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公开(公告)号：CN101310773A
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200810096018.0
申请日：2008-04-21
Applicant: 克朗斯股份有限公司
IPC: A61L2/08
CPC classification number: B65B55/08 , A61L2/087 , A61L2202/23 , H01J33/00
Abstract: 一种容器(10)消毒装置(1)，包括具有供电荷载体通过的出射窗(8)的处理头(5)、产生电荷载体的电荷载体产生源以及在出射窗(8)的方向上加速电荷载体的加速设备(6)。根据本发明，处理头(5)的横截面具有一定尺寸，以便处理头(5)能够穿过容器(10)的容器口，加速设备(6)以从出射窗(8)射出的电荷载体最好直接放射到容器(10)的内壁上的方式加速电荷载体。
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公开(公告)号：CN1663012A
公开(公告)日：2005-08-31
申请号：CN03814395.X
申请日：2003-05-23
Applicant: 能量科学公司
IPC: H01J33/00
CPC classification number: B05D3/068 , B41M7/0045 , B41M7/0081 , G21K5/10 , H01J33/00 , H01J33/04
Abstract: 本发明涉及尺寸较小且高效率地操作的粒子束处理装置，和还涉及该装置的应用，处理在可处理材料的基片如用于挠性包装上的涂层。该处理装置包括粒子束发生组件、箔片支持组件和处理组件。在粒子束处理组件中，生成电子并加速穿过箔片支持组件。在挠性包装应用中，基片被供料到在低压如110kV或更低下操作的处理装置内并暴露于加速电子下以处理在基片上的涂层。
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公开(公告)号：CN103608889B
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：CN201280029537.X
申请日：2012-06-27
Applicant: 利乐拉瓦尔集团及财务有限公司
Inventor： 托妮·瓦贝尔
Abstract: 本发明涉及一种电子束发射器，其包括壳体和窗，所述壳体包绕能够在所述壳体内发射电子的阴极，所述窗使所发射的所述电子能够退出所述壳体，其中，所述壳体具有开口，所述开口适于至少部分地接合高电压连接器组件，所述组件适于将所述阴极连接到电源，所述电子束发射器还包括：冷却突缘（50），其围绕所述开口并具有在入口（56）和出口（58）之间延伸的内部通道（54），所述内部通道（54）用于接纳使所述高电压连接器组件（30）冷却的冷却流体。本发明还涉及冷却电子束装置的方法。
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公开(公告)号：CN106061514A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201580008079.5
申请日：2015-01-21
Applicant: 利乐拉瓦尔集团及财务有限公司
Inventor： 哈坎·梅尔宾
CPC classification number: A61L2/087 , A61L2202/23 , B65B55/08 , H01J33/00
Abstract: 用于消毒装置的调节系统，其包括冷却系统、至少一个气流(40)和热交换单元(80)，其中所述至少一个气流(40)适于调节消毒装置周围的环境气体的温度，其中所述冷却系统包括至少一个介质流(22)，并且其中所述至少一个介质流(22)适于冷却和/或加热所述至少一个消毒装置，其特征在于，所述热交换单元(80)适于在所述至少一个介质流(22)和所述至少一个气流(40)之间提供热交换。
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公开(公告)号：CN102741966B
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201180007788.3
申请日：2011-02-01
Applicant: 利乐拉瓦尔集团及财务有限公司
CPC classification number: H01J33/04 , B65B55/08 , G21K5/02 , H01J3/027 , H01J5/18 , H01J33/00 , H01J33/02 , H01J2237/00 , H01J2237/164 , Y10T29/49002
Abstract: 本发明涉及用在电子束装置中的托板（22）和出射窗箔（20）的组件，所述托板（22）被设计为减少所述箔（20）中的褶皱，这些褶皱可能由于在装配过程中出现过剩的箔而产生。沿着连续的结合线（26）将所述箔（20）结合到所述托板（22）上，连续的结合线（26）围成大体上圆形的区域，在该区域内，所述托板（22）设置有孔和箔支承部分，以及在该区域内，所述箔适于作为所述电子束装置的真空密封外壳的壁的一部分。本发明还涉及在填充机中使用所述组件的方法，以及减少褶皱的方法。
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公开(公告)号：CN104797518A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201380060615.7
申请日：2013-11-29
Applicant: 利乐拉瓦尔集团及财务有限公司
CPC classification number: A61L2/087 , A61L2202/14 , A61L2202/23 , B65B55/08 , G01T1/02 , H01J33/00 , A61L2/00 , A61L9/00
Abstract: 本发明涉及一种辐照装置(36)，其用电子束(16)辐照物体(12)。所述辐照装置(36)包括：具有电子出射窗(20)的至少一个电子束发射器(10)，以及用于检测所述电子束(16)的第一剂量控制参数的至少一个传感器装置(56)。所述电子束发射器(10)适于移动通过所述传感器装置(56)，使得从所述电子出射窗(20)射出的所述电子束(16)在所述传感器装置(56)的感测区域(58)内穿过。所述传感器装置包括多于一个的导体(64)，每一个导体(64)具有在传感器装置(56)的感测区域(58)内的导体表面(68)，并且该导体表面(68)适于被暴露于所述电子束(16)的电子。本发明还涉及一种方法。
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公开(公告)号：CN101939029B
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN200880126341.6
申请日：2008-11-28
Applicant: 罗伯特·博世有限公司
CPC classification number: A61L2/087 , A61L2202/122 , B29C71/04 , B29C2035/0877 , G21K5/10 , H01J33/00
Abstract: 本发明涉及一种以富含能量的电子束(10)处理成形件(2)的装置，其中电子束(10)通过两个相对置的静止或活动的电子输出窗传导到成形件(2)上，它们限定成形件(2)的处理空间(6)。设有一个用于成形件(2)的输送装置，成形件(2)可以借助该输送装置被引导从垂直于输送方向地基本上垂直地设置的电子输出窗(7，8)旁边穿过所述处理空间(6)，并且设置有一个相对于处理空间(6)中的伦琴射线在很大程度上被屏蔽的通道(3，3a，3b，3c)，用于输送所述成形件(2)。
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公开(公告)号：CN103649764A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201280035123.8
申请日：2012-07-10
Applicant: 奥宝科技股份有限公司 , 烽腾科技有限公司
IPC: G01R31/305
CPC classification number: G01R1/072 , G01R31/305 , H01J33/00 , H01J2237/164
Abstract: 本发明提供一种非机械性接触信号测量装置，其包括：位于待测结构上的第一导体以及接触所述第一导体的气体。至少一电子束被引导至所述气体中，以在所述至少一电子束穿过所述气体之处在所述气体中形成等离子体。第二导体电性接触所述等离子体。当所述等离子体被引导于所述第一导体上时，信号源经由所述第一导体、所述等离子体及所述第二导体耦接至电性测量设备。所述电性测量设备可响应于所述信号源。
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公开(公告)号：CN101952926B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN200980101926.7
申请日：2009-01-08
Applicant: 埃克西可集团公司
Inventor： 马克西姆·马卡罗夫
CPC classification number: H01J3/021 , H01J33/00 , H01S3/0959 , H01S3/09707
Abstract: 本发明涉及一种脉冲电子源(1)，包括：电离室(4)；加速室(2)，所述加速室(2)具有用于吸引并加速一次离子和形成二次电子束的电极(3)，所述脉冲电子源(1)的特征在于：所述脉冲电子源(1)包括电源(11)，该电源(11)适于施加正电压到所述电极(3)以将一次等离子体(17)驱动出所述加速室(2)，以及施加负电压脉冲到所述电极(3)以吸引并加速所述一次离子和形成二次电子束。
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