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公开(公告)号：CN112424903B
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN201980046684.X
申请日：2019-07-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了用于使用多光束设备进行图像增强的系统和方法。一种用于增强图像的方法包括通过使用多光束设备的同轴光束获取第一扫描电子显微镜(SEM)图像。该方法还包括通过使用多光束设备的离轴光束获取第二SEM图像。该方法还包括通过使用第一SEM图像作为参考来增强第二SEM图像而提供经增强图像。经增强图像可以通过使用从第一图像所提取的一个或多个特征来增强第二SEM图像而被提供或使用第一SEM图像作为参考来对第二SEM图像进行数值增强而被提供。
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公开(公告)号：CN113272736B
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN201980087239.8
申请日：2019-12-19
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供了用于使用目标设计图案来进行管芯内量测的系统和方法。这些系统和方法包括：基于表示集成电路的设计的设计数据来选择目标设计图案；提供指示目标设计图案的设计数据，以使能够将从目标设计图案导出的设计数据添加到第二设计数据，其中第二设计数据基于第一设计数据。系统和方法还可以包括：使从第二设计数据导出的结构被印刷在晶片上；使用带电粒子束工具来检查晶片上的结构；以及基于检查来标识量测数据或过程缺陷。在一些实施例中，系统和方法还包括：基于经标识的量测数据或过程缺陷来调整带电粒子束工具、第二设计数据、扫描仪或光刻设备。
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公开(公告)号：CN119422164A
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202380048960.2
申请日：2023-07-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G06T7/00 , G06T7/32 , G06T7/33 , G01R31/303
Abstract: 公开了一种用于检查图像的图像对准的改进方法和系统。该改进方法和系统包括基于在感兴趣区域处将密度函数应用于样品图像和参考图像两者的对准不良率。诸如样品和参考图像的交叉相关之类的一个或多个度量可以被用于从密度函数图像导出基于区域密度的对准不良率。该指数可以产生对噪声和其他误差稳定的唯一对准解。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114424316B
公开(公告)日：2024-12-10
申请号：CN202080060496.5
申请日：2020-08-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/26 , H01J37/28 , H01J37/304
Abstract: 公开了用于图像增强的系统和方法。一种用于增强图像的方法，可以包括接收在成像过程中针对多射束系统的射束的性能度量的记录((502),(506))，每个记录与射束相关联。该方法还可以包括基于使用记录的一部分(502)所确定的基准值(504)，来确定射束的异常是否发生。该方法还可以包括响应于异常已经发生的确定来提供异常指示。
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公开(公告)号：CN117501184A
公开(公告)日：2024-02-02
申请号：CN202280043060.4
申请日：2022-05-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 为了监测半导体制造工艺的变化，基于SEM图像确定相同图案特征的轮廓，并且对轮廓进行聚集和统计分析以确定特征的变化。一些轮廓是异常值，并且轮廓的聚集和平均“隐藏”这些异常值。本公开描述了在对某些异常值轮廓进行聚集和统计分析之前对它们进行滤除。可以在多个级别上执行滤除，诸如基于检查轮廓组中的轮廓上的各个点，或者基于检查轮廓组中的轮廓的总体几何形状。
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公开(公告)号：CN114556515A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202080071919.3
申请日：2020-08-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了一种用于增强图像的改进装置和方法，更具体地，公开了一种用于通过多带电粒子束检查中的串扰消除来增强图像的装置和方法。一种用于增强图像的方法包括从多束检查系统的检测器获取多个图像信号的第一图像信号。第一图像信号对应于来自检测器的第一区域的检测信号，其中第一二次电子束的电子和第二二次电子束的电子入射在该第一区域上。该方法还包括使用第一图像信号和与第一二次电子束和第二二次电子束相关联的束强度之间的关系，从第一图像信号中减少源自第二二次电子束的串扰污染。该方法还包括在减少后，生成对应于第一二次电子束的第一图像。
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公开(公告)号：CN113272736A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN201980087239.8
申请日：2019-12-19
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供了用于使用目标设计图案来进行管芯内量测的系统和方法。这些系统和方法包括：基于表示集成电路的设计的设计数据来选择目标设计图案；提供指示目标设计图案的设计数据，以使能够将从目标设计图案导出的设计数据添加到第二设计数据，其中第二设计数据基于第一设计数据。系统和方法还可以包括：使从第二设计数据导出的结构被印刷在晶片上；使用带电粒子束工具来检查晶片上的结构；以及基于检查来标识量测数据或过程缺陷。在一些实施例中，系统和方法还包括：基于经标识的量测数据或过程缺陷来调整带电粒子束工具、第二设计数据、扫描仪或光刻设备。
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公开(公告)号：CN112424903A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201980046684.X
申请日：2019-07-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了用于使用多光束设备进行图像增强的系统和方法。一种用于增强图像的方法包括通过使用多光束设备的同轴光束获取第一扫描电子显微镜(SEM)图像。该方法还包括通过使用多光束设备的离轴光束获取第二SEM图像。该方法还包括通过使用第一SEM图像作为参考来增强第二SEM图像而提供经增强图像。经增强图像可以通过使用从第一图像所提取的一个或多个特征来增强第二SEM图像而被提供或使用第一SEM图像作为参考来对第二SEM图像进行数值增强而被提供。
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