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公开(公告)号:KR1020030094758A
公开(公告)日:2003-12-18
申请号:KR1020020032041
申请日:2002-06-07
Applicant: 강원대학교산학협력단 , 백홍구
IPC: H01M10/05
CPC classification number: H01M10/0562 , H01M10/052 , H01M2300/0071
Abstract: PURPOSE: A solid electrolyte, its preparation method and a thin film battery and a microsensor containing the electrolyte are provided, to improve the stability of the solid electrolyte at an electrode and an interface by a high lithium ion conductivity, a low electron conductivity and a structurally stable network structure. CONSTITUTION: The solid electrolyte comprises six elements comprising Li, X, Y, Z, O and N, wherein X, Y and Z are selected from the group consisting of P, B, Si, Al, Ge and As, respectively. The method comprises the steps of forming a target capable of providing Li, X, Y, Z and O; and sputtering it under pure N2 or the atmosphere containing N2 to form a thin film comprising six elements comprising Li, X, Y, Z, O and N. Preferably the target is the one placing a mosaic target of Y or a Y-containing compound or Z or a Z-containing compound on a target of a compound comprising Li, X and O, or a composite target comprising Li, X, Y, Z and O.
Abstract translation: 目的:提供固体电解质及其制备方法和薄膜电池以及含有电解质的微传感器,以提高固体电解质在电极和界面处的稳定性,通过高的锂离子传导性,低电子传导性和 结构稳定的网络结构。 构成:固体电解质包含六种元素,其包含Li,X,Y,Z,O和N,其中X,Y和Z分别选自P,B,Si,Al,Ge和As。 该方法包括形成能够提供Li,X,Y,Z和O的靶的步骤; 并在纯N 2或含有N 2的气氛下溅射以形成包含Li,X,Y,Z,O和N的六种元素的薄膜。优选地,靶是放置Y或含Y化合物的马赛克靶 或Z或含Z的化合物在包含Li,X和O的化合物或包含Li,X,Y,Z和O的复合靶上。
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公开(公告)号:KR1020030065765A
公开(公告)日:2003-08-09
申请号:KR1020020005532
申请日:2002-01-31
IPC: H05K3/00
CPC classification number: H05K3/0055 , H05K2203/095
Abstract: PURPOSE: An apparatus for cleaning via holes of printed circuit board(PCB) by using an atmospheric pressure plasma is provided to improve the anisotropic etching characteristics of a micro via hole by using the micro hollow cathode plasma characteristics. CONSTITUTION: A micro hollow-type cathode(10) is provided with multi-spraying fine holes(11) that are continuously placed on a flat plate. An atmospheric gas supplying unit(20) flows an atmospheric gas into a space between the cathode(10) and an anode(30) through a micro hollow of the cathode(10). The anode(30) is separately arranged on the cathode(10) in parallel at regular intervals. An RF(Radio Frequency) power supplying unit(40) supplies a high frequency power between the cathode(10) and the anode(30). In a punching process, a PCB is passed through a plasma forming space between the cathode(10) and the anode(30).
Abstract translation: 目的:提供一种用于通过使用大气压等离子体清洁印刷电路板(PCB)的通孔的装置,以通过使用微空心阴极等离子体特性来改善微通孔的各向异性蚀刻特性。 构成:微型中空型阴极(10)设置有连续放置在平板上的多个喷涂细孔(11)。 气氛气体供给单元(20)通过阴极(10)的微型空腔将气氛气体流入阴极(10)和阳极(30)之间的空间。 阳极(30)以规则的间隔分开设置在阴极(10)上。 RF(射频)供电单元(40)在阴极(10)和阳极(30)之间提供高频电力。 在冲压工艺中,PCB穿过阴极(10)和阳极(30)之间的等离子体形成空间。
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公开(公告)号:KR100373746B1
公开(公告)日:2003-02-26
申请号:KR1020000028975
申请日:2000-05-29
IPC: H01M4/04
Abstract: 본 발명은 리튬 이차전지용 음극 제조방법에 관한 것으로, 리튬의 삽입/탈리가 가능한 주석에 리튬과 반응하지 않는 금속을 스퍼터링하여 박막 음극을 열처리 없이 제조하므로, 리튬의 삽입과 탈리 과정에서 주석의 응집과 부피변화로 인해 발생하는 사이클 특성의 문제와 고체 전해질인 리폰의 결정화 문제를 해결한다.
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公开(公告)号:KR1020010113306A
公开(公告)日:2001-12-28
申请号:KR1020000033594
申请日:2000-06-19
Applicant: 한화나노텍 주식회사 , 백홍구
CPC classification number: C01B32/16
Abstract: 회전 전극 아크방전 장치 및 이를 이용한 탄소 나노튜브 합성 방법을 제공한다. 본 발명의 회전 전극 아크방전 장치는 진공 용기 내에 위치하고 외부와 절연체에 의하여 절연된 챔버와, 상기 챔버의 상부 좌측에 저온 액체, 예컨대 액체 질소, 액체 헬륨, 또는 극저온 상태의 물을 주입할 수 있는 저온 액체 주입구와, 상기 챔버의 중앙에 음극과 회전하는 양극을 구비하여 아크를 발생시킬 수 있는 아크 발생 장치를 끼울수 있는 개폐구와, 상기 챔버의 바닥에 저온 액체나 상기 아크 발생 장치를 이용하여 합성된 탄소 나노튜브를 배출할 수 있는 배출구를 포함한다. 본 발명의 회전 전극 아크방전 장치는 상기 아크 발생 장치를 이용하여 음극 표면에만 탄소 나노튜브가 합성되지 않고 플라즈마로 인하여 발생하는 열을 저온 액체를 이용하여 효율적으로 냉각시킬 수 있어 음극 면적에 제한없이 탄소 나노튜브를 연속적으로 대량 제조할 수 있다.
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公开(公告)号:KR100292620B1
公开(公告)日:2001-09-17
申请号:KR1019980023074
申请日:1998-06-19
IPC: A61K6/00
Abstract: 본 발명은 Ti 금속 및 그 합금으로 구성된 임플란트의 표면처리방법에 관한 것으로, 임플란트의 표면을 숏 블라스트(Shot Blast) 처리로 개질하여 표면이 균일한 거칠기를 가지도록 한 다음 열산화(Thermal Oxidation)하여 밀착력이 우수한 금속 산화물 피막을 형성시키는 것을 특징으로 하는 본 발명의 임플란트의 표면처리 방법은, 임플란트 모재 위에 임의로 피막을 코팅하는 방법과 달리 모재를 직접 열산화하여 산화피막을 형성시킴으로써 산화피막과 모재와의 밀착력이 우수하여 매우 안정된 임플란트를 제조할 수 있으며, 그 공정이 간단하고 비용이 적게 소요되는 생산성이 우수한 방법이다.
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公开(公告)号:KR100210190B1
公开(公告)日:1999-07-15
申请号:KR1019960043658
申请日:1996-10-02
IPC: H01M4/02
Abstract: 본 발명은 리튬화합물 분말과 코발트화합물 분말 또는 리튬화합물 분말과 망간화합물 분말을 혼합하는 단계, 상기 혼합물을 스테인레스 강 볼 또는 텅스텐 카바이드 볼을 사용하고 그 분위기가 산소 분위기인 볼 밀내로 도입하여 기계적 합금화를 수행하는 단계, 후속 열처리하는 단계로 이루어지는 리튬 이차 전지용 양극 재료의 제조방법을 제공한다.
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公开(公告)号:KR1019920004587A
公开(公告)日:1992-03-27
申请号:KR1019900012546
申请日:1990-08-14
Applicant: 동아알루미늄 주식회사 , 백홍구
Inventor: 백홍구
IPC: C22B21/06
Abstract: 내용 없음
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公开(公告)号:KR100533934B1
公开(公告)日:2005-12-06
申请号:KR1020020032042
申请日:2002-06-07
Applicant: 강원대학교산학협력단 , 백홍구
IPC: H01M10/05
CPC classification number: H01M10/0562 , H01M10/052 , H01M10/4235 , H01M2300/0071
Abstract: 본 발명은 리튬 이차 전지용 고체 전해질 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 본 발명의 리튬 이차 전지용 고체 전해질은 Li, B, X, O, 및 N(여기서, B에 대한 X의 몰비(X/B)가 1이하이고 X는 P, Si, Al, Ge 및 As로 이루어진 군에서 선택됨)의 5개의 원자를 함유하는 5원계 박막 전지용 전해질이다. 여기서 B와 X는 네트워크의 골격을 형성하는 물질이고, N은 네트워크의 골격을 개질시켜 그물 구조를 형성하는 물질이다.
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公开(公告)号:KR100519679B1
公开(公告)日:2005-10-10
申请号:KR1020030010881
申请日:2003-02-21
Applicant: 백홍구
IPC: H05B33/04
Abstract: 본 발명의 하이브리드 장벽(hybrid barrier)을 갖는 유기EL소자는, 산소나 수분의 소자내 침투를 방지하기 위해 종래의 일반적인 유기EL소자에 있어서 친수성이 높았던 층(layer) 특히 음극층(cathode layer)을, 플라즈마 처리(plasma treatment)나 이온빔조력증착(IBAD;Ion-Beam Assist Deposition)으로 처리하면서 증착시켜 유기EL소자를 완성함으로써 산소나 습기의 침입을 근본적으로 방지한 유기EL소자(OELD)에 관한 것이다.
본 발명에 따른 제1형의 유기EL소자는, (1) 기판과, (2) 외부의 양전위에 연결되고 상기 기판 상부에 증착되는 양전극층과, (3) 양전극층의 상부 방향에 증착되고 상기 유기EL소자에 형성된 양전극층 및 음전극층으로부터 주입된 전자 및 정공에 의해 발광되는 발광층과, (4) 상기 발광층의 상부 방향에 형성되어 음전위가 인가되며, 형성과정의 마지막 단계에서 소수성(hydrophobic) 물질조성가스를 이용하여 플라즈마처리(plasma treatment)를 실시함으로써 자체 증착 주재료물질과의 결합적 물질조성에 의해 수분이나 산소의 침투를 차단하는 복합적 물질조성부분(hybrid barrier)을 형성하고 있는 복합음전극층을 포함하며,
제2형의 유기EL소자는, (1) 기판과, (2) 외부의 양전위에 연결되고 상기 기판 상부에 증착되는 양전극층과, (3) 양전극층의 상부 방향에 증착되고 상기 유기EL소자에 형성된 양전극층 및 음전극층으로부터 주입된 전자 및 정공에 의해 발광되는 발광층과, (4) 상기 발광층의 상부 방향에 형성되어 음전위가 인가되며, 형성과정의 마지막 단계에서 소수성(hydrophobic) 물질조성가스를 이용하여 이온빔어시스트증착(IBAD; Ion Beam Assist Deposition)을 실시함으로써 자체 증착 주재료물질과의 결합적 물질조성에 의해 수분이나 산소의 침투를 차단하는 복합적 물질조성부분(hybrid barrier)을 형성하고 있는 복합음전극층을 포함한다.
따라서 본 발명은 종래 유기EL소자에서 문제시되었던 산소나 수분의 확산 및 침투를 방지함으로써 보다 효율적으로 유기EL소자가 동작할 수 있도록 하여 유기EL소자의 기술수준의 차원을 높여 차세대 디스플레이 산업의 발전에 기여할 것으로 예상된다.
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