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公开(公告)号：CN1369105A
公开(公告)日：2002-09-11
申请号：CN00811336.X
申请日：2000-06-28
Applicant: 先进电子束公司
CPC classification number: H01J33/00 , B65B55/02 , B65B55/103 , H01J5/06
Abstract: 电子加速器包括有电子束出射窗的真空室。出射窗是由以金属与金属接触的方式与真空室粘接在一起的金属箔形成的,以便在其间提供气密的密封。出射窗厚度不足大约12.5微米。真空室被气密密封,以保持其中永久性的自己维持的真空。电子发生器定位在真空室范围内,用来产生电子。外壳包围着电子发生器。该外壳具有在电子发生器和出射窗之间的外壳上形成的电子能透过的区域,以便允许电子在把电压施加在外壳和出射窗之间时在电子束中从电子发生器向出射窗外面加速。
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公开(公告)号：CN103262220A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201180060362.4
申请日：2011-12-16
Applicant: 日立造船株式会社
Inventor： 卡维·巴赫塔里
IPC: H01L21/306
CPC classification number: B01J19/085 , C01B13/10 , H01J3/02 , H01J33/00 , H01J37/3233 , H01J37/32357 , H01J37/32816
Abstract: 本发明除了其它方面之外提出了用于提供臭氧发生器或等离子体发生器的系统和方法，所述臭氧发生器或等离子体发生器在与反应腔室分隔开的电子发生腔室中产生电场。所述电子发生腔室中的电子束发射器被配置用来发出电子束，且被电子可渗透的阻挡件与所述反应腔室分隔开，所述阻挡件提供了所述电子束穿过的窗口。电子在所述电子发生腔室中被加速到所需的能量并穿过所述阻挡件而被传输至所述反应腔室，输入气体源将输入气体引入至所述反应腔室中。输入气体可以在所述反应腔室内与所述电子束反应以形成含有等离子体或含有臭氧浓度的输出气体，并且该输出气体从所述反应腔室传输至晶圆处理腔室。
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公开(公告)号：CN101310773B
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN200810096018.0
申请日：2008-04-21
Applicant: 克朗斯股份有限公司
IPC: A61L2/08
CPC classification number: B65B55/08 , A61L2/087 , A61L2202/23 , H01J33/00
Abstract: 一种容器(10)消毒装置(1)，包括具有供电荷载体通过的出射窗(8)的处理头(5)、产生电荷载体的电荷载体产生源以及在出射窗(8)的方向上加速电荷载体的加速设备(6)。根据本发明，处理头(5)的横截面具有一定尺寸，以便处理头(5)能够穿过容器(10)的容器口，加速设备(6)以从出射窗(8)射出的电荷载体最好直接放射到容器(10)的内壁上的方式加速电荷载体。
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公开(公告)号：CN101416267B
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN200780009686.9
申请日：2007-03-20
Applicant: 弗劳恩霍弗实用研究促进协会
CPC classification number: H01J33/00 , A61L2/087 , A61L2202/14 , A61L2202/23 , A61L2202/24
Abstract: 本发明涉及用于借助于电子来改变三维成型件(2)的特性的一种装置和一种方法，所述装置包括至少一个用于产生加速的电子的电子加速器(3a、3b)和两个电子逸出窗(5a、5b)，其中所述两个电子逸出窗(5a、5b)彼此对置布置，其中所述两个电子逸出窗(5a、5b)和至少一个反射器(7a1、7a2、7b1、7b2)限制着处理室，在该处理室中向所述成型件(2)的表面或者边缘层加载电子，其中借助于传感器系统能够至少关于一个空间的维检测所述处理室内部的能量密度分布。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101952926A
公开(公告)日：2011-01-19
申请号：CN200980101926.7
申请日：2009-01-08
Applicant: 埃克西可集团公司
Inventor： 马克西姆·马卡罗夫
CPC classification number: H01J3/021 , H01J33/00 , H01S3/0959 , H01S3/09707
Abstract: 本发明涉及一种脉冲电子源(1)，包括：电离室(4)；加速室(2)，所述加速室(2)具有用于吸引并加速一次离子和形成二次电子束的电极(3)，所述脉冲电子源(1)的特征在于：所述脉冲电子源(1)包括电源(11)，该电源(11)适于施加正电压到所述电极(3)以将一次等离子体(17)驱动出所述加速室(2)，以及施加负电压脉冲到所述电极(3)以吸引并加速所述一次离子和形成二次电子束。
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公开(公告)号：CN101939029A
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN200880126341.6
申请日：2008-11-28
Applicant: 罗伯特·博世有限公司
CPC classification number: A61L2/087 , A61L2202/122 , B29C71/04 , B29C2035/0877 , G21K5/10 , H01J33/00
Abstract: 本发明涉及一种以富含能量的电子束(10)处理成形件(2)的装置，其中电子束(10)通过两个相对置的静止或活动的电子输出窗传导到成形件(2)上，它们限定成形件(2)的处理空间(6)。设有一个用于成形件(2)的输送装置，成形件(2)可以借助该输送装置被引导从垂直于输送方向地基本上垂直地设置的电子输出窗(7，8)旁边穿过所述处理空间(6)，并且设置有一个相对于处理空间(6)中的伦琴射线在很大程度上被屏蔽的通道(3，3a，3b，3c)，用于输送所述成形件(2)。
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公开(公告)号：CN1839458A
公开(公告)日：2006-09-27
申请号：CN03827153.2
申请日：2003-07-30
Applicant: 能源科学公司
CPC classification number: B32B15/08 , B05D5/061 , B32B7/12 , B32B15/085 , B32B15/09 , B32B15/20 , B32B27/32 , B32B27/36 , B32B2311/24 , B32B2323/046 , B32B2367/00 , B32B2439/70 , H01J33/00 , H01J33/04
Abstract: 本文提供了采用粒子束加工装置处理材料的方法和由该方法制备的材料。根据一个说明性实施方案，提供了一种采用粒子束加工装置处理材料的方法，该方法包括：提供包括至少一个产生多个粒子的灯丝的粒子束产生组件；向灯丝施加大于约110kV的操作电压以产生所述多个粒子；使所述多个粒子穿过厚度为约10微米或更少的薄箔片；和采用所述多个粒子处理材料。
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公开(公告)号：CN103608889A
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201280029537.X
申请日：2012-06-27
Applicant: 利乐拉瓦尔集团及财务有限公司
Inventor： 托妮·瓦贝尔
Abstract: 本发明涉及一种电子束发射器，其包括壳体和窗，所述壳体包绕能够在所述壳体内发射电子的阴极，所述窗使所发射的所述电子能够退出所述壳体，其中，所述壳体具有开口，所述开口适于至少部分地接合高电压连接器组件，所述组件适于将所述阴极连接到电源，所述电子束发射器还包括：冷却突缘（50），其围绕所述开口并具有在入口（56）和出口（58）之间延伸的内部通道（54），所述内部通道（54）用于接纳使所述高电压连接器组件（30）冷却的冷却流体。本发明还涉及冷却电子束装置的方法。
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公开(公告)号：CN102046209B
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN200980121177.4
申请日：2009-05-05
Applicant: 克朗斯股份有限公司
CPC classification number: H01J33/00 , A61L2/087 , A61L2202/23 , B65B55/08 , H01J33/04
Abstract: 本发明公开了一种用于消毒容器(10)的装置(1)，包括：具有电荷载体可以通过的出射窗(8)的处理头(5)，用于产生电荷载体的电荷载体产生源、设置在所述出射窗(8)上方并在所述出射窗(8)方向上加速所述电荷载体的加速装置(6)和用于冷却所述出射窗的冷却装置(30)。依据本发明，所述冷却装置(30)包括用于气体介质的供给开口(32)，该供给开口(32)设置在所述出射窗(8)下方，并至少部分地从下方将所述气体介质引导到所述出射窗(8)上。
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