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公开(公告)号：CN103038708B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201180037433.9
申请日：2011-07-28
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 , ASML荷兰有限公司
Inventor： N·贝尔 , U·勒尔林 , O·纳特 , G·维蒂希 , T·劳弗尔 , P·屈尔兹 , G·林巴赫 , S·亨巴赫尔 , H·沃尔特 , Y-B-P·关 , M·豪夫 , F-J·施蒂克尔 , J·凡舒特
CPC classification number: G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
Abstract: 一种EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，具有至少两个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于在以EUV光的曝光功率对投影透镜曝光时，将分划板上的物场投影到衬底上的像场上，其中至少两个反射光学元件的主体包括具有与温度相关的热膨胀系数的材料，热膨胀系数在相应的零交叉温度处为零，并且其中零交叉温度之间的差异的绝对值大于6K。
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公开(公告)号：CN105044139A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201510303481.8
申请日：2009-03-03
Applicant: X射线光学系统公司
IPC: G01N23/223
CPC classification number: G21K1/06 , G01N23/20008 , G01N23/223 , G01N2223/076 , G01N2223/1003 , G01N2223/315 , G01N2223/423 , G21K2201/062 , G21K2201/064 , H05G1/04
Abstract: 一种用于使用X射线射束照射试样斑的X射线分析装置。提供了一种具有源斑的X射线管，由该源斑生成具有特征第一能量和韧致辐射能量的发散X射线射束；第一X射线光学器件接收发散的X射线射束并朝试样斑指引射束，同时使射束单色化；和接收发散的X射线射束并朝试样斑指引射束同时使射束单色化为第二能量的第二X射线光学器件。第一X射线光学器件使来自源斑的特征能量单色化并且第二X射线光学器件使来自源斑的韧致辐射能量单色化。X射线光学器件可以是弯曲的衍射光学器件，用于从X射线管接收发散的X射线射束并且将射束聚焦在试样斑上。还提供了检测以检测和测量在例如包括玩具和电子产品的产品中的各种毒素。
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公开(公告)号：CN103400627A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201310386155.9
申请日：2009-10-20
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: G21K1/062 , B82Y10/00 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067
Abstract: 一种用于紫外线灯的反射器，该紫外线灯可在基材处理设备中使用。该反射器包含在该紫外线灯长度上延伸的纵向带。该纵向带具有一弯曲反射表面并且包含数个通孔以将冷却剂气体导向该紫外线灯。在此亦描述使用具有反射器的紫外线灯模块的腔室以及紫外线处理的方法。
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公开(公告)号：CN101960338B
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN200980106463.3
申请日：2009-02-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： W·A·索尔 , V·Y·班尼恩 , J·H·J·莫尔斯 , M·M·J·W·范赫彭 , A·M·亚库林
CPC classification number: G02B5/208 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G02B5/22 , G02B5/26 , G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70575 , G03F7/70958 , G21K1/067 , G21K2201/061 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067
Abstract: 一种光学元件包括第一层(4)，所述第一层包括第一材料，并配置成对第一波长的辐射是基本上反射的并且对第二波长的辐射是基本上透明的。光学元件包括第二层(2)，所述第二层包括第二材料，并配置成对所述第二波长的辐射是基本上吸收的或透明的。光学元件包括第三层(3)，位于所述第一层和所述第二层之间的所述第三层包括第三材料，并对所述第二波长的辐射是基本上透明的并且配置成减小所述第二波长的辐射从所述第二层的面朝所述第一层的顶部表面的反射。第一层位于入射辐射的光学路径中相对于所述第二层的上游，以便提高所述第一波长的辐射的光谱纯度。
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公开(公告)号：CN102472976A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080030955.1
申请日：2010-06-01
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/70958 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G03F7/70316 , G03F7/70941 , G21K1/062 , G21K2201/064 , G21K2201/067
Abstract: 本发明涉及一种用于EUV波长范围的反射镜(1a；1b；1c)，所述反射镜包括基底(S)和层布置，其中所述层布置包括多个层子系统(P”、P”’)，每个层子系统由单独层的至少两个周期(P2、P3)的周期序列构成，其中所述周期(P2、P3)包括作为高折射率层(H”、H”’)和低折射率层(L”、L”’)的两个单独层，高折射率层(H”、H”’)和低折射率层(L”、L”’)由不同材料构成，并且在每个层子系统(P”、P”’)内具有恒定厚度(d2、d3)，所述恒定厚度(d2、d3)与相邻层子系统的周期的厚度偏离。所述反射镜的特征在于第二远离所述基底(S)的层子系统(P”)具有周期(P2)的序列，使得最远离基底(S)的层子系统(P”’)的第一个高折射率层(H”’)直接接续第二远离所述基底的层子系统(P”)的最后一个高折射率层(H”)，并且/或者，最远离所述基底(S)的层子系统(P”’)的周期(P3)的数目(N3)大于第二远离所述基底(S)的层子系统(P”)的周期(P2)的数目(N2)。本发明还涉及包括这种反射镜(1a；1b；1c)的用于微光刻的投射物镜，并且还涉及包括这种投射物镜的投射曝光设备。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102187441A
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN200980142397.5
申请日：2009-10-20
Applicant: 应用材料股份有限公司
IPC: H01L21/324 , H01L21/205
CPC classification number: G21K1/062 , B82Y10/00 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067
Abstract: 一种用于紫外线灯的反射器，其可使用于基材处理设备中。该反射器包含延伸该紫外线灯长度的纵向带。该纵向带具有一弯曲反射表面并且包含数个穿透孔洞以导引冷却剂气体朝向该紫外线灯。在此亦描述使用附有反射器的紫外线灯模块的腔室以及紫外线处理的方法。
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公开(公告)号：CN102065771A
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN200980123758.1
申请日：2009-06-17
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： R·普罗克绍
CPC classification number: A61B6/4035 , A61B6/032 , A61B6/4014 , A61B6/4042 , A61B6/4241 , A61B6/481 , A61B6/482 , A61B6/504 , A61B6/507 , A61B6/583 , G21K2201/062 , G21K2201/064
Abstract: 本发明涉及一种医学X射线检查装置和方法，用于执行含有显示k边吸收的材料的所关注目标的k边成像。为了允许使用不受提供很高的k速度能力限制的常规检测器技术，提出了一种方法，包括如下步骤：发射彩色X射线辐射(4；4a，4b)，用布拉格滤光器布拉格过滤所述彩色X射线辐射，以便透过所述布拉格过滤器(14；14a，14b)的辐射(16)经过所述目标(5)，在经过所述目标(5)之后检测X射线辐射，采集所述布拉格滤光器(14；14a，14b)在至少两个不同布拉格反射角下的投影数据，然后用采集的投影数据重构k边图像。
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公开(公告)号：CN101981651A
公开(公告)日：2011-02-23
申请号：CN200980111618.2
申请日：2009-03-03
Applicant: X射线光学系统公司
IPC: H01J37/252 , G01N23/225
CPC classification number: G21K1/06 , G01N23/20008 , G01N23/223 , G01N2223/076 , G01N2223/1003 , G01N2223/315 , G01N2223/423 , G21K2201/062 , G21K2201/064 , H05G1/04
Abstract: 一种用于使用X射线射束照射试样斑的X射线分析装置。提供了一种具有源斑的X射线管，由该源斑生成具有特征第一能量和韧致辐射能量的发散X射线射束；第一X射线光学器件接收发散的X射线射束并朝试样斑指引射束，同时使射束单色化；和接收发散的X射线射束并朝试样斑指引射束同时使射束单色化为第二能量的第二X射线光学器件。第一X射线光学器件使来自源斑的特征能量单色化并且第二X射线光学器件使来自源斑的韧致辐射能量单色化。X射线光学器件可以是弯曲的衍射光学器件，用于从X射线管接收发散的X射线射束并且将射束聚焦在试样斑上。还提供了检测以检测和测量在例如包括玩具和电子产品的产品中的各种毒素。
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公开(公告)号：CN101278360A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200680036809.3
申请日：2006-07-26
Applicant: X射线光学系统公司
IPC: G21K1/06 , G01N23/223
CPC classification number: G01N23/223 , B82Y10/00 , G01N2223/076 , G21K1/06 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/064
Abstract: 一种用于激发处于x射线分析中的样品的x射线系统或方法，其使用弯曲的单色光学器件将来自x射线源的单色x射线束引导朝向第一焦点区域。第二光学器件安置在单色x射线束中并接收该单色x射线束，且将聚焦的x射线束引导朝向样品上的第二焦点区域。探测器安置在样品附近，以收集作为聚焦的x射线束的结果的而来自样品的辐射。弯曲的单色光学器件在所述第一焦点区域产生的束斑尺寸大于由所述第二光学器件在所述第二焦点区域产生的束斑尺寸，因此，通过使用第二光学器件减小了样品上的束斑尺寸。双曲单色光学器件和多毛细管光学器件作为光学器件的可能的实施被公开。
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公开(公告)号：CN1069136C
公开(公告)日：2001-08-01
申请号：CN96101194.7
申请日：1996-02-17
IPC: G02B3/00
CPC classification number: B82Y10/00 , G03F7/70166 , G21K1/06 , G21K2201/064 , G21K2201/067
Abstract: 一种整体X光透镜及其制造方法和应用，该透镜包含多个从一端贯通到另一端的X光导孔，其特点在于：该透镜为没有支撑部件的、且由上述X光导孔壁自身熔合而成的、单一的玻璃固体，它可在很宽的波长范围内调控X光，将其会聚成很小的束斑或转化为准平行光束，也可与X光导管或光阑组成组合体，以进一步提高X光功率密度，它的占空比高、结构小巧；该透镜采用在加热炉内将玻璃管拉伸，一次或多次复合方法一次拉制成型，因此工艺简单、省时、造价低，可应用于荧光分析仪、衍射仪及光刻装置中。
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