COMPUESTO DE ESTROBILURINA PARA INDUCIR RESISTENCIA FRENTE A HONGOS NOCIVOS

    公开(公告)号:PE08642007A1

    公开(公告)日:2007-09-17

    申请号:PE0012982006

    申请日:2006-10-25

    Applicant: BASF AG

    Abstract: SIENDO UN COMPUESTO DE FORMULA (I), DONDE: X ES HALOGENO, ALQUILO C1-C4 o TRIFLUOROMETILO; m ES 0 o 1: Q ES C(=CH-CH3)-COOCH3, C(=CH-OCH3)-COOCH3, C(=N-OCH3)-CONHCH3, C(=N-OCH3)-COOCH3, N(-OCH3)-COOCH3, O UN GRUPO Q1 DONDE # ES PUNTO DE ENLACE CON EL ANILLO FENILO; A ES -O-B, -CH2O-B, -OCH2-B, -CH2S-B, -CH=CH-B, -C=-C-B, -CH2O-N=C(R1)-B, -CH2S-N=C(R1)-B, -CH2O-N=C(R1)-CH=CH-B, o -CH2O-N=C(R1)-C(R2)=N-OR3; B ES FENILO, NAFTILO, HETEROARILO o HETEROCICLILO DE 5 o 6 MIEMBROS, QUE COMPRENDEN 1, 2 o 3 ATOMOS DE N Y/O UN ATOMO DE O o DE S o 1 o 2 ATOMOS DE O Y/O DE S, CUYOS SISTEMAS DE ANILLO NO LLEVAN SUSTITUYENTE O ESTAN SUSTITUIDOS POR 1, 2 o 3 GRUPOS Ra; Ra ES CIANO, NITRO, AMINO, HALOGENO, ALQUILO C1-C6, ALCOXI C1-C6, ALQUILTIO C1-C6, FENOXI, ENTRE OTROS; R1 ES H, CIANO, ALQUILO C1-C4, HALOALQUILO C1-C4, CICLOALQUILO C3-C6, ALCOXI C1-C4, o ALQUILTIO C1-C4; R2 ES FENILO, HETEROARILO DE 5 o 6 MIEMBROS, ENTRE OTROS, CUYOS SISTEMAS DE ANILLO NO LLEVAN SUSTITUYENTE O ESTAN SUSTITUIDOS POR 1, 2 o 3 RADICALES Ra; Y, R3 ES H, ALQUILO C1-C6, ALQUENILO C2-C6 o ALQUINILO C2-C6; o SIENDO UN COMPUESTO DE ESTROBILURINA SELECCIONADO DE METIL (2-CLORO-5-[1-(3-METILBENCILOXIIMINO)ETIL]BENCIL)CARBAMATO o METIL (2-CLORO-5-[1-(6-METILPIRIDIN-2-ILMETOXIIMINO)ETIL]BENCIL)CARBAMATO. EL COMPUESTO DE FORMULA (I) ES UNO DE AZOXISTROBINA, PIRACLOSTROBINA, PICOXISTROBINA, KRESOXIM-METILO, DIMOXISTROBINA, ORISASTROBINA, METIL 2-(ORTO-((2,5-DIMETILFENILOXIMETILENO)FENIL)-3-METOXIACRILATO, ENTRE OTROS

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