公开(公告)号：KR1020110036543A

公开(公告)日：2011-04-07

申请号：KR1020107029288

申请日：2009-06-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박영배 ,  후리앙빙 ,  라도우스코린 ,  후앙팅 ,  어빈글렌 ,  디제익폴

IPC: H01B13/00 ,  H01B1/04 ,  H01L31/0224 ,  G06F3/041

CPC classification number: H01L51/0021 ,  B82Y10/00 ,  B82Y20/00 ,  B82Y30/00 ,  H01L51/444 ,  Y02E10/549 ,  G06F3/041

Abstract: 본 방법은, 광학적으로 투명하고, 전기적으로 도전성인 나노구조막을 제조하는 방법을 개시하며, 상기 방법은, 탄소 나노튜브, 플러렌, 그래핀 프레이크/시트, 나노와이어 및 그 2개 이상으로 구성된 그룹으로부터 선택된 나노구조를 포함하는 용액 또는 분산체를 기판 상에 코팅하는 단계를 포함한다. 본 막은, 인캡슐런트 또는 탑코트는 물론, 분산체 또는 용액에서 도펀트를 또한 포함할 수도 있다.

Abstract translation: 我们公开了一种制造光学透明的导电纳米结构膜的方法，其包括将包含选自碳纳米管，富勒烯，石墨烯薄片/片，纳米线及其中的两种或更多种的纳米结构的分散体或溶液涂布在 基质。 该膜还可以在分散体或溶液中包含掺杂剂，以及密封剂或面漆。

公开(公告)号：KR1020090113165A

公开(公告)日：2009-10-29

申请号：KR1020080112997

申请日：2008-11-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 손영문 ,  강현정 ,  김기백 ,  박영배 ,  장선희 ,  유상규

IPC: H04W4/22 ,  H04W4/12

CPC classification number: H04W4/12 ,  H04W4/90

Abstract: PURPOSE: An apparatus and a method for providing an emergency service in a wireless communication system are provided to enable a terminal operating during an idle mode and a sleep mode using information to supply a method for receiving an emergency service message to provide an emergency service in an IEEE 802.16 communication system, thereby improving the entire system performance. CONSTITUTION: A method for providing an emergency service in a wireless communication system comprises the following steps. Information about a transmission time of an emergency service message is received from a base station(201). A MAD PDU including a connection identifier about the emergency service message is received in a frame at a transmission time(211). The emergency service message is extracted from the received MAC PDU(215).

Abstract translation: 目的：提供一种用于在无线通信系统中提供紧急服务的装置和方法，以使终端能够在空闲模式和休眠模式期间使用信息来提供用于接收紧急服务消息的方法来提供紧急服务 IEEE 802.16通信系统，从而提高整个系统性能。 构成：在无线通信系统中提供紧急服务的方法包括以下步骤。 从基站（201）接收关于紧急服务消息的发送时间的信息。 在传输时间（211）的帧中接收包括关于紧急服务消息的连接标识符的MAD PDU。 从接收的MAC PDU（215）提取紧急服务消息。

公开(公告)号：KR100709708B1

公开(公告)日：2007-04-19

申请号：KR1020000047002

申请日：2000-08-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박영배

IPC: G02F1/136

Abstract: 절연 기판 위에 게이트선, 게이트 전극 및 게이트 패드를 포함하는 게이트 배선을 형성한다. 다음, 게이트 절연막, 반도체층, 저항성 접촉층 및 데이터 배선용 도전체층을 차례로 증착하고 감광막을 도포한다. 다음, 위치에 따라 투과율이 다른 마스크를 사용하여 노광한 후 데이터선 및 소스 전극 위의 어느 한 곳 이상(A)에 1㎛ 내지 4㎛의 두께를 갖고, 드레인 전극(B) 위에 0.5㎛ 내지 0.7㎛의 두께를 가지며, 소스 전극 및 드레인 전극 사이(C)에 0.1㎛ 내지 0.3㎛의 두께를 갖고 기타 부분(D)에 두께가 없는 감광막 패턴을 형성한다. 다음, 감광막 패턴을 마스크로 D 부분의 도전체층, 저항성 접촉층 및 반도체층을 식각하고, 감광막 패턴을 에치백하여 C 부분의 도전체층을 드러낸다. 다음, C 부분의 도전체층을 식각하고, 감광막 패턴을 에치백하여 B 부분의 감광막을 제거한 후 C 부분의 저항성 접촉층을 식각한다. 다음, 보호막을 형성하고 그 위에 화소 전극, 보조 게이트 패드 및 보조 데이터 패드를 형성한다. 이와 같이 데이터 배선과 저항성 접촉층 및 반도체층을 한 번의 사진 공정으로 형성하고, 이때 감광막 패턴을 남겨 스페이서로 사용함으로써 공정을 단순화하며, 셀 갭을 균일하게 할 수 있다.
에치백, 사진 공정, 스페이서, 셀 갭

Abstract translation: 包括栅极线，栅极电极和栅极焊盘的栅极布线形成在绝缘基板上。 接着，依次沉积用于数据布线的栅极绝缘膜，半导体层，电阻接触层和导体层，并涂敷光致抗蚀剂膜。 然后，根据其中所述的透射率具有1㎛到4μm的铝粉任何一个或多个（A）的厚度以上，所述数据线和源极电极，然后使用不同的掩模，0.5㎛〜0.7在漏极电极露出的（B） 并且在源电极和漏电极（C）之间形成厚度为0.1μm到0.3μm并且在其他部分（D）上没有厚度的光致抗蚀剂图案。 然后，通过回蚀刻光致抗蚀剂图案蚀刻所述导电层，所述欧姆接触层和光致抗蚀剂图案作为掩模的d部分的半导体层露出部的导电层C。 接着，在蚀刻部的导电层C之后，并通过回蚀光刻胶图案以除去光致抗蚀剂在部分B和C蚀刻欧姆接触层部分的。 接下来，形成保护膜，并在其上形成像素电极，辅助栅极焊盘和辅助数据焊盘。 因此，以形成数据线和欧姆接触层，并在单个光刻工艺的半导体层，在该时间光刻胶图案离开通过使用间隔件简化的方法中，可以使均匀的单元间隙。

公开(公告)号：KR100580825B1

公开(公告)日：2006-05-16

申请号：KR1019990002908

申请日：1999-01-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송영구 ,  공향식 ,  박영배

IPC: G02F1/136

Abstract: 본 발명은 액티브 메트릭스 기판 제조방법 및 이에 의해 제조되는 게이트 아이씨 패드와 박막트랜지스터에 관한 것으로, 본 발명에서는 예컨대, 게이트 전극층-게이트 절연층-액티브층-오믹 콘택층-소오스/드레인 전극층-패시베이션층-화소전극층의 순서로 진행되던 박막트랜지스터의 형성과정을 일례로, 게이트 전극층-게이트 절연층-화소전극층-소오스/드레인 전극층-액티브층-패시베이션층의 순서로 변경한다.
이러한 본 발명의 각 실시예가 진행되는 경우, 박막트랜지스터의 소오스/드레인 전극층은 오믹 콘택층, 예컨대, 고농도 도핑 아모르포스 실리콘층을 개재시키지 않은 상태에서 액티브층과 직접 접촉되는 구조를 이루며, 액티브층은 게이트 절연층과 비연속 적층되는 구조를 이룬다.
이러한 본 발명이 달성되는 경우, 소오스/드레인 메탈층 형성 후에 소오스/드레인 메탈층을 패터닝하기 위한 에칭공정, 예컨대, n+ 에칭공정이 생략될 수 있기 때문에, 소요되는 마스크의 매수는 예컨대, 5매에서 상술한 바와 같이, 3매 또는 4매로 대폭 줄어들 수 있다.

公开(公告)号：KR100580402B1

公开(公告)日：2006-05-15

申请号：KR1019990037691

申请日：1999-09-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박영배

IPC: H01L29/786

Abstract: 절연 기판 위에 게이트선 및 이와 연결된 게이트 전극을 포함하는 게이트 배선을 형성한다. 이어, 기판 위에 게이트 배선 덮는 게이트 절연막, 반도체층, 접촉층, 도전체층을 연속하여 증착하고 도전체층 위에 중간 두께를 가지는 감광막 패턴을 형성하고, Si를 포함하는 HMDS 또는 TMDS를 시료를 이용한 실리레이션(silylation)과 산소 플라스마 공정을 통하여 감광막 패턴의 상부에 식각 저지막으로서 산화 규소막을 형성한다. 다음, 감광막 패턴으로 가리지 않는 도전체층, 접촉층 및 반도체층을 식각하여 소스/드레인용 도전체 패턴, 중간층 패턴 및 반도체 패턴을 형성한다. 이 과정에서, 감광막 패턴의 상부에는 식각 저지막이 있어 감광막 패턴이 식각되는 것을 최소화할 수 있어 특히, 중간 두께를 가지는 부분의 하부막이 드러나거나 식각되는 것을 방지할 수 있다. 이어, 식각 저지막을 제거하고, 산소 플라스마 공정을 이용하여 감광막 패턴의 제1 부분을 제거한다. 이어, 감광막 패턴으로 가리지 않는 소스/드레인용 도전체 패턴 및 중간층을 식각하여 데이터선, 데이터선과 연결되어 있는 소스 전극 및 소스 전극과 분리되어 있는 드레인 전극을 포함하는 데이터 배선과 그 하부의 접촉층 패턴을 형성한다. 이어, 보호 절연막을 형성하고 보호 절연막 위에 드레인 전극에 전기적으로 연결되는 화소 전극을 형성한다.
실리레이션, HMDS, TMDS, 수지, 감광막, 산소 플라스마

Abstract translation: 包括栅极线和与其连接的栅极的栅极布线形成在绝缘基板上。 接着，二氧化硅插图依次沉积栅绝缘膜，半导体层，接触层，覆盖在基板上的栅极线，以形成具有导电层上的介质的厚度，并使用含Si的样品的HMDS或TMDS（光致抗蚀剂图案的导体层 甲硅烷基化）和氧等离子体处理以在光致抗蚀剂图案上形成作为蚀刻停止膜的氧化硅膜。 接下来，蚀刻未被光刻胶图案掩盖的导电层，接触层和半导体层，以形成用于源极/漏极，中间层图案和半导体图案的导体图案。 在此过程中，蚀刻停止膜形成在光致抗蚀剂图案的上部以最小化光致抗蚀剂图案的蚀刻，从而防止中间部分的下部膜被暴露或蚀刻。 接下来，去除蚀刻停止层，并且使用氧等离子体工艺去除光致抗蚀剂图案的第一部分。 然后，不覆盖光致抗蚀剂图案中的源/漏导电图案和蚀刻中间数据线被连接到所述数据线和所述源电极与所述数据线和所述下部接触层图案，其中，漏电极与源电极分开 形式。 接着，形成保护绝缘膜，并且在保护绝缘膜上形成与漏电极电连接的像素电极。

公开(公告)号：KR100459903B1

公开(公告)日：2004-12-03

申请号：KR1020020043926

申请日：2002-07-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 장우영 ,  박영배 ,  신상훈 ,  최진욱

IPC: A61B5/05

CPC classification number: A61B5/415 ,  A61B5/0531 ,  A61B5/416 ,  A61B5/418

Abstract: A measurement system for measuring impedance in a small region of skin and an electrode used in the measurement system are provided. The measurement system includes an electrode unit, which includes a plurality of current supply electrodes for supplying a constant current and a plurality of measurement electrodes separated from the current supply electrodes in order to measure a response signal of skin; a current source, which supplies the constant current to the current supply electrodes; a signal processing unit, which is connected to the measurement electrodes, receives response signals generated in the skin in reaction to the applied constant current, generates a potential difference signal, removes noise from the potential difference signal, and amplifies the noise-removed potential difference signal; a signal conversion unit, which converts the potential difference signal received from the signal processing unit from an analog format into a digital format; and an image display unit, which converts the digital potential difference signal into an image signal and displays the image signal.

Abstract translation: 提供了用于测量皮肤的小区域中的阻抗的测量系统以及测量系统中使用的电极。 测量系统包括电极单元，其包括用于提供恒定电流的多个电流供应电极和与电流供应电极分离以测量皮肤的响应信号的多个测量电极; 电流源，其向电流供应电极提供恒定电流; 连接到测量电极的信号处理单元接收响应于施加的恒定电流而在皮肤中产生的响应信号，产生电势差信号，从电势差信号中去除噪声，并放大噪声去除的电势差 信号; 信号转换单元，将从信号处理单元接收的电位差信号从模拟格式转换为数字格式; 以及图像显示单元，其将数字电位差信号转换成图像信号并显示图像信号。 ＆lt;图像＆GT;

公开(公告)号：KR100449094B1

公开(公告)日：2004-09-18

申请号：KR1020020059364

申请日：2002-09-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박영배

IPC: G03G15/00

Abstract: PURPOSE: A closing support device of a flatten cover having an attenuator is provided to allow the attenuator to attenuate a force of opening and shutting the flatten cover, like a semicircular rack link, a rack gear, or a pinion, so as to stably open and shut the flatten cover. CONSTITUTION: A hinge unit(120) supports a flatten cover(112) fixing a set manuscript on the surface of a machine body(110) for swinging. An escalating unit(130) installed in the machine body(110) is fixed on the hinge unit(120) to adjust the supporting height of the hinge unit(120) for up and down moving and swinging according to the thickness of the manuscript set on the surface of the machine body(110). A stopper unit(143) installed on the machine body(110) restricts the up and down moving and swing of the escalating unit(130). The hinge unit(120) comprises a first hinge axis(121) formed on one portion of the flatten cover(12), a second hinge axis(123) formed on one portion of the escalating unit(130), and a hinge link(125) connecting the first and the second hinge axes(121,123). The escalating unit(130) includes a semicircular rack link(131) of which one end forms the second hinge axis(123) of the hinge unit(120) and the other end forms a hook(133). And an attenuating unit including a body of the rack link(131) of a semicircular shape between the second hinge axis(123) and the hook(133) maintains the rack link(131) at a regular speed without sudden displacement when the rack link(131) moves up and down according to the thickness of the manuscript.

Abstract translation: 目的：提供一种具有衰减器的平坦盖的闭合支撑装置，以允许衰减器减弱打开和关闭平坦盖的力，如半圆形齿条连杆，齿条或小齿轮，以便稳定地打开 并关闭平坦的盖子。 组成：一个铰链单元（120）支撑一个扁平盖（112），用于将设定的原稿固定在机体（110）的表面上以摆动。 安装在机体（110）中的升降单元（130）固定在铰链单元（120）上，以根据原稿组的厚度来调节铰链单元（120）的上下移动和摆动的支撑高度 在机体（110）的表面上。 安装在机体（110）上的止动单元（143）限制升降单元（130）的上下移动和摆动。 铰链单元（120）包括形成在平坦盖（12）的一部分上的第一铰链轴（121），形成在升级单元（130）的一部分上的第二铰链轴（123），以及铰链连杆 连接第一和第二铰链轴（121,123）。 升级单元130包括半圆形齿条连杆131，其一端形成铰链单元120的第二铰链轴线123，另一端形成钩133。 并且包括在第二铰链轴（123）和钩（133）之间的半圆形形状的齿条连杆（131）的本体的衰减单元将齿条连杆（131）保持在常规速度而没有突然位移， （131）根据稿件的厚度上下移动。

公开(公告)号：KR100445001B1

公开(公告)日：2004-08-21

申请号：KR1020020022214

申请日：2002-04-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박영배

IPC: G03G15/00

Abstract: PURPOSE: A device for stacking discharged papers is provided to reduce the alinement failure caused by the friction resistance by employing a guide element. CONSTITUTION: A device for stacking discharged papers includes a stacker(220) for stacking discharged papers(S), and a guide element(300) contacting a top surface of the discharged papers to apply friction force. The stacker is integrated with the main body of a printer downwardly toward discharge rollers(110) and provided with an alignment part(230) at an end in the discharge roller direction for contacting ends of the discharged papers. The guide element includes a hinge part(310), a first lever(320) and a contact part(330). The hinge part is protruded with a shaft(312) in the width direction of the discharged papers. The first lever is extended from the hinge part in the stacker direction and formed with the contact part at end. The contact part is in the curved shape for natural contact with the papers.

Abstract translation: 目的：提供一种用于堆放排出纸张的装置，以通过使用导向元件来减少由摩擦阻力引起的对位失效。 用于堆放排出纸张的装置包括用于堆放排出纸张（S）的堆叠器（220）和接触排出纸张顶表面以施加摩擦力的导向元件（300）。 堆叠器与打印机主体向下朝向排出辊（110）成一体，并且在排出辊方向的一端设置有对准部分（230），用于接触排出的纸张的端部。 引导元件包括铰链部分（310），第一杠杆（320）和接触部分（330）。 铰链部件在排出的纸张的宽度方向上突出有轴（312）。 第一杠杆从铰链部分沿堆叠器方向延伸并且与端部处的接触部分一起形成。 接触部分呈弯曲形状，与纸张自然接触。

公开(公告)号：KR1020040028227A

公开(公告)日：2004-04-03

申请号：KR1020020059364

申请日：2002-09-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박영배

IPC: G03G15/00

Abstract: PURPOSE: A closing support device of a flatten cover having an attenuator is provided to allow the attenuator to attenuate a force of opening and shutting the flatten cover, like a semicircular rack link, a rack gear, or a pinion, so as to stably open and shut the flatten cover. CONSTITUTION: A hinge unit(120) supports a flatten cover(112) fixing a set manuscript on the surface of a machine body(110) for swinging. An escalating unit(130) installed in the machine body(110) is fixed on the hinge unit(120) to adjust the supporting height of the hinge unit(120) for up and down moving and swinging according to the thickness of the manuscript set on the surface of the machine body(110). A stopper unit(143) installed on the machine body(110) restricts the up and down moving and swing of the escalating unit(130). The hinge unit(120) comprises a first hinge axis(121) formed on one portion of the flatten cover(12), a second hinge axis(123) formed on one portion of the escalating unit(130), and a hinge link(125) connecting the first and the second hinge axes(121,123). The escalating unit(130) includes a semicircular rack link(131) of which one end forms the second hinge axis(123) of the hinge unit(120) and the other end forms a hook(133). And an attenuating unit including a body of the rack link(131) of a semicircular shape between the second hinge axis(123) and the hook(133) maintains the rack link(131) at a regular speed without sudden displacement when the rack link(131) moves up and down according to the thickness of the manuscript.

Abstract translation: 目的：提供具有衰减器的平坦盖的闭合支撑装置，以使衰减器能够衰减打开和关闭平坦盖的力，如半圆形齿条连杆，齿条或小齿轮，以便稳定地打开 并关上压平盖。 构成：铰链单元（120）支撑将设置的原稿固定在机体（110）的摆动表面上的平整盖（112）。 安装在机体（110）中的升降单元（130）固定在铰链单元（120）上，以根据原稿的厚度来调节铰链单元（120）的上下运动和摆动的支撑高度 在机体（110）的表面上。 安装在机体（110）上的止动器单元（143）限制升降单元（130）的上下移动和摆动。 铰链单元（120）包括形成在平整盖（12）的一部分上的第一铰链轴线（121），形成在升级单元（130）的一部分上的第二铰链轴线（123） 125）连接第一和第二铰链轴（121,123）。 升级单元（130）包括半圆形的链条（131），其一端形成铰链单元（120）的第二铰链轴线（123），另一端形成钩（133）。 并且包括在所述第二铰链轴线（123）和所述钩（133）之间的半圆形状的所述齿条链节（131）的主体的衰减单元使所述齿条连杆（131）以规定的速度保持，当所述齿条连杆 （131）根据手稿的厚度上下移动。

公开(公告)号：KR1020020072649A

公开(公告)日：2002-09-18

申请号：KR1020010012593

申请日：2001-03-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 허성욱 ,  박영배

IPC: G02F1/136

Abstract: PURPOSE: A TFT(Thin Film Transistor) substrate and a method for fabricating the same are provided to remain photosensitive film pattern used in the procedure of forming data wires on the data wires for preventing the etching of the data wires by the etching gas used in the following etching procedure. CONSTITUTION: A TFT substrate includes an insulating substrate(10), gate wires formed on the substrate and including gate lines and gate electrodes, a gate insulating film covering the gate wires, a semiconductor pattern(42) formed on the gate insulating film, data wires formed on the gate insulating film and including data lines, source electrodes and drain electrodes(66), a photosensitive film pattern(PR) formed on the data wires, a protection film(70) covering the photosensitive film pattern and the semiconductor pattern, first contact holes(72) formed on the photosensitive film pattern on the protection film and the drain electrodes for exposing the drain electrodes, and pixel electrodes contacting the drain electrodes via the first contact holes.

Abstract translation: 目的：提供TFT（薄膜晶体管）基板及其制造方法，以保持在数据线上形成数据线的步骤中使用的感光膜图案，以防止通过使用的蚀刻气体蚀刻数据线 以下蚀刻步骤。 构成：TFT基板包括绝缘基板（10），形成在基板上并且包括栅极线和栅电极的栅极线，覆盖栅极线的栅极绝缘膜，形成在栅极绝缘膜上的半导体图案（42），数据 形成在栅极绝缘膜上的线，包括数据线，源电极和漏电极（66），形成在数据线上的感光膜图案（PR），覆盖感光膜图案和半导体图案的保护膜（70） 形成在保护膜上的感光膜图案上的第一接触孔（72）和用于使漏电极露出的漏电极以及经由第一接触孔与漏电极接触的像素电极。