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公开(公告)号：CN114175206A
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202080053876.6
申请日：2020-07-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/26 , H01J37/147
Abstract: 公开了检查系统和方法。检查系统可以包括被配置为提供第一着陆能量束的第一能量源和被配置为提供第二着陆能量束的第二能量源。检查系统还可以包括束控制器，该束控制器被配置为朝向相同的视场选择性地递送第一着陆能量束和第二着陆能量束中的一项，并且根据检查系统的操作模式在第一着陆能量束的和第二着陆能量束的递送之间切换。
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公开(公告)号：CN111681939A
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN202010663424.1
申请日：2016-07-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/147 , H01J37/06 , H01J37/12 , H01J37/141 , H01J37/145 , H01J37/28
Abstract: 提出了一种用于以高分辨率和高生产能力观察样本的多束装置。在该装置中，源转换单元通过使来自一个单电子源的平行初级电子束的多个小束偏转来形成该单电子源的多个且平行的图像，并且一个物镜将多个偏转的小束聚焦到样本表面上，并在样本表面上形成多个探测点。可移动聚光透镜用于使初级电子束准直，并改变多个探测点的电流，预小束形成部件弱化初级电子束的库仑效应，并且源转换单元通过最小化并补偿物镜和聚光透镜的离轴像差来最小化多个探测点的尺寸。
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公开(公告)号：CN111527582A
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN201880064414.7
申请日：2018-10-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/28
Abstract: 已经公开了一种用于多光束检查的多光束装置，其具有改进的源转换单元，该改进的源转换单元具有高电气安全性、机械可用性以及机械稳定性。该源转换单元包括具有多个图像形成元件的图像形成元件阵列、具有多个微补偿器的畸变补偿器阵列、以及具有多个预弯曲微偏转器的预弯曲元件阵列。在阵列中的每个中，相邻元件被放置在不同层中，并且一个元件阵列包括放置在不同层中的两个或更多个子元件。微补偿器的子元件可以具有不同的功能，诸如微透镜和微消象散器。
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公开(公告)号：CN119343738A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202380046126.X
申请日：2023-07-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/21 , H01J37/244 , H01J37/28
Abstract: 优化次级带电粒子收集效率的测量系统和方法包括：多射束检查装置(104)，其被配置为扫描(226)样品(230)并且包括透镜(242)；检测器(244)，其被配置为响应于扫描样品而接收多个次级带电粒子束(236,238,240)；以及控制器(296)，其包括通信地耦合到多射束检查装置和检测器通信的电路系统，其被配置为：聚焦透镜以调节次级束斑的尺寸，其中次级束斑由检测器上的多个次级带电粒子束形成；对于多个次级带电粒子束中的每个次级带电粒子束，使得每个次级带电粒子束的离群带电粒子不被检测器检测到；以及重新聚焦透镜以调节由检测器检测到的多个次级带电粒子束的部分的电流，其中离群带电粒子不对电流产生贡献。
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公开(公告)号：CN119314849A
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202411696033.4
申请日：2019-09-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/32 , G01N23/225 , G01N21/95
Abstract: 公开了一种改进的带电粒子束检查装置，并且更具体地，公开了一种包括改进的对准机制的粒子束检查装置。一种改进的带电粒子束检查装置可以包括第二电子检测器件，该第二电子检测器件用以在该对准模式期间生成多个次级电子束中的一个或多个束斑点的一个或多个图像。该束斑点图像可以被用来确定该多个次级电子束中的一个或多个次级电子束的对准特性，并且调节次级电子投影系统的配置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113892165B
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202080039403.0
申请日：2020-05-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 任伟明 , 刘学东 , 胡学让 , 陈仲玮 , M·G·M·J·玛森
Abstract: 公开了减轻多射束设备中的库仑效应的系统和方法。该多射束设备可以包括：带电粒子源，被配置为沿着初级光轴生成初级带电粒子束；第一孔阵列，该第一孔阵列包括第一多个孔，该第一多个孔具有形状并且被配置为生成源自初级带电粒子束的多个初级子束；聚光透镜，包括沿着初级光轴可调的平面；以及第二孔阵列，该第二孔阵列包括第二多个孔，该第二多个孔被配置为生成与多个子束相对应的探测子束，其中多个探测子束中的每个探测子束包括至少基于聚光透镜的平面的位置和第二孔阵列的特性的对应初级子束的带电粒子的部分。
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公开(公告)号：CN116864359A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202311033092.9
申请日：2018-09-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/12 , H01J37/147 , H01J37/28 , H01J37/06
Abstract: 本文涉及一种用于带电粒子束检查的样本预充电方法、设备和计算机可读介质。设备包括：带电粒子源，被配置为沿设备的主束轴发射带电粒子束；聚束透镜，被配置为使得束围绕主束轴集中；孔径；第一多极透镜；第二多极透镜；其中第一多极透镜相对于聚束透镜处于下游、并且相对于第二多极透镜处于上游；其中第二多极透镜相对于第一多极透镜处于下游、并且相对于孔径处于上游。
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公开(公告)号：CN116830236A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202180092944.4
申请日：2021-12-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/244
Abstract: 一种检测带电粒子的方法可以包括当初级带电粒子束沿着第一方向移动时，检测束强度；当初级带电粒子束沿着第二方向移动时，获取次级束点投射图案；以及基于所获取的次级束点投射图案来确定次级束点的参数。一种补偿检测器上的束点变化的方法可以包括获取检测器上的束点投射图案，确定束点投射图案的变化，以及基于该变化来调节检测器的检测器单元的参数。可以提供另一种用于相对于检测器的检测器单元来形成虚拟孔径的方法。
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公开(公告)号：CN115428170A
公开(公告)日：2022-12-02
申请号：CN202180027489.X
申请日：2021-04-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01L31/115 , H01L31/105 , H01J49/00 , H01J43/02
Abstract: 所公开的一些实施例包括电子检测器，电子检测器包括：具有第一部分和第二部分的第一半导体层；第二半导体层；第三半导体层；由第一半导体层、第二半导体层和第三半导体层形成的PIN区；被配置为在第一半导体层和第三半导体层之间施加反向偏置的电源；以及耗尽区，耗尽区通过反向偏置在PIN区内形成，并且耗尽区被配置为基于在耗尽区内捕获的多个信号电子的第一子集来生成检测器信号，其中第一半导体层的第二部分未被耗尽并且被配置为提供能量势垒以阻挡多个信号电子的第二子集，以及被配置为允许多个信号电子的第一子集穿过以到达耗尽区。
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公开(公告)号：CN113892165A
公开(公告)日：2022-01-04
申请号：CN202080039403.0
申请日：2020-05-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 任伟明 , 刘学东 , 胡学让 , 陈仲玮 , M·G·M·J·玛森
Abstract: 公开了减轻多射束设备中的库仑效应的系统和方法。该多射束设备可以包括：带电粒子源，被配置为沿着初级光轴生成初级带电粒子束；第一孔阵列，该第一孔阵列包括第一多个孔，该第一多个孔具有形状并且被配置为生成源自初级带电粒子束的多个初级子束；聚光透镜，包括沿着初级光轴可调的平面；以及第二孔阵列，该第二孔阵列包括第二多个孔，该第二多个孔被配置为生成与多个子束相对应的探测子束，其中多个探测子束中的每个探测子束包括至少基于聚光透镜的平面的位置和第二孔阵列的特性的对应初级子束的带电粒子的部分。
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