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公开(公告)号：CN112204694A
公开(公告)日：2021-01-08
申请号：CN201980035698.1
申请日：2019-05-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： E·P·斯马克曼 , 阿尔伯特斯·维克特·盖拉达斯·曼格纳斯 , M·R·古森
IPC: H01J37/317 , H01J37/28 , H01J37/12 , H01J37/147 , H01J37/073
Abstract: 描述一种电子束设备，所述设备包括：‑电子束源，所述电子束源被配置成产生电子束；‑束转换单元，所述束转换单元包括：‑孔阵列，所述孔阵列被配置成从所述电子束产生多个子束；‑偏转器单元，所述偏转器单元被配置成使得所述多个子束中的一组或更多组偏转；‑投影系统，所述投影系统被配置成将所述多个子束投影至物体上，其中所述偏转器单元被配置成使得所述多个子束中的所述一组或更多组偏转以便以不同的入射角照射所述物体，一组中的每个子束在所述物体上具有大体上相同的入射角。
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公开(公告)号：CN109564390A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780045011.3
申请日：2017-06-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 描述了一种配置成处理多个衬底的直接写入曝光设备，所述设备包括：衬底保持器，所述衬底保持器配置成保持具有可用图案化区域的衬底；图案形成系统，所述图案形成系统配置成将不同图案投影到所述衬底上；处理系统，所述处理系统配置成：确定待施加于所述多个衬底的第一衬底上的一个或更多个图案的第一组合；和确定待施加于所述多个衬底的后续第二衬底上的一个或更多个图案的不同的第二组合。
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公开(公告)号：CN118402033A
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202280082770.8
申请日：2022-11-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 任岩 , A·V·G·曼格努斯 , M·斯科特兹 , E·P·斯马克曼
IPC: H01J37/04
Abstract: 一种从带电粒子源束生成多个子束并将子束下行束引导向样品位置的带电粒子装置。该带电粒子装置包括带电粒子源、孔径阵列和带电粒子光学部件。带电粒子源包括沿着发散路径发射带电粒子源束的发射器。孔径阵列被定位于发散路径中，因此孔径阵列从源束生成子束。带电粒子光学部件作用于孔径阵列上游的源束上。带电粒子光学部件包括多极和/或带电粒子透镜。多极对源束进行操作，以改变发散路径在孔径阵列处的位置。多极可以改变发散路径在孔径阵列处的横截面形状。带电粒子光学透镜补偿发射器与孔径阵列之间的距离变化。
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公开(公告)号：CN116762152A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202180090368.X
申请日：2021-11-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： E·斯洛特 , A·V·G·曼格努斯 , E·P·斯马克曼 , 任岩 , M·斯科特兹
IPC: H01J37/304
Abstract: 一种带电粒子工具被配置为从带电粒子束生成多个子束，并且将子束向束下游引导向样品(600)位置，该工具、即带电粒子工具包括至少三个带电粒子光学组件(201、111、235、234)；检测器模块(240)；以及控制器。检测器模块被配置为响应于从样品位置的方向向束上游传播的带电粒子而生成检测信号。控制器被配置为在校准模式下操作该工具。带电粒子光学组件包括被配置为发射带电粒子束的带电粒子源201、以及被配置为生成子束的束生成器(111)。检测信号包含关于带电粒子光学组件中的至少两个带电粒子光学组件的对准的信息。带电粒子光学组件包括两个或更多个带电粒子光学元件，该两个或更多个带电粒子光学元件包括可以监测带电粒子的孔径阵列。
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公开(公告)号：CN109478024B
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN201780044755.3
申请日：2017-06-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种曝光设备被描述，所述曝光设备包括：衬底保持器，构造成支撑衬底；图案形成装置，配置成提供根据所期望的图案来调制的辐射，所述图案形成装置包括多个辐射源模块的阵列，所述多个辐射源模块的阵列被配置成将已调制的辐射投影到所述衬底上多个曝光区的相应的阵列上；分布式处理系统，配置成处理与投影相关的数据以实现将所期望的图案投影至所述衬底上，所述分布式处理系统包括至少一个中央处理单元(1700)及与相应的多个辐射源模块相关联的多个模块处理单元(1710)。
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公开(公告)号：CN111868906A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201980019656.9
申请日：2019-02-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·O·波利亚科夫 , E·P·斯马克曼 , A·尼基帕罗夫 , 阿尔伯特斯·维克特·盖拉达斯·曼格纳斯
Abstract: 描述了一种检查系统，该系统包括：‑选择性沉积工具，该选择性沉积工具被配置成：‑接收样本；‑将材料选择性地沉积到样本上；‑检查工具，该检查工具被配置成：‑对设置有所沉积的材料的样本执行检查过程；‑外壳，该外壳被配置成包围封闭选择性沉积工具和检查工具。
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公开(公告)号：CN113424290B
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN202080014117.9
申请日：2020-02-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·B·汉森 , 任岩 , M·R·古森 , A·V·G·曼格努斯 , E·P·斯马克曼
Abstract: 在各方面中尤其地公开了一种带电粒子检查系统，其包括吸收部件和可编程带电粒子反射镜板，该可编程带电粒子反射镜板被布置为修改束中电子的能量分布并且对束进行整形以减少电子的能量散布和束的像差，其中吸收部件包括限定腔的结构，该腔具有内部表明以及设置在内部表上的超材料吸收体。在操作中，腔沿着束路径的一部分延伸。在其他实施例中，超材料包括吸收结构集合，该吸收结构集合被配置为设置在透明导电层上的吸收结构。进一步，公开了一种使用这种吸收部件并且使用可编程带电粒子反射镜板的方法，其中这种可编程带电粒子反射镜板包括像素集合，该像素集合被配置为生成定制电场以对束进行整形。
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公开(公告)号：CN118251745A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202280053647.3
申请日：2022-05-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·范索伊斯特 , R·R·文斯特拉 , E·P·斯马克曼 , T·范祖芬 , A·V·G·曼格努斯
IPC: H01J37/073
Abstract: 本公开涉及一种带电粒子射束装置，被配置为朝向样品投射带电粒子射束。该带电粒子射束装置包括被配置为朝向样品投射相应带电粒子射束的多个带电粒子光学柱，其中每个带电粒子光学柱包括：带电粒子源，该带电粒子源被配置为朝向样品发射带电粒子射束，该带电粒子源被包括在源阵列中；物镜，该物镜包括静电电极，该静电电极被配置为朝向带电粒子射束引导样品；以及检测器，该检测器与物镜阵列相关联，该检测器被配置为检测从样品发射的带电粒子信号。物镜是带电粒子光学柱的射束最下游元件，该射束最下游元件被配置为影响朝向样品引导的带电粒子射束。
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公开(公告)号：CN113678225A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202080025747.6
申请日：2020-03-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·V·G·曼格努斯 , M·R·古森 , E·P·斯马克曼
IPC: H01J37/28 , H01J37/244
Abstract: 公开了在多射束装置中测量射束电流的系统和方法。该多射束装置可以包括带电粒子源，该带电粒子源被配置为生成初级带电粒子束，以及孔径阵列。孔径阵列可以包括多个孔径，该多个孔径被配置为由初级带电粒子束形成多个子束；以及检测器，该检测器包括用以检测辐射孔径阵列的初级带电粒子束的至少一部分的电流的电路系统。测量射束电流的方法可以包括：将初级带电粒子束辐射在孔径阵列上并且检测初级带电粒子束的至少一部分的电流。
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公开(公告)号：CN108701576B
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN201680082561.8
申请日：2016-12-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·卡斯川普 , J·C·H·缪尔肯斯 , M·A·范登布林克 , 约瑟夫·帕卓斯·亨瑞克瑞·本叔普 , E·P·斯马克曼 , T·朱兹海妮娜 , C·A·维索尔伦
IPC: H01J37/065 , H01J37/15
Abstract: 本发明公开了一种电子束检查设备，该设备包括：多个电子束柱(600)，每个电子束柱配置成提供电子束且检测来自物体的散射电子或二次电子；和致动器系统(600，610)，其配置成使所述电子束柱中的一个或更多个相对于所述电子束柱中的另外的一个或更多个移动(640，630)。所述致动器系统可包括多个第一可移动结构，所述多个第一可移动结构与多个第二可移动结构至少部分地重叠，所述第一可移动结构和所述第二可移动结构支撑所述多个电子束柱。
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