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公开(公告)号：CN116893456A
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202310317215.5
申请日：2023-03-27
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供不易引起表面固有电阻率上升并且容易进行外观检查的表面保护膜和光学部件。表面保护膜(10)具备：基材膜(1)，其由具有透明性的树脂构成；防静电层(2)，其形成于基材膜(1)的一个面；以及粘合剂层(3)，其形成于基材膜(1)的与防静电层(2)相反的一侧的面。防静电层(2)包含纳米碳。防静电层(2)的厚度为0.05μm以上且1.50μm以下。表面保护膜(10)的雾度值为4.0％以下。表面保护膜(10)的全光线透过率为80.0％以上。
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公开(公告)号：CN106520001B
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：CN201610557075.9
申请日：2016-07-14
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/25 , C09J7/40 , C09J7/30 , C09J133/08 , C09J11/06 , C09D5/20 , C08J7/04 , C09D183/04 , C09D7/63 , C08L67/02
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜及使用了该保护膜的光学部件，其中，该表面保护膜即使对于表面具有凹凸的光学用膜也可进行贴合，对被粘物的污染少，且在对被粘物的低污染性不会经时变化，具有不会经时劣化的优异的抗剥离静电性能。一种表面保护膜10，其是在由具有透明性的树脂所构成的基材膜1的一个面上形成粘着剂层2，并在粘着剂层2上，经由剥离剂层4贴合了在树脂膜3的一个面上形成剥离剂层4的剥离膜5而成，剥离剂层4含有碱金属盐、含有至少一个以上醚键的酯类增塑剂、硅酮类剥离剂，剥离剂层4中所含的所述碱金属盐成分只存在于粘着剂层2的表面上。
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公开(公告)号：CN107083198A
公开(公告)日：2017-08-22
申请号：CN201610888772.2
申请日：2016-10-11
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08 , C09D183/04 , C09D5/24 , C09D7/12 , G02B5/30
CPC classification number: C09J133/08 , C08K5/06 , C08K5/3432 , C09D5/24 , C09D7/63 , C09D183/04 , C09J7/401 , C09J2203/318 , C09J2433/00 , C09J2467/005 , C09J2467/006 , G02B5/30
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘物的污染少、对被粘物的低污染性不会经时变化、具有不会经时劣化的优异抗剥离静电性能的表面保护膜及使用其的光学部件。表面保护膜(10)，通过在粘着剂层(2)上贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)而成，剥离膜(5)通过在树脂膜(3)的一面上层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)含有以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、含至少一个以上醚键的酯类增塑剂，抗静电剂成分为熔点30～80℃的离子性化合物，抗静电剂成分与酯类增塑剂从剥离膜(5)的剥离剂层(4)转印到粘着剂层(2)表面，降低将粘着剂层(2)从被粘物剥离时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN107083197A
公开(公告)日：2017-08-22
申请号：CN201610886407.8
申请日：2016-10-11
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08 , G02B1/14
CPC classification number: C09J7/401 , C09J133/08 , C09J2201/122 , C09J2201/60 , C09J2203/318 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘物污染少、对被粘物的低污染性不经时变化、具有不经时劣化的优异抗剥离静电性能的表面保护膜及使用其的光学部件。表面保护膜(10)，其通过在粘着剂层(2)上贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)而成，剥离膜(5)通过在树脂膜(3)的一个面上层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)含有以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、含至少一个以上醚键的酯类增塑剂，抗静电剂成分为熔点小于30℃的离子性化合物，抗静电剂成分与酯类增塑剂从剥离膜(5)的剥离剂层(4)转印到粘着剂层(2)的表面，降低将粘着剂层(2)从被粘物上剥离时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN104419338B
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201410312177.5
申请日：2014-07-02
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种对表面有凹凸的光学用膜也可使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用其的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂的剥离剂层(4)而成，抗静电剂成分是熔点小于30℃的离子性化合物，通过抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，能减少从被粘附体剥下粘结剂层(2)时的剥离静电压。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103421436B
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201310181273.6
申请日：2013-05-16
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08
Abstract: 本发明提供一种对被粘附体的污染少、不会经时劣化且具有优异的防剥离静电性能的表面保护膜、以及使用该表面保护膜的光学部件。在透明基材膜（1）的单面形成有粘结剂层（2），在该粘结剂层（2）上贴合有剥离膜（5）的表面保护膜（10）中，粘结剂层（2）含有防静电剂，剥离膜（5）是在树脂膜（3）的单面层叠剥离剂层（4）而成，所述剥离剂层（4）包含以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂和20℃温度下是液体的有机硅类化合物（7）。粘结剂层（2）由与含有聚氧化烯基的化合物共聚合的（甲基）丙烯酸类聚合物形成、或者由混合了含有聚氧化烯基的化合物的（甲基）丙烯酸类聚合物形成。
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公开(公告)号：CN104962209A
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201510230694.2
申请日：2013-05-16
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J151/08
Abstract: 本发明提供用于形成对被粘附体的污染少的粘结膜的粘结膜用剥离膜，进而，提供用于形成具有优异的防剥离静电性能的粘结膜的粘结膜用剥离膜、以及使用该粘结膜用剥离膜的粘结膜。本发明的粘结膜用剥离膜(5)能够保护至少在基材膜(1)的单面层叠有粘结剂层(2)的粘结膜的该粘结剂层(2)，并且能够剥离，其中，至少在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，并通过该剥离剂层(4)贴合在粘结剂层(2)的表面上，上述剥离剂层(4)含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂和20℃温度下是液体的硅类化合物。
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公开(公告)号：CN104419338A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201410312177.5
申请日：2014-07-02
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种对表面有凹凸的光学用膜也可使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用其的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂的剥离剂层(4)而成，抗静电剂成分是熔点小于30℃的离子性化合物，通过抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，能减少从被粘附体剥下粘结剂层(2)时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN106675427B
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN201610555189.X
申请日：2016-07-14
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/25 , C09J133/08 , C09J11/06 , C08J7/04 , C09D5/20
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件，所述表面保护膜即使对表面具有凹凸的光学用膜也能够贴合，对被粘物的污染少，且对被粘物的低污染性不发生经时变化，不会经时劣化地具有优异的抗剥离静电性能。该表面保护膜(5)在由具有透明性树脂构成的基材膜(1)的单面上，设有含有由碱金属盐构成的抗静电剂(3)和剥离剂的剥离剂层(2)，在基材膜(1)的另一面上，设有粘着剂层(4)，由碱金属盐构成的抗静电剂(3)的成分仅存在于粘着剂层(4)的表面。
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