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公开(公告)号：KR1020160059860A
公开(公告)日：2016-05-27
申请号：KR1020140161941
申请日：2014-11-19
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H05G2/00 , H01L21/027
CPC classification number: H05G2/008 , B05B12/12 , G03F7/70033 , G21K1/067 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , H05G2/005
Abstract: 극자외선광 생성장치, 시스템및 극자외선광 생성장치의사용방법이제공된다. 상기극자외선광 생성장치는, 컬렉터미러부(collector mirror unit), 상기컬렉터미러부로공정가스를제공하는가스공급부, 상기컬렉터미러부의일 영역에배치되어상기컬렉터미러부의일면으로상기공정가스를제공하는가스공급노즐, 및상기가스공급노즐의분사구의형상을조절하는제어부를포함하되, 상기분사구의형상은상기제어부의제어동작에따라변한다.
Abstract translation: 本发明的目的是提供一种极紫外光发生装置，其包括可以基于分析锡污染图案的结果向冷凝器供应流动的工艺气体的可变喷嘴，而不用不加区分地加工出现的锡污染图案 根据极紫外光发生装置中的冷凝器的装置的设置状态不同。 本发明提供了极紫外光发生装置，极紫外光发生系统以及极紫外光发生装置的使用方法。 所述极紫外光发生装置包括：集光镜单元; 气体供给单元，其向所述收集镜单元供给处理气体; 气体供给喷嘴，其设置在集光镜单元的一个区域中，以将处理气体供给到集光镜单元的一个表面; 以及调节气体供给喷嘴的喷孔形状的控制单元。 喷孔的形状根据控制单元的控制操作而变化。
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公开(公告)号：KR1020150052663A
公开(公告)日：2015-05-14
申请号：KR1020130134357
申请日：2013-11-06
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H02N2/18
CPC classification number: H02N2/186 , H01L41/1136 , H02N2/181
Abstract: 압전에너지하베스터및 이를구비하는모바일기기가개시된다. 개시된압전에너지하베스터는, 커버프레임과, 상기커버프레임내부에마련되는질량체와, 상기커버프레임의측벽과상기질량체사이에마련되어상기커버프레임과상기질량체의상대적인움직임에따라변형됨으로써전기에너지를발생시키는것으로일단이상기커버프레임의측벽에고정되며타단은고정되지않는적어도하나의압전변환기를포함한다.
Abstract translation: 公开了一种压电能量收集器和具有该压电能量收集器的移动装置。 压电能量收集器包括盖框架，准备在盖框架中的质量体，以及至少一个压电换能器，其被制备在盖框架的侧壁和质量体之间，并且通过盖框架相对运动而变形 质量体产生电能。 压电换能器的一端固定在盖框架的侧壁上。 另一端不固定。
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公开(公告)号：KR1020150032063A
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：KR1020130112066
申请日：2013-09-17
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L41/047 , H01L41/22
CPC classification number: H01L41/047 , H01L41/0475 , H01L41/1136 , Y10T29/42
Abstract: 압전 소자 및 그 제조방법이 개시된다. 개시된 압전 소자는, 압전층의 제1면 상에 마련되는 제1 및 제2 전극과, 상기 압전층의 제2면 상에 마련되는 제3 및 제4 전극과, 상기 제1 전극과 상기 제4 전극을 전기적으로 연결하는 제1 도체와, 상기 제2 전극과 상기 제3 전극을 전기적으로 연결하는 것으로, 상기 제1 도체와 교차하는 제2 도체;를 포함한다.
Abstract translation: 公开了一种压电装置及其制造方法。 所公开的压电装置包括形成在压电层的第一表面上的第一电极和第二电极，第三电极和第四电极，形成在压电层的第二表面上，第一导体将 第一电极到第四电极，以及第二导体，其将第二电极电连接到第三电极。
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公开(公告)号：KR1020130113173A
公开(公告)日：2013-10-15
申请号：KR1020120035549
申请日：2012-04-05
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H01L21/3086 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L21/0271 , H01L21/0273 , Y10S438/942 , Y10T29/49
Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of templates for the nano-imprint lithography is provided to be able to more elaborately manufacture and correct the size, uniformity and alignment of the imprint pattern as the templates are manufactured by using a scanning lithography facility. CONSTITUTION: A manufacturing method of templates for the nano-imprint lithography comprises that a reticle (140) is installed on a reticle stage (130) in a scanning lithography facility (100) comprising a light source, the reticle stage and a template stage (170), that a template substrate (310) is mounted on the template stage, and that a tilt scanning process, that the center route of the light generated from the light source is irradiated on the template substrate at a tilt after the reticle, is performed. The scanning lithography facility further comprises a slit part (150) positioned between the reticle stage and the template stage. Most of the light passing through the reticle is blocked by a slit plate (151) in the slit part. A part of the light passing through the reticle passes a slit (155) in the slit part, and is irradiated on the template substrate. The reticle stage and the template stage move to the direction perpendicular to the long direction of the slit. The light is irradiated on the template substrate at a tilt by moving the reticle stage at a tilt.
Abstract translation: 目的：提供用于纳米压印光刻的模板的制造方法，以便通过使用扫描光刻设备制造模板，能够更精确地制造和校正压印图案的尺寸，均匀性和对准。 构成：用于纳米压印光刻的模板的制造方法包括在包括光源，标线片台和模板台（100）的扫描光刻设备（100）中的掩模版台（130）上安装掩模版（140） 170），模板基板（310）安装在模板台上，并且倾斜扫描处理将从光源产生的光的中心路径在掩模版之后以倾斜度照射在模板基板上是倾斜扫描处理 执行。 扫描光刻设备还包括位于标线片台和模板台之间的狭缝部分（150）。 通过标线的大部分光被狭缝部分中的狭缝板（151）阻挡。 穿过标线的光的一部分通过狭缝部分中的狭缝（155），并照射在模板基板上。 标线片台和模板台移动到与狭缝的长方向垂直的方向。 通过倾斜地移动标线片台，以倾斜的方式将光照射在模板基板上。
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公开(公告)号：KR1020100069503A
公开(公告)日：2010-06-24
申请号：KR1020080128196
申请日：2008-12-16
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/66 , H01L21/027
Abstract: PURPOSE: A reticle error detecting method is provided to directly detect a reticle error in a wafer level using only a 0 pear light among the diffraction light of a laser light. CONSTITUTION: A reticle(9) is installed on an exposure. A light is irradiated on the reticle using a light source(1) of the exposure. An error of the reticle is detected with only a zeroth diffraction light among a diffraction light passing through the reticle. The zeroth diffraction light is obtained by selecting a lighting system(5) on a pattern of the reticle. The reticle error is detected by measuring an image or the thickness variance of a photoresist film(13).
Abstract translation: 目的：提供一种标线错误检测方法，用于在激光的衍射光中仅使用0个梨光直接检测晶片级的标线误差。 规定：掩模版（9）安装在曝光中。 使用曝光的光源（1）将光照射在掩模版上。 在通过掩模版的衍射光中仅用零级衍射光检测掩模版的误差。 通过在掩模版的图案上选择照明系统（5）来获得零级衍射光。 通过测量光致抗蚀剂膜（13）的图像或厚度变化来检测掩模版错误。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020100016747A
公开(公告)日：2010-02-16
申请号：KR1020080076354
申请日：2008-08-05
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70641 , G03F1/38
Abstract: PURPOSE: A method for measuring focus variation of a photolithography device is provided to measure the focus variation using a pattern with low focus depth. CONSTITUTION: A mask pattern with the lowest focus depth is selected among a plurality of mask patterns(ST100). All spot regions are exposed on a wafer using the selected mask pattern(ST102). The focus variation of the photolithography device is measured using the information obtained from the exposed shot regions(ST112).
Abstract translation: 目的：提供一种用于测量光刻设备的聚焦变化的方法，以使用具有低聚焦深度的图案来测量聚焦变化。 构成：在多个掩模图案中选择具有最低聚焦深度的掩模图案（ST100）。 使用所选择的掩模图案将所有斑点区域暴露在晶片上（ST102）。 使用从曝光的拍摄区域获得的信息来测量光刻设备的聚焦变化（ST112）。
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29.发明公开
公开(公告)号：KR1020170071185A
公开(公告)日：2017-06-23
申请号：KR1020150179208
申请日：2015-12-15
Applicant: 삼성전자주식회사 , 영남대학교 산학협력단
IPC: C23C14/34 , C23C14/35 , H01M10/0562 , H01M10/058
Abstract: 등각증착을위한스퍼터링장치및 이를이용한 3차원이차전지의등각전해질막제조방법이개시된다. 개시된스퍼터링장치는챔버내에서타겟지지부와기판홀더사이에배치되며, 적어도하나의턴을포함하며내부로개스가흐르도록중공이며복수의토출홀이형성되어상기개스가토출되는고주파파이프를포함한다. 상기고주파파이프에는고주파전원이연결되며, 일단에는상기개스공급을위한인입구가형성된다.
Abstract translation: 各电解质膜的制造方法，公开诸如使用的溅射装置的三维二次电池，这对保形沉积。 公开了一种溅射装置设置在所述靶支承体和衬底保持器，中空和多个排出孔，以流动在内部形成有气体之间包括至少一个依次包括在将气体从腔室排出的高频管。 高频电源连接到高频管，并且在一端形成用于供应气体的入口。
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公开(公告)号：KR1020170026829A
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：KR1020150122022
申请日：2015-08-28
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03F7/20 , G03F1/22 , G03F7/30 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70033 , G02B19/0095 , G03F7/70916 , H05G2/001
Abstract: 본발명의일 실시예에따른극자외선발생장치는, 내부공간을포함하는챔버, 상기내부공간에플라즈마를발생시키는플라즈마생성유닛, 상기내부공간에배치되고, 상기플라즈마로부터생성된광을집광하는집광유닛, 그리고상기내부공간의전방향(all-direction) 모니터링이가능한모니터링유닛을포함한다.
Abstract translation: 一种极紫外线发生装置，包括具有内部空间的腔室; 等离子体发生器，用于在内部空间中产生等离子体; 内部空间的冷凝器收集从等离子体产生的光; 以及监视器以全向方式监视内部空间。
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