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公开(公告)号:CN103998360B
公开(公告)日:2016-07-06
申请号:CN201280025418.7
申请日:2012-05-25
Applicant: 阿德文尼拉企业有限公司
Inventor: E.里亚博瓦
CPC classification number: B05C13/02 , B05C15/00 , B05D1/005 , B05D1/18 , B05D3/0263 , B05D3/065 , B05D3/142 , Y10T428/24322 , Y10T428/24355 , Y10T428/24364 , Y10T428/24521 , Y10T428/24612 , Y10T428/24942 , Y10T428/249953
Abstract: 公开了均匀地涂覆物体的涂覆设备和方法。所述系统包括预处理单元、第一加工单元、第一后处理单元和一个或多个各自配置为与物体接合和围或绕两个或更多个轴旋转所述物体的涂覆设备。在所述系统中使用的涂覆设备包括:第一万向节,其连接到第一机构以围或绕第一轴旋转所述第一万向节;第二万向节,其连接到所述第一万向节以允许围或绕第二轴旋转;第三万向节,其连接到所述第二万向节以允许围或绕第三轴旋转。第二机构连接到所述第二万向节以围或绕所述第二轴旋转所述第二万向节,且第三机构连接到所述第三万向节以围或绕所述第三轴旋转所述第三万向节。物体支架连接到所述第三万向节。其中所述物体支架可围或绕所述垂直、第二和第三轴旋转。
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公开(公告)号:CN102218832B
公开(公告)日:2015-04-22
申请号:CN201110065538.7
申请日:2011-03-11
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor: 梅森谦一
IPC: B29C71/04
CPC classification number: B29C59/14 , B05D3/0426 , B05D3/142 , B05D7/04 , B05D2252/02 , B05D2252/10 , B29C2035/0827 , B29C2035/1658
Abstract: 本发明公开了一种表面处理方法,所述表面处理方法能够通过当使用常压等离子体对聚酯基板的表面进行表面处理时防止低聚物随着从表面处理起的时间的推移渗出到基板表面上来连续并且有效地执行可以提高基板与功能层之间的粘附力的高质量表面处理。该方法包括以下步骤:用于通过常压等离子体对基板的表面进行处理的常压等离子体步骤;和用于在常压等离子体步骤之前将基板的表面加热到超过玻璃化转变温度Tg的温度的加热步骤。
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公开(公告)号:CN104488363A
公开(公告)日:2015-04-01
申请号:CN201280074359.2
申请日:2012-12-25
Applicant: 米提克斯有限公司
Inventor: 普拉文·米斯特里
IPC: H05H1/24
CPC classification number: D06M10/025 , B05D1/60 , B05D3/06 , B05D3/142 , B05D3/145 , D06M10/005 , H01H1/24 , H05H1/34
Abstract: 通过至少两个能量源在处理区域(124)中实现了材料处理,所述至少两个能量源诸如:(i)大气压(AP)等离子体;和(ii)紫外线(UV)激光,该紫外线激光被引导进入等离子体并且可选地被引导至被处理的材料。可以在处理之前分散前体材料(323),并且可以在处理之后分散精加工材料(327)。用于产生等离子体的电极(e1、e2)可以包括两个间隔开的辊(212/214;412/414;436/438)。与电极辊(412/414)相邻的轧辊(416/418;436/438)限定半气密的腔(440),并且可以具有金属外层(437/439)。松散纤维和易碎膜(504、506)可以被支撑在载体膜(502)上,其可以被掺杂。可以处理单独的纤维(508)。可以执行静电沉积。可以产生外形变化。公开了各种激光配置和参数。
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公开(公告)号:CN103764303A
公开(公告)日:2014-04-30
申请号:CN201280041616.2
申请日:2012-08-27
Applicant: SEB公司
IPC: B05D5/08
CPC classification number: B05D5/083 , B05D1/62 , B05D3/142 , B05D5/08 , B05D7/52 , B05D7/54 , B05D7/56
Abstract: 本发明的一个主题是包含具有接触表面(21)的载体(2)的用具(1),其至少部分是金属的且被基于氟碳树脂的不粘涂层(3)覆盖。所述接触表面(21)包含通过等离子体化学激活的中间层(210)。本发明的另一个主题是制备所述用具(1)的方法。
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公开(公告)号:CN102791388A
公开(公告)日:2012-11-21
申请号:CN201180012750.5
申请日:2011-03-08
Applicant: 欧司朗光电半导体有限公司
CPC classification number: B05D1/60 , B05D1/62 , B05D3/142 , H01L51/5253
Abstract: 提出了一种用于在至少一个部件(1)的至少一个表面(11)上制造派瑞林覆层(2)的方法,其中提供具有派瑞林单体的第一气体(4),并且通过借助第一喷嘴(3)将具有所述派瑞林单体的所述第一气体(4)引导至所述至少一个表面(11)来将所述派瑞林单体沉积在所述部件(1)的所述至少一个表面(11)上,其中所述部件(1)设置在具有大气压的环境中。此外,提出了一种用于制造派瑞林覆层的装置。
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公开(公告)号:CN102137722A
公开(公告)日:2011-07-27
申请号:CN200780044753.0
申请日:2007-10-03
Applicant: 杨百翰大学
CPC classification number: B05D1/60 , B05D1/185 , B05D3/062 , B05D3/10 , B05D3/142 , B05D7/52 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C09D5/00 , Y10T428/31663
Abstract: 本发明公开了方法(100),该方法包括将第一硅烷沉积到表面(106)上和将第二硅烷沉积到第一硅烷(114)上,所述第一硅烷包括官能性连接基团和硅烷基团,且所述第二硅烷包括疏水性脂族基团和硅烷基团。本发明还公开了基于上述方法的组合物和助听装置。
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公开(公告)号:CN100557074C
公开(公告)日:2009-11-04
申请号:CN200480011126.3
申请日:2004-04-23
Applicant: 亚利桑那西格玛实验室公司
CPC classification number: B05D5/083 , B01D2325/48 , B05D1/60 , B05D1/62 , B05D3/0493 , B05D3/142 , B05D3/144 , B05D2201/00 , B05D2202/00 , B05D2203/00 , B05D2256/00 , C23C8/02 , C23C8/20 , C23C8/80 , C23C14/562 , C23C28/00 , C23C30/00 , D06M10/025 , D06M10/08 , D06M10/10 , D06M14/18 , D06M14/20 , D06M14/22 , D06M14/24 , D06M14/26 , D06M14/28 , D06M14/30 , D06M14/32 , D06M14/34 , D06M14/36 , D06M15/263 , D06M15/277 , D21H19/08 , D21H19/16 , D21H19/82
Abstract: 在等离子场(20)中预处理多孔基体(12),并且在真空汽相沉积室(10)中在多孔基体之上立刻闪蒸(22)、沉积并固化(24)功能化的单体。通过明智地控制工艺过程以便所得到的聚合物敷层以不延伸越过材料中的孔隙的超薄层(大约0.02-3.0μm)的方式粘附到单根纤维的表面,多孔基体(12)的多孔性基本未受影响,同时纤维和最终产品获得了希望的功能性。所得到的聚合物层还用于改善金属和陶瓷敷层的粘附力和耐久性。
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公开(公告)号:CN101111320A
公开(公告)日:2008-01-23
申请号:CN200680003765.4
申请日:2006-01-27
Applicant: 诺信公司
CPC classification number: C03C17/28 , B05B13/0431 , B05C5/0216 , B05C9/10 , B05D3/142 , B05D5/10 , B05D2203/35 , C03C17/002 , C03C2218/31
Abstract: 一种包括等离子体装置(24)和分配模块(26)的设备,该等离子体装置可操作成在部件(28)上产生等离子体处理表面,该分配模块可操作成将粘结剂/密封剂分配到等离子体处理表面上。
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公开(公告)号:CN1726097A
公开(公告)日:2006-01-25
申请号:CN200380106495.6
申请日:2003-12-15
Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司
CPC classification number: B05D7/04 , B05D1/42 , B05D3/029 , B05D3/067 , B05D3/08 , B05D3/142 , B05D3/144 , B05D5/00 , B05D5/04 , B05D5/12 , B05D7/02 , C08F285/00 , C08F287/00 , C08F291/18 , C08J7/18 , C08J2323/04 , C08J2323/10 , C09D4/00 , C09D5/1637 , C09D5/18 , C09D151/003 , C09D151/006 , C09D151/08 , Y10T428/31504 , C08L2666/02
Abstract: 本发明涉及一种在无机或有机基材上形成功能层的方法,其特征在于,其中a)在无机或有机基材上进行低温等离子体、电晕放电、高能辐射和/或火焰处理,b)在无机或有机基质上施加熔融、溶液、悬浮或乳液形式的1)至少一种可反应引发剂或2)至少一种可反应引发剂和至少一种烯属不饱和化合物,其中该可反应引发剂和/或该烯属不饱和化合物载有至少一种功能调节基团用于调节被加工基材上获得的所需表面性能,和c)将该被涂覆的基料加热和/或用电磁波在调节所需表面性能的条件下辐射。本发明也涉及按该方法涂刷的基材及其用途。
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公开(公告)号:CN1689711A
公开(公告)日:2005-11-02
申请号:CN200510066910.0
申请日:2005-04-25
Applicant: 霍夫曼-拉罗奇有限公司
CPC classification number: B05D5/04 , B01L3/502707 , B01L2200/12 , B01L2300/161 , B05D3/14 , B05D3/142 , B05D3/144 , B05D7/22 , B05D7/222 , B05D7/227 , B05D2201/02 , G01N33/4915 , Y10T436/208339
Abstract: 本发明描述了用于在流体组件的内表面上生产亲水性聚合物薄膜的方法,其中首先将流体组件的内表面经受物理化学处理,尤其是等离子体处理,随后将内表面接触亲水性聚合物的溶液,然后以这样的方式用气态介质置换聚合物溶液,使得首先内表面保持被部分的聚合物溶液润湿,并且最后通过除去溶剂使亲水性聚合物的薄膜保留在流体组件的内表面上。在这种情况下使用的亲水性聚合物具有高于流体组件本身的内表面的表面润湿性的对于含水溶液的表面润湿性。此外,本发明描述了流体组件和系统以及分析系统,在其内表面上至少部分地存在亲水性聚合物的薄膜。
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