一种增强型电子发射体
    21.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1092904A

    公开(公告)日:1994-09-28

    申请号:CN94101129.1

    申请日:1994-01-25

    CPC classification number: H01J1/3042 H01J2201/30457

    Abstract: 本发明涉及一种由一层具有金刚石键结构的类金刚石碳组成的电子发射体,这种结构在发射位置带有电活性缺陷。电活性缺陷的作用类似于一个功函数很低、具有改善了的电流特性(包括改善了的饱和电流)的很薄的电子发射体。

    无定型金刚石材料及其使用和制造的相关方法

    公开(公告)号:CN1647227A

    公开(公告)日:2005-07-27

    申请号:CN03808832.0

    申请日:2003-03-06

    Applicant: 宋简民

    Inventor: 宋简民

    Abstract: 一种当输入足够量的能量时能够在真空中发射电子的无定形金刚石材料(5)。该材料可以利用组成和几何方面,以便使电子输出达到最大而使所需能量输入达到最小。在一方面,无定形金刚石材料可以包括至少90%的碳原子,其中至少大约30%的这种碳原子以扭曲四面体构型结合。此外,材料可以配置有具有从大约10到大约10,000纳米的粗糙高度(20)的发射表面。多种能量类型可以单独地或者结合地使用,以促进电子流动,例如热能,光能,和感生电场能。无定形金刚石材料可以包括到多种真空型设备中,例如开关,激光二极管,发电机和冷却设备。

    场发射器件
    28.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1257604A

    公开(公告)日:2000-06-21

    申请号:CN98805274.1

    申请日:1998-05-20

    CPC classification number: H01J9/025 H01J2201/30457 H01J2329/00

    Abstract: 用对衬底(704)进行腐蚀然后淀积膜(705)的工艺,制造了可以用于计算机显示器的场发射器件的膜(碳和/或金刚石)。腐蚀步骤在衬底上产生用于膜淀积工艺的成核位置。用此工艺,避免了发射膜的图形化。用这种膜能够制造场发射器件。得到的场发射器件,其阴极具有未被腐蚀过的连续膜,因而具有优异的发射性质。阴极中的象素包括直接淀积在衬底上的发射膜,导体淀积在发射膜的一侧或更多侧上。在一个实施例中,发射体位于制作在导体层中的窗口中。

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