자동 위상 변조기를 구비한 편광조절기
    21.
    发明公开
    자동 위상 변조기를 구비한 편광조절기 失效
    带自动相位调制器的偏振控制器

    公开(公告)号:KR1019990040306A

    公开(公告)日:1999-06-05

    申请号:KR1019970060636

    申请日:1997-11-17

    Abstract: 본 발명은 광섬유 편광 분리기와 위상 변조기가 결합된 2 x 2도파로형 모드 분리기를 이용한 편광 조절기에 관한 것으로, 종래의 전기 광학 효과를 이용한 편광조절기는 속도는 빠르나 제작비용이 많이 들고, 액정을 이용한 편광조절기는 제작비용은 낮으나 속도면에서 빠르지 못한 문제점이 있었다.
    이에 본 발명은 일측의 편광유지 광섬유 출력단에 대하여 90

    °

    뒤틀린 타측 편광유지 광섬유 출력단을 구비하여 임의의 편광을 갖는 입력광을 동일한 선편광 상태를 갖게 하는 두 개의 포트로 출력하는 광섬유 편광분리수단과; 상기 편광분리수단의 두 출력을 모두 TE 또는 TM 모드로 입력받아 상기 두 입력광의 위상차를 90

    °

    로 유지하여 모드분리시켜 상기 입력광의 편광상태에 무관하게 출력광의 파워가 입력광의 50%가 되도록 편광을 조절하는 도파로형 2×2 모드 분리기와; 상기 도파로형 2×2 모드 분리기의 두 출력광의 세기를 검출하여 그 차이만큼 차동증폭하여 상기 도파로형 2×2 모드 분리기에 입력되는 입력광의 위상을 조절하게 하여 입력광의 편광에 무관하게 안정된 출력 파워를 얻을 수 있게 하는 위상정합용 궤환수단으로 구성하여 종래보다 제작이 용이하면서도 속도면에서 개선된 것을 특징으로 한다.

    비선형 광학 색소를 함유한 폴리이미드 화합물 및 그의 제조방법
    22.
    发明公开
    비선형 광학 색소를 함유한 폴리이미드 화합물 및 그의 제조방법 失效
    含有非线性光学染料的聚酰亚胺化合物及其制造方法

    公开(公告)号:KR1019990024974A

    公开(公告)日:1999-04-06

    申请号:KR1019970046379

    申请日:1997-09-09

    Abstract: 본 발명은 열 적으로 안정한 전기 광학적 성질을 가지며, 폴리아믹산을 거치지 않고 직접 이미드화되는 방법을 도입하여 용해도가 좋고, 광전송 손실이 아주 낮은 비선형 광학 물질을 함유하는 폴리이미드 화합물 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 폴리이미드 화합물을 하기 화학식 4에 나타냈다.
    [화학식 4]

    상기 화학식 4에서,
    n 은 중합도로서, 10∼100 범위의 자연수이고,
    X 는 SO
    2 , CO, C(CF
    3 )
    2 , O 또는 Si(CH
    3 )
    2 이고,
    NLO 는 DANS(4-[N-(2-알킬옥시)아미노]-4'-니트로스틸벤) 유도체,
    DASS(4-[N-(2-알킬옥시)술포닐]-4'-(N,N'-디알킬아미노)스틸벤 유도체,
    또는 디스퍼스 레드 1이다.

    배향된 고분자 박막의 커 계수 측정 시스템 및 그를 이용한 커 계수 측정방법
    24.
    发明授权

    公开(公告)号:KR100150530B1

    公开(公告)日:1998-10-15

    申请号:KR1019950052147

    申请日:1995-12-19

    Abstract: 본 발명은 커 계수를 측정할 배향된 고분자 박막의 양 면에 위치한 전극(11, 12); 커 계수 측정에 사용될 소정의 직류 전압(V
    dc ) 및 변조 전압(V
    m )을 발생시켜, 이들을 믹싱한 측정 전원을 상기 전극에 인가하는 측정 전원 인가 수단(8 내지 10); 레이저를 사용하여, 상기 측정 전원이 양 면에 인가된 배향된 고분자 박막의 일반 및 특수 굴절률(n
    0 , n
    e )과, 상기 배향된 고분자 박막에 의해 변조된 파형 세기(I
    m /I
    c )를 측정하는 반사 변조 측정 수단(1 내지 8); 및 상기 반사 변조 측정 수단에 측정된 정보에 따라 커 계수를 계산하는 연산 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 배향된 고분자 박막의 커 계수 측정 시스템 및 그를 이용한 커 계수 측정 방법에 관한 것으로, 커 계수를 간단하고 정확하게 측정할 수 있도록 한 것이다.

    비선형 광학 고분자를 이용한 전기적 횡파 모드편광장치 및 그 제조 방법

    公开(公告)号:KR1019970066617A

    公开(公告)日:1997-10-13

    申请号:KR1019960007899

    申请日:1996-03-22

    Abstract: 본 발명은 극화시 전기적 횡파(TE) 모드 굴절율은 감소하고 자기적 횡파(TM) 모드 굴절율은 증가하는 비선형 광학 고분자를 클래딩으로 사용하여, 상기 클래딩으로 감싸지는 코아는 극화시 전기적 횡파(TE) 모드 및 자기적 횡파(TM) 모드의 굴절율은 변화가 없는 순수고분자로 사용하는 전기적 횡파(TE) 모드 편광 장치에 관한 것으로, 값싼 고분자를 사용함으로써 제조 단가를 현저히 감소시키며, 순수 고분자를 코아로 사용함으로써 고분자 광소자의 단점인 광전송 손실(Light Propagation Loss)을 현저히 감소시키는 효과가 있다.

    배향된 고분자 박막의 커 계수 측정 시스템 및 그를 이용한 커 계수 측정방법
    26.
    发明公开
    배향된 고분자 박막의 커 계수 측정 시스템 및 그를 이용한 커 계수 측정방법 失效
    测量取向聚合物薄膜矫顽力的系统并用它测量矫顽力

    公开(公告)号:KR1019970048697A

    公开(公告)日:1997-07-29

    申请号:KR1019950052147

    申请日:1995-12-19

    Abstract: 본 발명은 커 계수를 측정할 배향된 고분자 박막의 양 면에 위치한 전극(11, 12); 커 계수 측정에 사용될 소정의 직류 전압(V
    dc ) 및 변조 전압(V
    m )을 발생시켜, 이들을 믹싱한 측정 전원을 상기 전극에 인가하는 측정 전원 인가 수단(8 내지 10); 레이저를 사용하여, 상기 측정 전원이 양 면에 인가된 배향된 고분자 박막의 일반 및 특수 굴절률(n
    0 , n
    e )과, 상기 배향된 고분자 박막에 의해 변조된 파형 세기(I
    m /I
    c )를 측정하는 반사 변조 측정 수단(1 내지 8); 및 상기 반사 변조 측정 수단에 측정된 정보에 따라 커 계수를 계산하는 연산 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 배향된 고분자 박막의 커 계수 측정 시스템 및 그를 이용한 커 계수 측정 방법에 관한 것으로, 커 계수를 간단하고 정확하게 측정할 수 있도록 한 것이다.

    공명 투과광전 소자의 구조

    公开(公告)号:KR1019950021821A

    公开(公告)日:1995-07-26

    申请号:KR1019930026787

    申请日:1993-12-08

    Abstract: 본 발명은 공명 투과광전 소자 및 수직구조에 관한 것으로서, 본 발명의 특징은 종래에 사용되고 있는 광검출기나 광전도체와는 상이하게 빛에 의해 생성된 정공이 장벽앞에 축적됨으로써 이중장벽양자우물구조에서의 더욱 많은 전압강하를 유도하여 공명투과다이오드의 피크가 낮은 전압으로 이동하는 새로운 개념으로 동작하며, 또한 공명투과 전류가 빛에 의해 제어되므로 현재 광전소자로 가장 많이 사용되는 PIN다이오드에 비하여 10
    3 배 이상 전류량이 많다.
    따라서 주변회로를 구동시키기 위하여 광전소자로부터의 출력 신호를 증폭시키는 기능이 생략되므로 회로를 단순화시킬 수 있다.

    오프레벨 샘플링에 의한 전기광학광변조기의 바이어스 안정화방법
    28.
    发明授权
    오프레벨 샘플링에 의한 전기광학광변조기의 바이어스 안정화방법 失效
    电光调制器偏置采样的偏置稳定方法

    公开(公告)号:KR100323585B1

    公开(公告)日:2002-10-25

    申请号:KR1019980035647

    申请日:1998-08-31

    Abstract: 본 발명은 리튬나이오베이트(LiNbO
    3 )나 전기광학 폴리머 등으로 구성된 마하-젠더(Mach-Zehnder)(MZ) 간섭계형 광변조기의 출력특성을 안정화시키기 위한 방법에 관한 것이다. 종래의 디더링 신호(Dithering signal)와 락인 측정(lock-in detection)을 이용한 광변조기 안정화 방법은, 바이어스 전압 제어를 위해 사용되는 에러신호(error signal)가 출력 광신호의 트래픽 특성에 따라서 달라지기 때문에 버스트한 입력신호에 대한 시스템의 적응적 제어가 불가능하다. 본 발명은 이러한 종래 문제점을 해결하고자 하는 것으로, 광변조기의 출력광 신호의 일부를 피드백받아 전기적신호로 검출하고, 전기적 신호가 오프(OFF)일 때만 출력광의 세기를 선택적으로 측정하여(Low-level sampling) 이를 최소화함으로서 광신호의 트래픽 특성에 관계 없이 버스트 모드에서도 항상 높은 소광비를 유지하도록 동작하고 평균 출력광의 열화를 보상해주는 전기광학 광변조가 바이어스 안정화 방법을 제공한다.

    구동전압과손실을줄이기위한전기광학폴리머광도파로소자의구조

    公开(公告)号:KR100328814B1

    公开(公告)日:2002-08-27

    申请号:KR1019970071651

    申请日:1997-12-22

    Abstract: PURPOSE: An electric optical polymer lightwave device structure for reducing drive voltage and loss is provided to reduce drive voltage and insertion loss of an electric optical polymer lightwave device. CONSTITUTION: A taper lightwave of a vertical direction is formed at a region between a passive lightwave(4,5,6,7) of an input/output region of a lightwave and a modulation region(5,6,7). In order to make a waveguide mode(12) size of the lightwave of the input/output part be the same as an optical fiber, there are adjusted a waveguide width of the passive lightwave and a core height to minimize connection loss with the optical fiber.

    폴리머 도파로열 격자 파장 다중/역다중 광소자의 제조방법
    30.
    发明公开
    폴리머 도파로열 격자 파장 다중/역다중 광소자의 제조방법 失效
    聚合物波导波长复合/解复用光学元件的制造方法

    公开(公告)号:KR1020010016728A

    公开(公告)日:2001-03-05

    申请号:KR1019990031781

    申请日:1999-08-03

    Abstract: PURPOSE: A fabrication method of polymer arrayed waveguide wavelength multiplexing/demultiplexing optical element is provided to be simplify in its process by using polymer material and utilize a silicon nitride thin film as a dry etching mask, thereby reducing the insertion loss and cross talk rate of the elements. CONSTITUTION: A polymer waveguide lower clad layer(22) and a polymer waveguide core layer(24) are sequentially coated on a semiconductor substrate(20). Then, an insulation film pattern for an etching mask is formed on the resultant. Next, a portion of the polymer core layer(24) is etched to form a polymer waveguide pattern by using the insulation film pattern as a dry etching mask. Finally, a polymer waveguide upper clad layer(28) is formed on the resultant(20).

    Abstract translation: 目的:提供聚合物阵列波导复用/解复用光学元件的制造方法,通过使用聚合物材料简化其工艺过程,并利用氮化硅薄膜作为干蚀刻掩模,从而降低插入损耗和串扰率 元素。 构成:聚合物波导下包层(22)和聚合物波导芯层(24)依次涂覆在半导体衬底(20)上。 然后,在所得物上形成用于蚀刻掩模的绝缘膜图案。 接下来,通过使用绝缘膜图案作为干蚀刻掩模来蚀刻聚合物芯层(24)的一部分以形成聚合物波导图案。 最后,在所得的(20)上形成聚合物波导上包层(28)。

Patent Agency Ranking