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公开(公告)号：CN106675427B
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN201610555189.X
申请日：2016-07-14
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/25 , C09J133/08 , C09J11/06 , C08J7/04 , C09D5/20
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件，所述表面保护膜即使对表面具有凹凸的光学用膜也能够贴合，对被粘物的污染少，且对被粘物的低污染性不发生经时变化，不会经时劣化地具有优异的抗剥离静电性能。该表面保护膜(5)在由具有透明性树脂构成的基材膜(1)的单面上，设有含有由碱金属盐构成的抗静电剂(3)和剥离剂的剥离剂层(2)，在基材膜(1)的另一面上，设有粘着剂层(4)，由碱金属盐构成的抗静电剂(3)的成分仅存在于粘着剂层(4)的表面。
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公开(公告)号：CN106010322B
公开(公告)日：2021-05-18
申请号：CN201610076790.0
申请日：2016-02-03
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/20 , C09J133/08
Abstract: 本发明提供一种抗静电表面保护膜，其对被粘物的污染少，且不会经时劣化地具有优异的剥离抗静电性能。所述抗静电表面保护膜(10)的特征在于，在由具有透明性的树脂形成的基材膜(1)的一个面上，依次层叠有不含抗静电剂的粘结剂层(2)、抗静电剂层(3)、经剥离处理的剥离膜(4)。
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公开(公告)号：CN106010325B
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN201610090004.2
申请日：2016-02-17
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/30 , C09J183/04 , C09J11/08 , C09J9/02 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种在裁切成规定尺寸时难以产生因粘结剂层导致的异物、对表面具有凹凸的光学用膜的亲和性良好、且对被粘物污染少、不会经时劣化、具有优异剥离抗静电性能的表面保护膜，及贴合有该表面保护膜的光学部件。一种在透明基材(1)的至少一个面上、具有由含聚醚改性有机硅的有机硅粘结剂组合物构成的粘结剂层(2)，且具有抗静电剂层(4)的贴合用膜(5)经由抗静电剂层贴合在粘结剂层上的表面保护膜(10)，贴合用膜是在树脂膜(3)的一个面上层积含有粘合剂树脂、不与该粘合剂树脂反应的抗静电剂的抗静电剂层(4)而成，抗静电剂层的成分从贴合用膜转印至粘结剂层的表面，将粘结剂层从被粘物上剥离时的剥离静电压降低。
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公开(公告)号：CN106189893B
公开(公告)日：2020-06-23
申请号：CN201510349780.5
申请日：2015-06-23
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/20 , C09J7/30 , C09J133/08 , C09J11/06
Abstract: 本发明提供一种透明导电性膜用表面保护膜及使用该表面保护膜的透明导电性膜，该透明导电性膜用表面保护膜的粘接剂层维持表面的平滑性，即使贴合到透明导电性膜上也具有优异处理性，在透明导电性膜的制造、加工工艺中，起因于表面保护膜的外观缺陷不良得到改善，且在触控面板用透明电极制造工艺中生产率良好。一种透明导电性膜用表面保护膜5，其贴合到在一表面上形成有透明导电膜的树脂膜的另一表面上来使用，层叠在基材膜1单面上的粘接剂层2使用含有丙烯酸类树脂组合物、交联剂和交联催化剂的粘接剂而成，在40℃下老化5天后的粘接剂层30℃下的储能模量a为4.0×105Pa以上，干燥开始15分钟后的粘接剂层30℃下的储能模量b与a满足关系0.9≤a/b≤1.3。
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公开(公告)号：CN105385370B
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN201510397287.0
申请日：2015-07-08
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘附体的污染少且对被粘附体的低污染性无经时变化的表面保护膜，并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。该表面保护膜在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，其中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)包含以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂和不与该剥离剂发生反应的抗静电剂，抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，减少将粘结剂层(2)从被粘附体剥离时的剥离静电压。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107225831A
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201710062191.8
申请日：2017-01-25
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: B32B27/36 , B32B27/06 , B32B33/00 , B32B3/08 , B32B7/06 , C09D183/04 , C09D7/12 , C08J7/04 , C08L67/02
Abstract: 本发明提供一种剥离性优异的脱模膜，其剥离力小，在贴合于粘着剂层的状态下，剥离力也难以经时增大，向粘着剂层的硅酮成分的转移少，因此贴合的粘着剂层的粘着力不降低，且在脱模膜的使用时、及将脱模膜从被粘物上剥离时的带电量少。该脱模膜(5)具有该脱模剂层在基材膜(1)的至少一个面上依次层叠有含有抗静电剂且不含有微粒的第一脱模剂层(2)、含有微粒(3)的第二脱模剂层(4)的两层结构的脱模剂层，其特征在于，所述第一脱模剂层(2)与所述第二脱模剂层(4)的总厚度为0.4～2.0μm，从所述第二脱模剂层(4)的表面到微粒(3)的顶点的突出高度为所述总厚度以上，且两个脱模剂层(2)、(4)包含硅酮类脱模剂。
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公开(公告)号：CN106553395A
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201610602186.7
申请日：2016-07-27
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种剥离性优异的离型膜，其剥离力小，在贴合于粘着剂层上的状态下即使经过长时间剥离力也不易变大，且由于向粘着剂层转移的硅酮成分少，不降低贴合的粘着剂层的粘合力。所述离型膜的特征在于，其为在基材膜(1)的至少一个面上，顺次层叠不含微粒的第一离型剂层(2)、含有作为微粒(3)的无机微粒及/或聚合物微粒的第二离型剂层(4)而成的离型膜(5)，第一离型剂层(2)的厚度和第二离型剂层(4)的厚度相加的总厚度为0.4～2.0μm，从第二离型剂层(4)的表面上突出的微颗粒(3)的到达顶点的平均突出高度在所述总厚度以上，且第二离型剂层(4)含有硅酮类离型剂。
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公开(公告)号：CN104371581B
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201410312033.X
申请日：2014-07-02
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也能够使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，所述剥离剂层(4)含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂，通过所述抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，能减少从被粘附体剥下前述粘结剂层(2)时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN106189893A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201510349780.5
申请日：2015-06-23
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08 , C09J11/06
Abstract: 本发明提供一种透明导电性膜用表面保护膜及使用该表面保护膜的透明导电性膜，该透明导电性膜用表面保护膜的粘接剂层维持表面的平滑性，即使贴合到透明导电性膜上也具有优异处理性，在透明导电性膜的制造、加工工艺中，起因于表面保护膜的外观缺陷不良得到改善，且在触控面板用透明电极制造工艺中生产率良好。一种透明导电性膜用表面保护膜5，其贴合到在一表面上形成有透明导电膜的树脂膜的另一表面上来使用，层叠在基材膜1单面上的粘接剂层2使用含有丙烯酸类树脂组合物、交联剂和交联催化剂的粘接剂而成，在40℃下老化5天后的粘接剂层30℃下的储能模量a为4.0×105Pa以上，干燥开始15分钟后的粘接剂层30℃下的储能模量b与a满足关系0.9≤a/b≤1.3。
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公开(公告)号：CN106010323A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610076854.7
申请日：2016-02-03
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种抗静电表面保护膜及贴合有该保护膜的光学部件，所述保护膜即使在裁切时也难以出现因粘结剂而导致的异物(胶团)，即使对于作为被粘物的表面具有凹凸的光学用膜仍亲和性(湿润性)良好，且对被粘物的污染少，对被粘物的低污染性即使经过长时间也不变，不会经时劣化，具有优异的剥离抗静电性能。所述抗静电表面保护膜(10)，其在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的一个面上，依次层积有不含抗静电剂的聚氨酯类粘结剂层(2)、抗静电剂层(3)、经剥离处理的剥离膜(4)。
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