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公开(公告)号：JP2017125182A
公开(公告)日：2017-07-20
申请号：JP2016243826
申请日：2016-12-15
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 【課題】溶媒としてPGMEA等を用いることができ、エッジリンス性、溶媒耐性、エッチング耐性、耐熱性及び埋め込み性に優れるレジスト下層膜を形成できるレジスト下層膜形成用重合体並びにレジスト下層膜形成用組成物の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は下記式(1)で表される第1繰り返し単位を有するレジスト下層膜形成用重合体である。下記式(1)中、Ar 1 、Ar 2 及びAr 3 は、それぞれ独立して、置換又は非置換の炭素数6〜30のアレーンジイル基である。R 1 は、置換又は非置換の炭素数1〜30の2価の炭化水素基である。nは、0又は1である。R 2 は、水素原子、置換若しくは非置換の炭素数1〜10のアルキル基又は置換若しくは非置換の炭素数6〜30のアリール基である。R 3 は、置換又は非置換の炭素数6〜30の1価の芳香族炭化水素基である。R 4 は、水素原子又は置換若しくは非置換の炭素数1〜30の1価の炭化水素基である。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2017020992A
公开(公告)日：2017-01-26
申请号：JP2015141198
申请日：2015-07-15
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/26 , G01N23/22 , G01N23/223 , G01N1/28
Abstract: 【課題】有機膜の分析精度に優れ、かつ簡便に微量成分を測定できる分析方法を提供する。 【解決手段】、基板上の有機膜表面に液滴を載置する工程、液滴を有機膜と接するように基板上を移動させる工程、及び移動後の液滴が含有する成分を分析する工程を備え、載置工程において載置する液滴として、有機膜に含まれる成分を溶解又は分散可能な液滴を用いる。有機膜の主成分が、アクリル系樹脂、ノボラック系樹脂、レゾール系樹脂、スチレン系樹脂、アセナフチレン系樹脂、インデン系樹脂、アリーレン系樹脂、トリアジン系樹脂、カリックスアレーン系樹脂、フラーレン系樹脂、ピレン系樹脂、分子量が100以上2,000以下の芳香環含有化合物又はこれらの組み合わせであるとよい。有機膜の主成分がシリコーン系樹脂であるとよい。 【選択図】なし
Abstract translation: 有机膜的一个很好的分析精度，并简单地提供一种能够测量痕量组分的分析方法。 将所述液滴在基板上的有机膜的表面上的步骤中，处理过程移到在接触基板的液滴和有机层，和移动的分析组分的液滴的包括以下步骤的 所提供的，如在放置安装步骤中，使用包含在所述有机膜上可溶或可分散的液滴组分的液滴。 有机膜，丙烯酸类树脂，酚醛清漆树脂，甲阶酚醛树脂，苯乙烯树脂，苊烯树脂，茚树脂，亚芳基树脂，三嗪树脂，杯芳烃树脂的主要成分，基于富勒烯类树脂，芘 树脂中，分子量可以为2,000或更小的含芳环的化合物或它们的组合100。 有机薄膜可以的主要成分是有机硅树脂。 系统技术领域
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公开(公告)号：JPWO2019049795A1
公开(公告)日：2020-11-19
申请号：JP2018032434
申请日：2018-08-31
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/26 , G03F7/20 , H01L21/027 , C08G83/00 , C09D201/02
Abstract: 溶媒耐性を維持しつつ、平坦性、ウェット剥離耐性及びパターンの曲り耐性に優れる膜を形成できる組成物、膜、膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法の提供を目的とする。本発明は、下記式(1)で表される基を有し、分子量が200以上であり、炭素原子の含有率が40質量%以上である化合物と、溶媒とを含有する組成物である。下記式(1)中、R 1 及びR 2 は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数1〜20の1価の炭化水素基若しくは炭素数1〜20の1価のフッ素化炭化水素基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3〜20の脂環構造の一部である。Ar 1 は、環員数6〜20のアレーン又はヘテロアレーンから(n+3)個の水素原子を除いた基である。Xは、酸素原子、−CR 3 R 4 −、−CR 3 R 4 −O−又は−O−CR 3 R 4 −である。
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公开(公告)号：JP6550760B2
公开(公告)日：2019-07-31
申请号：JP2015012827
申请日：2015-01-26
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/26 , H01L21/027 , C08L101/00 , C08K5/13 , G03F7/11
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公开(公告)号：JP2016138945A
公开(公告)日：2016-08-04
申请号：JP2015012827
申请日：2015-01-26
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/26 , H01L21/027 , C08L101/00 , C08K5/13 , G03F7/11
Abstract: 【課題】レジスト下層膜のクラックを低減でき、かつ保存安定性に優れる多層レジストプロセス用レジスト下層膜形成組成物、及びレジスト下層膜の形成方法を提供することを目的とする。 【解決手段】本発明は、重合体、下記式(1)で表される2以上の第1部分構造を有する架橋剤、及び溶媒を含有し、上記重合体の含有量が10質量%以上である多層レジストプロセス用レジスト下層膜形成組成物である。式(1)中、R 1 は、−OH又は−R A −O−R B である。R A は、炭素数1〜20の2価の炭化水素基である。R B は、炭素数1〜20の1価の炭化水素基である。nは、1〜12の整数である。nが2以上の場合、複数のR 1 は同一でも異なっていてもよく、R A 及びR B も同一でも異なっていてもよい。R 2 は、炭素数1〜20の1価の有機基である。mは、0〜11の整数である。pは、0〜3の整数である。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于形成多层抗蚀剂工艺的抗蚀剂底层膜的组合物，其可以减少抗蚀剂底衬层中的裂纹并具有优异的储存稳定性，以及形成抗蚀剂底层膜的方法。溶液：组合物 用于形成多层抗蚀剂工艺的抗蚀底膜包括聚合物，具有至少两个由下式（1）表示的第一部分结构的交联剂和溶剂，并且含有10质量％以上的聚合物。 在式（1）中，R表示-OH或-R-O-R; R表示碳原子数为1〜20的二价烃基; R表示具有1〜20个碳原子的一价烃基; n表示1〜12的整数，当n为2以上时，多个R may可以相同也可以不同，并且Rand R may彼此相同或不同; R表示具有1〜20个碳原子的一价有机基团; m表示0〜11的整数。 p表示0〜3的整数
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