申请号:CN200810185297.8

    申请日:2008-12-25

    Abstract: 本发明提供一种不需要复杂的结构就能够一边使粘着辊与转印辊接触一边对掩模表面和载物台表面或者工件表面同时进行除尘的曝光装置。对于各曝光部(2、4)内的清洁单元(12),使粘着辊(57、57)突出并旋转自如地枢轴支承在分别与掩模(10)和载物台(8)对置的一侧。这两个粘着辊(57、57)的外周面和平行于该粘着辊地枢轴支承的大径转印辊(58)的外周面彼此接触。进而,Y-Z载物台(40)使粘着辊(57)与掩模(10)接触并对该掩模(10)的表面进行除尘,使粘着辊(57)与载物台(8)的上表面接触并对该载物台(8)的上表面进行除尘。另外,反转装置(9)使吸附基座(30)以旋转轴为中心进行旋转,吸附基座(30)越过水平方向停止在倾斜的位置,在利用清洁单元(13)对工件(W)的表面进行除尘之后,使所述吸附基座(30)朝向水平方向。

    灯以及光源装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101290859A

    公开(公告)日:2008-10-22

    申请号:CN200810091468.0

    申请日:2008-04-17

    Abstract: 本发明提供一种放电灯,其利用IC标签严密地管理放电灯的个别信息,使得能安全点亮。在封入高压气体的灯(1)的发光管(2)的中心轴上且在导电性灯头(4)的端部,隔着绝缘性帽(41)安装IC标签(40)。IC标签(40)上包覆遮蔽部(47),以防止点亮时损害IC标签(40)或噪声进入,但能向IC标签(40)读写信息。将灯(1)输送时受到异常冲击的履历、在异常温度下保管的履历或包装箱已开封的履历等输送信息记录到IC标签(40)中。光源装置参照写入IC标签(40)中的输送信息等判断可否点亮。能够在包括保管输送中或点亮中在内的从制造阶段起直到使用后的所有过程中对放电灯的个别信息进行管理,能始终安全地点亮。

    长形灯容器
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101047108A

    公开(公告)日:2007-10-03

    申请号:CN200710079177.5

    申请日:2007-02-15

    Inventor: 屋木康彦

    Abstract: 本发明提供一种长形灯容器。在长形的玻璃制准分子灯中,防止了灯的破损和照度降低。在该长形灯容器中,将长形的玻璃制圆筒形内管(1)和玻璃制圆筒形外管(2)呈同轴状地固定,并设置用于保持内管(1)使其不弯曲的保持材料(3)。保持材料(3)是与外管(2)材质相同的玻璃棒。当外管(2)的内径是d1、内管(1)的外径是d2时,保持材料(3)的长度大致是(d12-d22)1/2。保持材料在与轴正交的方向上固装在内管的外周圆筒面上。这样,即使是长形灯容器的准分子灯,内管也不会弯曲,能够确保本来的放电间隙。能够避免因灯的破损或破裂引起的不亮灯,也不会发生灯整体的照度的不均匀,能够确保长时间稳定的亮灯。

    曝光装置的曝光方法
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1284049C

    公开(公告)日:2006-11-08

    申请号:CN200410048823.8

    申请日:2004-06-04

    Abstract: 本发明提供一种曝光装置的曝光方法,能够通过短的步骤精度良好地进行基板与掩模的校准,并迅速地对基板整体进行曝光。其对具有校准标记的基板以及具有掩模标记并设有规定图案的掩模进行校准,在掩模密合于基板的状态下进行曝光,包括:以掩模标记为基础,求出掩模的一半区域以及整体的对角线彼此交叉所得到的分配点MA、MB的步骤;以校准标记为基础,求出基板的一半区域以及整体的对角线彼此交叉所得到的分配点WA、WB的步骤;对分配点MB与分配点WB进行比较的比较步骤;通过比较步骤,判断分配点WB相对于分配点MB是否在容许范围内的判断步骤;以及在判断步骤判断在容许范围内时,将曝光光线照射于上述基板整体的步骤。

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