印刷电路用铜箔
    21.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103958743A

    公开(公告)日:2014-07-30

    申请号:CN201280054151.4

    申请日:2012-10-31

    Abstract: 本发明涉及一种印刷电路用铜箔,其在铜箔的表面形成铜的一次粒子层后,在该一次粒子层上形成由铜、钴及镍构成的3元系合金的二次粒子层,其特征在于,粗化处理面的一定区域的利用激光显微镜观察到的高度直方图的平均值为1500以上。还提供根据技术方案1所述的印刷电路用铜箔,其特征在于,所述铜的一次粒子层的平均粒径为0.25-0.45μm,由铜、钴及镍构成的3元系合金所构成的二次粒子层的平均粒径为0.35μm以下。本发明提供一种通过在铜箔的表面形成铜的一次粒子层后,在其上形成由镀铜-钴-镍合金构成的二次粒子层,将粗化处理面的利用激光显微镜观察到的高度直方图的平均值设为1500以上,从而能够减少来自铜箔的掉粉的产生,提高剥离强度并且提高耐热性的印刷电路用铜箔。

    表面处理铜箔、附载体铜箔、积层板、印刷布线板、电子机器、以及印刷布线板的制造方法

    公开(公告)号:CN104427758B

    公开(公告)日:2018-06-29

    申请号:CN201410412078.4

    申请日:2014-08-20

    Abstract: 本发明公开了表面处理铜箔、附载体铜箔、积层板、印刷布线板、电子机器、以及印刷布线板的制造方法。该表面处理铜箔是通过粗化处理而在一个铜箔表面及/或两个铜箔表面形成粗化粒子,粗化处理表面的利用接触式粗糙度计所测得的TD的十点平均粗糙度Rz为0.20~0.80μm,粗化处理表面的MD的60度光泽度为76~350%,粗化粒子的表面积A与从铜箔表面侧俯视粗化粒子时所获得的面积B的比A/B为1.90~2.40,粗化处理表面含有选自由Ni、Co所组成的群中的任一种以上的元素,在粗化处理表面含有Ni的情况下,Ni的附着量为1400μg/dm2以下,在粗化处理表面含有Co的情况下,Co的附着量为2400μg/dm2以下。其对于使该铜箔与树脂粘接并通过蚀刻去除该铜箔后的树脂而言,可实现优异的透明性。

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