表面处理铜箔、附载体铜箔、积层板、印刷布线板、电子机器、以及印刷布线板的制造方法

    公开(公告)号:CN104427757B

    公开(公告)日:2018-08-28

    申请号:CN201410410740.2

    申请日:2014-08-20

    Abstract: 本发明公开了表面处理铜箔、附载体铜箔、积层板、印刷布线板、电子机器、以及印刷布线板的制造方法。本发明的表面处理铜箔是通过粗化处理而在一个铜箔表面及/或两个铜箔表面形成粗化粒子,关于粗化处理表面的所述粗化粒子,长径为100nm以下的粗化粒子每单位面积形成有50个/μm2以上,粗化处理表面的MD的60度光泽度为76~350%,粗化处理表面含有选自由Ni、Co所组成的群中的任一种以上的元素,在粗化处理表面含有Ni的情况下,Ni的附着量为1400μg/dm2以下,在粗化处理表面含有Co的情况下,Co的附着量为2400μg/dm2以下。本发明提供一种与树脂良好地粘接,且通过蚀刻而去除铜箔后的树脂的透明性优异,信号的传输损耗少的表面处理铜箔及使用其的积层板。

    轧制铜箔
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104511479A

    公开(公告)日:2015-04-15

    申请号:CN201410667683.6

    申请日:2014-09-30

    CPC classification number: B21B1/40 C22F1/08 H05K1/09

    Abstract: 本发明涉及轧制铜箔、使用其的覆铜层叠板、印刷布线板、电子设备、电路连接构件的制造方法和电路连接构件。本发明提供一种蚀刻性、弯曲性、与树脂的密合性、通过蚀刻除去铜箔之后的树脂的透明性都优秀的轧制铜箔、覆铜层叠板以及印刷布线板。该轧制铜箔包括99.9%以上的铜,在单面或两面形成镀覆层,沿着轧制铜箔的轧制直角方向镀覆层表面的偏度Rsk为-0.35~0.53,分别使所述轧制铜箔的所述镀覆层侧贴合于聚酰亚胺树脂膜的两面之后通过蚀刻除去轧制铜箔,隔着聚酰亚胺树脂膜用CCD摄像机对印刷物进行摄影,此时,由Sv=(ΔB×0.1)/(t1-t2)所定义的Sv成为3.0以上。

    轧制铜箔
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104511479B

    公开(公告)日:2017-01-11

    申请号:CN201410667683.6

    申请日:2014-09-30

    Abstract: 本发明涉及轧制铜箔、使用其的覆铜层叠板、印刷布线板、电子设备、电路连接构件的制造方法和电路连接构件。本发明提供一种蚀刻性、弯曲性、与树脂的密合性、通过蚀刻除去铜箔之后的树脂的透明性都优秀的轧制铜箔、覆铜层叠板以及印刷布线板。该轧制铜箔包括99.9%以上的铜,在单面或两面形成镀覆层,沿着轧制铜箔的轧制直角方向镀覆层表面的偏度Rsk为-0.35~0.53,分别使所述轧制铜箔的所述镀覆层侧贴合于聚酰亚胺树脂膜的两面之后通过蚀刻除去轧制铜箔,隔着聚酰亚胺树脂膜用CCD摄像机对印刷物进行摄影,此时,由Sv=(ΔB×0.1)/(t1-t2)所定义的Sv成为3.0以上。

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