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公开(公告)号：CN117701167A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202311710417.2
申请日：2016-10-11
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/25 , C09J7/40 , C09J7/30 , C09J133/08 , C09J11/06 , C09D183/04 , C09D5/24 , C09D7/63 , C09D7/65
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘物污染少、对被粘物的低污染性不会经时变化、具有不经时劣化的优异抗剥离静电性能的表面保护膜及使用其的光学部件。表面保护膜(10)，通过在粘着剂层(2)贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)而成，剥离膜(5)通过在树脂膜(3)一个面上层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)含以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、抗静电助剂，抗静电剂成分为熔点小于30℃的离子性化合物，抗静电助剂为聚醚改性硅酮，抗静电剂成分与抗静电助剂从剥离膜(5)的剥离剂层(4)转印到粘着剂层(2)表面，降低将粘着剂层(2)从被粘物剥离时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN107083198B
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN201610888772.2
申请日：2016-10-11
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/25 , C09J7/30 , C09J133/08
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘物的污染少、对被粘物的低污染性不会经时变化、具有不会经时劣化的优异抗剥离静电性能的表面保护膜及使用其的光学部件。表面保护膜(10)，通过在粘着剂层(2)上贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)而成，剥离膜(5)通过在树脂膜(3)的一面上层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)含有以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、含至少一个以上醚键的酯类增塑剂，抗静电剂成分为熔点30～80℃的离子性化合物，抗静电剂成分与酯类增塑剂从剥离膜(5)的剥离剂层(4)转印到粘着剂层(2)表面，降低将粘着剂层(2)从被粘物剥离时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN106010323B
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN201610076854.7
申请日：2016-02-03
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种抗静电表面保护膜及贴合有该保护膜的光学部件，所述保护膜即使在裁切时也难以出现因粘结剂而导致的异物(胶团)，即使对于作为被粘物的表面具有凹凸的光学用膜仍亲和性(湿润性)良好，且对被粘物的污染少，对被粘物的低污染性即使经过长时间也不变，不会经时劣化，具有优异的剥离抗静电性能。所述抗静电表面保护膜(10)，其在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的一个面上，依次层积有不含抗静电剂的聚氨酯类粘结剂层(2)、抗静电剂层(3)、经剥离处理的剥离膜(4)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106189894B
公开(公告)日：2020-03-03
申请号：CN201510396987.8
申请日：2015-07-08
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘附体的污染少、且对被粘附体的低污染性无经时变化，并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜和使用了该表面保护膜的光学部件。表面保护膜(10)在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，该剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)包含以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂和由不与该剥离剂发生反应的离子性化合物构成的抗静电剂，抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，减少将粘结剂层(2)从被粘附体剥离时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN107083196A
公开(公告)日：2017-08-22
申请号：CN201610886204.9
申请日：2016-10-11
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08 , C09D183/04 , C09D5/20 , C09D5/24 , C09D7/12 , C08J7/04 , G02B1/14 , C08L67/02
CPC classification number: C08J7/047 , C08L2201/04 , C08L2203/16 , C08L2205/02 , C09D5/20 , C09D5/24 , C09D7/65 , C09D183/04 , C09J7/201 , C09J7/22 , C09J133/08 , C09J2201/122 , C09J2433/00 , C09J2467/005 , C09J2467/006 , C09J2483/005 , G02B1/14 , C08L83/12 , C08K5/435
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘物污染少、对被粘物的低污染性不会经时变化、具有不经时劣化的优异抗剥离静电性能的表面保护膜及使用其的光学部件。表面保护膜(10)，通过在粘着剂层(2)贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)而成，剥离膜(5)通过在树脂膜(3)一个面上层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)含以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、抗静电助剂，抗静电剂成分为熔点小于30℃的离子性化合物，抗静电助剂为聚醚改性硅酮，抗静电剂成分与抗静电助剂从剥离膜(5)的剥离剂层(4)转印到粘着剂层(2)表面，降低将粘着剂层(2)从被粘物剥离时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN106010325A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610090004.2
申请日：2016-02-17
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J183/04 , C09J11/08 , C09J9/02 , G02B1/14
CPC classification number: C09J7/201 , C09J7/22 , C09J7/38 , C09J9/02 , C09J11/08 , C09J183/04 , C09J2201/602 , C09J2203/318 , C09J2483/00 , C08L83/04
Abstract: 本发明提供一种在裁切成规定尺寸时难以产生因粘结剂层导致的异物、对表面具有凹凸的光学用膜的亲和性良好、且对被粘物污染少、不会经时劣化、具有优异剥离抗静电性能的表面保护膜，及贴合有该表面保护膜的光学部件。一种在透明基材(1)的至少一个面上、具有由含聚醚改性有机硅的有机硅粘结剂组合物构成的粘结剂层(2)，且具有抗静电剂层(4)的贴合用膜(5)经由抗静电剂层贴合在粘结剂层上的表面保护膜(10)，贴合用膜是在树脂膜(3)的一个面上层积含有粘合剂树脂、不与该粘合剂树脂反应的抗静电剂的抗静电剂层(4)而成，抗静电剂层的成分从贴合用膜转印至粘结剂层的表面，将粘结剂层从被粘物上剥离时的剥离静电压降低。
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公开(公告)号：CN106010324A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610089997.1
申请日：2016-02-17
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08 , C09J9/02 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件，该表面保护膜可对表面具有凹凸的光学用膜使用，对被粘物的污染少，且对被粘物的低污染性不发生经时变化，不会经时劣化地具有优异的剥离抗静电性能。所述表面保护膜(10)在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的一个面上，形成粘结剂层(2)，该粘结剂层(2)含有作为抗静电剂的离子化合物，在粘结剂层(2)上贴合有具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，所述剥离剂层(4)由碱金属盐及有机硅类剥离剂构成，碱金属盐成分从所述剥离膜转印至所述粘结剂层的表面，从被粘物上剥离所述粘结剂层时的剥离静电压降低。
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公开(公告)号：CN105385370A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201510397287.0
申请日：2015-07-08
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/04 , G02B1/10
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘附体的污染少且对被粘附体的低污染性无经时变化的表面保护膜，并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。该表面保护膜在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，其中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)包含以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂和不与该剥离剂发生反应的抗静电剂，抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，减少将粘结剂层(2)从被粘附体剥离时的剥离静电压。
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