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公开(公告)号：CN118805079A
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202380023778.1
申请日：2023-02-03
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G01N21/95 , H01L21/66 , G06T7/00 , G06V10/764 , G06V10/774 , G01N23/2251
Abstract: 自动缺陷分类方法可以包括从检查工具获取包括候选缺陷集的图像数据集，制定多个缺陷检查类型和多个滋扰检查类型，并使用机器学习分类器根据缺陷检查类型和滋扰检查类型来对候选缺陷集进行分类。在分类方法中使用多个滋扰检查类型来降低滋扰率。
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公开(公告)号：CN115023786A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202080094170.4
申请日：2020-12-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/02 , H01J37/26 , H01J37/317
Abstract: 提供了一种用于在带电粒子系统中使用电压对比进行缺陷检查的系统和方法。该系统和方法的一些实施例包括：将载物台定位在第一位置处，以使得多个射束中的第一射束能够在第一时间扫描晶片的第一表面区域以生成与第一表面区域相关联的第一图像；将载物台定位在第二位置处，以使得多个射束中的第二射束能够在第二时间扫描第一表面区域以生成与第一表面区域相关联的第二图像；以及将第一图像与第二图像进行比较，以使得能够检测是否在晶片的第一表面区域中识别出缺陷。
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公开(公告)号：CN118235159A
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202280075138.0
申请日：2022-10-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 用于图像分析的系统和方法包括：获取均与受检样品相关联的多个模拟图像和多个非模拟图像，多个模拟图像中的至少一个模拟图像是样品上未被多个非模拟图像中的任一个非模拟图像成像的位置的模拟图像；以及使用多个模拟图像和多个非模拟图像作为输入来训练无监督域自适应技术，以减小多个模拟图像的第一强度梯度与多个非模拟图像的第二强度梯度之间的差异。
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公开(公告)号：CN115552455A
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN202180033628.X
申请日：2021-05-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种用于增强带电粒子束检查系统中的检查图像的改进方法和装置。一种用于增强检查图像的改进方法，包括：获取分别以第一焦点和第二焦点拍摄的样品的多个堆叠层的第一图像和第二图像；将第一图像的第一片段与多个堆叠层中的第一层相关联；以及将第二图像的第二片段与多个堆叠层中的第二层相关联；基于与第一层相对应的第一参考图像来更新第一片段；并且基于与第二层相对应的第二参考图像来更新第二片段；以及组合所更新的第一片段和所更新的第二片段以生成包括第一层和第二层的组合图像。
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公开(公告)号：CN115104122A
公开(公告)日：2022-09-23
申请号：CN202180014689.1
申请日：2021-01-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了一种用于在多带电粒子束检查系统中从检查图像提取图案轮廓信息的改进的设备和方法。一种用于从检查图像提取图案轮廓信息的改进方法，包括：根据从带电粒子束检查系统获得的检查图像来标识在检查图像中部分重叠的第一图案和第二图案。该方法还包括：通过从检查图像中去除与第二图案相对应的图像区域来生成第一分离图像。第一分离图像包括第一图案，当去除与第二图案相对应的图像区域时，第一图案的第一部分被去除。该方法还包括：基于与第一图案相对应的第一参考图像，更新第一分离图像以包括表示第一图案的被去除的第一部分的图像数据。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112955926A
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201980069881.3
申请日：2019-09-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种将晶片图像与参考图像对准的方法，包括：在晶片图像上搜索目标参考位置，以将晶片图像与参考图像对准；并且响应于确定目标参考位置不存在：在晶片图像上定义当前锁定位置和包围当前锁定位置的区域；计算当前锁定位置的对准评分；将当前锁定位置的对准评分与先前关于将晶片图像与参考图像对准而选择的位置的存储的对准评分进行比较；并且基于所述比较将晶片图像与所述参考图像对准。
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公开(公告)号：CN113924525B
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202080042327.9
申请日：2020-03-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F1/36 , G01N21/956 , G03F1/84 , G03F7/20
Abstract: 本文中描述了一种用于确定对掩模的特征的校正的方法。该方法包括：获取(i)用于设计布局的图案组，以及(ii)用于设计布局的、使用在图案化工艺中使用的掩模成像的衬底的缺陷检查数据；基于缺陷检查数据，确定与图案组相关联的缺陷图，其中缺陷图包括与设计布局的其他图案相比被印刷在衬底上的概率相对较高的辅助特征的位置；以及经由使用与缺陷图相关联的数据模拟光学邻近校正过程，确定对掩模的特征的校正。
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公开(公告)号：CN117751379A
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202280048219.1
申请日：2022-06-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了一种用于校正检查图像的失真的改进的系统和方法。一种用于校正检查图像的失真的改进方法包括获取检查图像，基于与检查图像相对应的参考图像来对准检查图像的多个图像块，通过机器学习模型评估多个图像块中的每个图像块与参考图像的对应图像块之间的对准，基于与检查图像相对应的参考图像来确定检查图像的多个图像块的局部对准结果，基于局部对准结果来确定对准模型，以及基于对准模型来校正检查图像的失真。
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公开(公告)号：CN114787713A
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN202080075537.8
申请日：2020-10-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于训练机器学习模型以产生预测的被测量图像的方法，包括：获得(a)与参考设计图案相关联的输入目标图像，和(b)与印制于衬底上的指定设计图案相关联的参考测量图像，其中所述输入目标图像与所述参考测量图像为未对准的图像；和通过硬件计算机系统且使用所述输入目标图像训练所述机器学习模型以产生预测的被测量图像。
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公开(公告)号：CN113924525A
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN202080042327.9
申请日：2020-03-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F1/36 , G01N21/956 , G03F1/84 , G03F7/20
Abstract: 本文中描述了一种用于确定对掩模的特征的校正的方法。该方法包括：获取(i)用于设计布局的图案组，以及(ii)用于设计布局的、使用在图案化工艺中使用的掩模成像的衬底的缺陷检查数据；基于缺陷检查数据，确定与图案组相关联的缺陷图，其中缺陷图包括与设计布局的其他图案相比被印刷在衬底上的概率相对较高的辅助特征的位置；以及经由使用与缺陷图相关联的数据模拟光学邻近校正过程，确定对掩模的特征的校正。
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