公开(公告)号：KR1019990069184A

公开(公告)日：1999-09-06

申请号：KR1019980003262

申请日：1998-02-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송재관 ,  원유근

IPC: H01L21/306

Abstract: 본 발명은 반도체소자 제조용 사진식각장치 및 이를 이용한 스테이지의 제어방법에 관한 것이다.
본 발명의 사진식각장치는, 스테이지의 각각의 변에 구비되는 간섭거울; 소정의 파장을 가지는 광을 조사시킬 수 있는 광원부; 상기 스테이지의 구동을 제어할 수 있는 제어부; 및 상기 광의 조사시 외부환경에 따른 상기 광의 소정의 파장의 변화를 상기 제어부에 입력시킬 수 있는 보정부를 구비하여 이루어짐을 특징으로 한다.
본 발명의 사진식각장치의 스테이지의 제어방법은, 스테이지의 변부에 구비된 간섭거울에 소정의 파장을 가지는 광을 조사시키는 조사단계; 상기 광의 소정의 파장의 변화의 정도 및 외부환경에 따른 상기 광의 파장의 변화의 정도 등을 판단하는 제어단계; 및 상기 스테이지를 구동시키는 구동단계를 구비하여 이루어짐을 특징으로 한다.
따라서, 스테이지의 구동에 따른 불량을 최소화시킴을써 반도체소자의 제조의 생산성이 향상되는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019980082325A

公开(公告)日：1998-12-05

申请号：KR1019970017186

申请日：1997-05-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이성호 ,  송재관

IPC: G03F7/004

Abstract: 본 발명은 반도체장치의 제조를 위한 원자외선 노광용 포토레지스트 조성용 구조제 수지와 그 제조방법 및 그 구조제 수지를 포함하는 원자외선 노광용 포토레지스트 조성물에 관한 것이다.
본 발명은 반도체장치의 제조를 위한 공정 중 포토리소그래피공정에서 광원으로서 원자외선을 사용하여 노광할 수 있는 원자외선 노광용 포토레지스트 조성용 구조제 수지로서 폴리(디-티-부틸-노르보넨-디카르복실레이트)를 주쇄로 하는 수지를 제공하며, 또한 이 폴리(디-티-부틸-노르보넨-디카르복실레이트)를 주쇄로 하는 수지의 제조방법 및 이 폴리(디-티-부틸-노르보넨-디카르복실레이트)를 주쇄로 하는 수지를 포함하는 원자외선 노광용 포토레지스트 조성물을 제공한다.
따라서, 193nm 정도의 원자외선에도 충분한 투과성을 가지며, 내식각성이 우수하고, 현상시 패턴의 콘트라스트가 분명하고 높은 해상도를 나타내는 원자외선용 포토레지스트 조성물을 제공하는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR100155830B1

公开(公告)日：1998-11-16

申请号：KR1019950016257

申请日：1995-06-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송재관 ,  김정곤 ,  박경신 ,  배경성

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70108

Abstract: 본 발명은 변형노광장치 및 노광방법에 관한 것으로서, 사점조명계와 고리 조명계를 결합한 형태의 조명계에 관한 것이다. 본 발명의 변형노광장치의 광원부, 상기 광원부에서 발산하는 빛을 제한하는 조절 부, 상기 조절 부에서 나온 빛을 굴절 및 회절시키는 굴절 및 회절부, 상기 굴절 및 회절부에서 나오는 빛을 웨이퍼 상에 집광시키는 집광부로 구비되는 변형노광장치에 있어서, 상기 조절부는 서로 분리되어 있고 회전 대칭성을 갖는 8개의 노광구를 갖는 필터를 포함한다.
본 발명에 의하면, 해상도를 종래의 변형노광 이상으로 유지하면서 상 형성면(또는 웨이퍼) 상에 광에너지의 세기분포를 균일하게 형성된다. 또한 마스크패턴을 통과하는 빛의 이미지 형성정보를 균일하게 하므로서, 양호한 콘택패턴을 얻을 수 있고 프락시머티 효과(proximity effect)도 줄일 수 있다.

公开(公告)号：KR1019980027351A

公开(公告)日：1998-07-15

申请号：KR1019960046075

申请日：1996-10-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김청협 ,  김정곤 ,  박경신 ,  송재관

IPC: H01L21/027

Abstract: 스테퍼설비 내부에 설치된 렌즈, 반사거울, 광필터 등의 광학부재 표면에 각종 유기가스와 이온들의 근접을 방지하여 광학부재의 손상 및 오염을 방지하도록 하는 반도체 스테퍼설비의 오염방지장치 및 그 방법에 관한 것이다.
본 발명은 다수개의 챔버로 구성되어 내부에 노광공정에 필요한 광을 형성 유도하는 여러 종류의 광학부재가 설치된 조명계장치와, 상기 조명계장치로부터 유입된 광을 여러 종류의 광학부재를 통해 유도하여 웨이퍼의 스테이지에 조사시키는 본체부로 구성된 스테퍼설비에 있어서, 상기 광학부재 표면에 세정가스를 공급하도록 하는 가스 공급노즐이 설치됨을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면 설치된 가스 공급노즐을 통해 분사 공급되는 세정가스에 의해 각종 유기가스와 이온들을 광학부재의 표면으로부터 제거함에 따라 광학부재의 손상과 오염이 방지되고, 광의 반사율과 굴절율이 유지되어 조사 시간이 유지되고, 광학부재의 교체 주기가 연장될 뿐 아니라 광학부재의 설치 비용이 절감되는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019970028856A

公开(公告)日：1997-06-24

申请号：KR1019950041255

申请日：1995-11-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송재관 ,  문상영 ,  박경신 ,  송호종

IPC: G03F7/20

Abstract: 포토마스크의 패턴을 웨이퍼상에 충실히 구현할 수 있는 투영노광장치 및 노광방법에 대해 기재되어 있다.
이는, 어퍼쳐를 사용하여 포토마스크의 패턴을 웨이퍼에 전사하는 투영노광 장치에 있어서, 상기 어퍼쳐가 2개 이상 배열된 것을 특징으로 한다.
따라서, 종래에 비해 어퍼쳐와 각 어퍼쳐의 슬릿 수를 증가시킴으로써, 광 강도를 균일하게 할 수 있고, 마스크패턴을 웨이퍼상에 충실히 구현할 수 있으며, 포커스변화에 따른 패턴크기와 프로파일의 변화를 줄여 공정 마아진을 넓힐 수 있다.