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公开(公告)号：CN103038864A
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201180036959.5
申请日：2011-07-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/203 , C23C14/35
CPC classification number: H01J37/3405 , H01J37/345 , H01J37/3452 , H01J37/3455 , H01J37/3461 , H01J2237/3323
Abstract: 在此提供用于沉积具有高厚度均匀度和低阻抗的薄膜的方法及设备。在一些实施例中，磁控管组件包含：分流板，所述分流板可绕轴而转动；内侧封闭回路磁极，所述内侧封闭回路磁极耦接至分流板；及外侧封闭回路磁极，所述外侧封闭回路磁极耦接至分流板，其中外侧封闭回路磁极的磁场强度对内侧封闭回路磁极的磁场强度的不平衡比例为小于约1。在一些实施例中，所述比例为约0.57。在一些实施例中，分流板和外侧封闭回路磁极具有心形。也揭露有一种使用RF和DC功率结合本发明磁控管组件的方法。
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公开(公告)号：CN101636519B
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200880006759.3
申请日：2008-02-15
IPC: C23C14/32
CPC classification number: C23C14/325 , H01J37/3402 , H01J37/345
Abstract: 本发明提供一种能够抑制电弧点向阴极蒸发面以外的部分移动的电弧式蒸发源。所述电弧式蒸发源通过由磁场控制的电弧放电来使阴极(22)的阴极物质蒸发，其具备：磁场形成机构(42)，其在阴极前端的蒸发面(22a)附近形成与阴极中心轴(Ax)平行的成分强的磁场(M)，且配置在阴极的外侧；支承机构(26)，其支承阴极；冷却机构(61)，其冷却阴极；锥形环(64)，其形成圆锥台状，具有使阴极沿其轴向贯通的贯通孔，且配置成向着阴极的蒸发面逐渐变细，锥形环由强磁性体构成，使用时锥形环的前端(64a)与阴极的蒸发面位于相同的面或位于比蒸发面稍后退的位置。
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公开(公告)号：CN101184864A
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：CN200680019034.9
申请日：2006-10-05
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C14/35 , H01J37/3405 , H01J37/3408 , H01J37/3417 , H01J37/345 , H01J37/3452 , H01J37/347 , H01J37/3482 , H01L51/5203 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种靶的使用效率高的溅射装置。本发明的溅射装置(1)具有：第一、第二环状磁铁(23a、23b)；和在第一、第二环状磁铁(23a、23b)的环的内侧配置的第一、第二磁铁部件(24a、24b)；第一、第二环状磁铁(23a、23b)和第一、第二磁铁部件(24a、24b)其相同磁性的磁极朝向第一、第二靶(21a、21b)背面。因此，相同极性的磁极邻接配置在第一、第二靶(21a、21b)的背面，由于在第一、第二靶(21a、21b)的表面形成的水平磁场分量的强度其绝对值小、且其强度分布窄，垂直磁场分量的强度均匀，所以，不会在第一、第二靶(21a、21b)上产生非腐蚀部分。
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公开(公告)号：CN104342626B
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201410350635.4
申请日：2014-07-22
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: C23C14/35
CPC classification number: C23C14/352 , H01J37/3417 , H01J37/3429 , H01J37/345 , H01J37/3452
Abstract: 溅射系统包括腔室、多个靶和衬底支架。靶被设置在腔室中。每个靶包括设置在其中的磁铁单元。衬底支架被配置在所述腔室中支承衬底。磁铁单元被配置成在靶之间生成磁场。磁铁单元中每个包括设置成两排的磁铁。
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公开(公告)号：CN104278243B
公开(公告)日：2018-08-14
申请号：CN201410319170.6
申请日：2014-07-04
Applicant: 索尼公司
IPC: C23C14/35
CPC classification number: H01J37/3452 , C23C14/35 , H01F7/0278 , H01J37/3405 , H01J37/345 , H01J37/3455
Abstract: 本发明提供一种能够轻易地调节磁场分布的磁场生成设备和使用所述磁场生成设备的溅射设备，所述磁场生成设备包括：两个以上主磁极部，其用于生成主磁场；一个以上副磁极部，其包括通过分割得到的多个第一分割磁体，并且生成用于对生成的主磁场进行调节的副磁场；以及轭部，其包括对应于所述一个以上副磁极部而与所述多个第一分割磁体相对的一个以上第一轭。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105463394B
公开(公告)日：2018-06-12
申请号：CN201510922598.4
申请日：2012-01-06
Applicant: 零件喷涂公司
CPC classification number: C23C14/35 , C23C14/354 , H01J37/3405 , H01J37/342 , H01J37/345 , H01J37/3452 , H01J37/347 , H01J37/3482
Abstract: 本发明涉及溅射装置。在一个实施方案中，磁控组件包括多个磁体和被配置来将所述多个磁体固定在至少四个独立的线性阵列中的磁轭。将所述多个磁体布置在所述磁轭中，以便形成包括外部和内部的模式。所述外部基本上包围所述内部的周界。用于形成所述外部的所述磁体具有第一极性，且用于形成所述内部的所述磁体具有第二极性。所述模式的所述外部包括基本上彼此平行的一对细长断面。所述模式的所述外部包括一对回车道断面，其中每个回车道断面基本上跨越所述一对细长断面的相应端，且其中每个回车道断面包括具有所述第一极性的多个磁体。在另一个实施方案中，磁控组件包括磁轭和多个磁体，所述多个磁体可配置地放置在所述磁轭上，以便形成具有至少一个梯级回车道断面的跑道模式。
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公开(公告)号：CN104812934B
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201380046219.9
申请日：2013-09-03
Applicant: 零件喷涂公司
Inventor： P.L.摩尔斯
IPC: C23C14/35
CPC classification number: C23C14/35 , H01J37/3405 , H01J37/342 , H01J37/345 , H01J37/3452
Abstract: 一个实施方案涉及一种磁控管总成，其包括：多个磁铁；和磁轭，其被构造来将所述多个磁铁保持在至少四个笔直、平行、独立线性阵列中。所述多个磁铁被配置在所述磁轭中以形成包括外部分和内部分的图案，其中所述外部分大体上围绕所述内部分的周边。所述线性阵列的末端部分包括一对转向区段，其中每个转向区段大体上横跨所述外部分的一对长形区段的各自末端。每个转向区段中的磁铁被配置来在磁场中形成沿着靶旋转轴彼此偏移的至少两个或更多个不同曲线。
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公开(公告)号：CN106414794A
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：CN201580017462.7
申请日：2015-02-18
Applicant: 因特瓦克公司
CPC classification number: H01J37/3455 , C23C14/352 , C23C14/568 , H01J37/32779 , H01J37/3405 , H01J37/3408 , H01J37/3435 , H01J37/345
Abstract: 一种溅射系统具有带有入口端都和出口端都的处理室以及被定位在该处理室的壁上的溅射靶材。活动磁体布置被定位在溅射靶材之后，并且在该靶材后面往复地滑动。传送带将衬底以恒定的速度连续地传输通过该溅射靶材，使得在任何给定的时刻处，若干个衬底面对位于前缘和尾缘之间的靶材。活动磁体布置以比传送机的恒定速度快至少若干倍的速度滑动。在靶材的前缘和尾缘后面限定旋转区域，其中，磁体布置在它进入旋转区域时减速，并且在它在旋转区域内逆转滑动方向时加速。磁体功率和/或速度根据磁体行进方向而变化。
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公开(公告)号：CN105256281A
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201510825083.2
申请日：2015-11-24
Applicant: 深圳市华星光电技术有限公司 , 武汉华星光电技术有限公司
Inventor： 周涛
IPC: C23C14/35
CPC classification number: H01J37/3435 , C23C14/3407 , C23C14/35 , H01J37/3408 , H01J37/345
Abstract: 本发明公开一种用于磁控溅射镀膜装置的靶装置，其包括：溅射靶材安装座(21)；靶材承载板(22)，设置在所述溅射靶材安装座(21)上，所述靶材承载板(22)用于承载靶材(24)；磁极装置(23)，设置在所述溅射靶材安装座(21)的背向所述靶材承载板(22)的表面上，所述磁极装置(23)用于在所述靶材(24)的表面产生水平磁场的；其中，所述磁极装置(23)与所述靶材承载板(22)的对应边沿具有预定间隔。本发明还公开一种具有该靶装置的磁控溅射镀膜装置。本发明可使靶材的材料整面均匀消耗，这样可以提高靶材的利用率，也可以使在基片上沉积的薄膜更加均匀。
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公开(公告)号：CN104812934A
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201380046219.9
申请日：2013-09-03
Applicant: 零件喷涂公司
Inventor： P.L.摩尔斯
IPC: C23C14/35
CPC classification number: C23C14/35 , H01J37/3405 , H01J37/342 , H01J37/345 , H01J37/3452
Abstract: 一个实施方案涉及一种磁控管总成，其包括：多个磁铁；和磁轭，其被构造来将所述多个磁铁保持在至少四个笔直、平行、独立线性阵列中。所述多个磁铁被配置在所述磁轭中以形成包括外部分和内部分的图案，其中所述外部分大体上围绕所述内部分的周边。所述线性阵列的末端部分包括一对转向区段，其中每个转向区段大体上横跨所述外部分的一对长形区段的各自末端。每个转向区段中的磁铁被配置来在磁场中形成沿着靶旋转轴彼此偏移的至少两个或更多个不同曲线。
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