中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

511 records (took 0.024 seconds)

    Quarzglaskörper für ein optisches Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung
    291.
    发明公开
    Quarzglaskörper für ein optisches Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung 有权
    用于光学元件的石英玻璃体及其制造方法

    公开(公告)号：EP1101741A3

    公开(公告)日：2001-10-31

    申请号：EP00123504.3

    申请日：2000-10-27

    Applicant: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

    Inventor： Uebbing, Bruno, Dr. ,  Vydra, Jan, Dr.

    IPC: C03C3/06 ,  C03B19/14 ,  C03C4/00

    CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/075 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/06 ,  C03C2201/08 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  Y10S65/08 ,  Y10S65/16 ,  Y10S501/905

    Abstract: Die Erfindung betrifft einen Quarzglaskörper für ein optisches Bauteil für die Übertragung ultravioletter Strahlung einer Wellenlänge von 250 nm und kürzer, insbesondere für eine Wellenlänge von 157 nm, sowie ein Verfahren zur Herstellung des Quarzglaskörpers, wobei feine Quarzglasteilchen durch Flammenhydrolyse einer Siliziumverbindung gebildet, abgeschieden und verglast werden. Die Eignung eines Quarzglases im Sinne hoher Grundtransmission und Strahlenbeständigkeit hängt von seinen strukturellen Eigenschaften, die durch lokale Stöchiometrieabweichungen verursacht sind, und von seiner chemischen Zusammensetzung ab. Der erfindungsgemäße Quarzglaskörper zeichnet sich durch eine uniforme (relative Änderung der Grundtransmission ≤ 1%) Grundtransmission im Wellenlängenbereich zwischen 155 nm und 250 nm (Durchstrahlungslänge 10 mm) von mindestens 80 %, geringem OH-Gehalt (kleiner 10 Gew.-ppm) und eine im wesentlichen von Sauerstoffdefektstellen freie Glasstruktur aus. Ein derartiger Quarzglaskörper wird mit einem Verfahren hergestellt, das den volumenmäßigen Einbau von Sauerstoff oder Wasserstoff in das Glasnetzwerk ermöglicht, indem der noch vor dem Verglasen eine Heißbehandlung in mindestens 2 Teilschritten im Temperaturbereich von 850°C bis 1600°Cerfolgt, wobei der letzte Teilschritt eine Sinterung in einem Temperaturbereich zwischen 1300°C und 1600 °C unter einer Atmosphäre, die Wasserstoff oder Sauerstoff oder eine Kombination dieser Stoffe als nicht zündfähiges Gemisch enthält, umfasst.

    Abstract translation: 本发明涉及一种石英玻璃体的光学部件，用于发送为250nm和更短的波长的紫外辐射，特别是对于157纳米的波长，并且用于制造石英玻璃体，其特征在于，石英玻璃的微粒形成的，沉积并通过硅化合物的火焰水解玻璃化的方法 是。 在高的基站传输和耐辐射性的意义上的石英玻璃的适用性取决于由本地Stöchiometrieabweichungen引起的，其化学成分及其结构特性。 根据本发明的石英玻璃体的特征在于均匀的（在基本传输相对变化≤1％）在155纳米和250纳米（传输长度10mm）的至少80％，低OH含量（小于10重量ppm）之间的波长范围基本透射和 基本上不含氧缺陷位点的玻璃结构。 这样的石英玻璃体由一种能够在玻璃网络中的氧气或氢气的体积掺入由釜之前的温度范围内的850℃内至少2个分步骤至玻璃化的热处理至1600℃Cerfolgt，最后一个子步骤中的制备 烧结包括：在1300℃和1600℃之间的温度范围内含有氢或氧或作为包含非可燃混合物，这些物质的组合的气氛下进行。

    Quarzglaskörper für ein optisches Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung
    292.
    发明公开
    Quarzglaskörper für ein optisches Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung 有权
    石英玻璃体用于其制备的光学元件和方法

    公开(公告)号：EP1101741A2

    公开(公告)日：2001-05-23

    申请号：EP00123504.3

    申请日：2000-10-27

    Applicant: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

    Inventor： Uebbing, Bruno, Dr. ,  Vydra, Jan, Dr.

    IPC: C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00

    CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/075 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/06 ,  C03C2201/08 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  Y10S65/08 ,  Y10S65/16 ,  Y10S501/905

    Abstract: Die Erfindung betrifft einen Quarzglaskörper für ein optisches Bauteil für die Übertragung ultravioletter Strahlung einer Wellenlänge von 250 nm und kürzer, insbesondere für eine Wellenlänge von 157 nm, sowie ein Verfahren zur Herstellung des Quarzglaskörpers, wobei feine Quarzglasteilchen durch Flammenhydrolyse einer Siliziumverbindung gebildet, abgeschieden und verglast werden. Die Eignung eines Quarzglases im Sinne hoher Grundtransmission und Strahlenbeständigkeit hängt von seinen strukturellen Eigenschaften, die durch lokale Stöchiometrieabweichungen verursacht sind, und von seiner chemischen Zusammensetzung ab. Der erfindungsgemäße Quarzglaskörper zeichnet sich durch eine uniforme (relative Änderung der Grundtransmission ≤ 1%) Grundtransmission im Wellenlängenbereich zwischen 155 nm und 250 nm (Durchstrahlungslänge 10 mm) von mindestens 80 %, geringem OH-Gehalt (kleiner 10 Gew.-ppm) und eine im wesentlichen von Sauerstoffdefektstellen freie Glasstruktur aus. Ein derartiger Quarzglaskörper wird mit einem Verfahren hergestellt, das den volumenmäßigen Einbau von Sauerstoff oder Wasserstoff in das Glasnetzwerk ermöglicht, indem der noch vor dem Verglasen eine Heißbehandlung in mindestens 2 Teilschritten im Temperaturbereich von 850°C bis 1600°Cerfolgt, wobei der letzte Teilschritt eine Sinterung in einem Temperaturbereich zwischen 1300°C und 1600 °C unter einer Atmosphäre, die Wasserstoff oder Sauerstoff oder eine Kombination dieser Stoffe als nicht zündfähiges Gemisch enthält, umfasst.

    Abstract translation: 石英玻璃体的玻璃结构基本上没有氧缺陷位点和至少80％的在155至250nm的波长区域中的基站传输在通过辐射的10毫米的长度。 基地传输的相对变化在于在遍布全身的可利用表面的最大的百分之一。 因此独立claimsoft包括用于生产石英玻璃主体，其包括水解在一种产生火焰的细石英玻璃颗粒的硅化合物的工序; 沉积所述颗粒在载体上形成多孔体; 和热在850-1600度治疗身体在两个步骤C，所述负载的步骤包括在气氛含有氢气或氧气作为非可燃混合物在1300-1600摄氏度烧结。

    METHOD AND DEVICE FOR FORMING QUARTZ GLASS
    293.
    发明公开
    METHOD AND DEVICE FOR FORMING QUARTZ GLASS 审中-公开
    VERFAHREN UND VORRICHTUMG ZUR HERSTELLUNG VON QUARTZ-GLAS

    公开(公告)号：EP1069084A1

    公开(公告)日：2001-01-17

    申请号：EP00901977.9

    申请日：2000-01-28

    Applicant: Nikon Corporation

    Inventor： FUJIWARA, Seishi, Nikon Corporation ,  KOMINE, Norio, Nikon Corporation ,  JINBO, Hiroki, Nikon Corporation

    IPC: C03B20/00

    CPC classification number: C03B32/00 ,  C03B11/08 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/03

    Abstract: A silica glass forming method is a method of pressing a synthetic silica bulk having at least a set of opposed surfaces, on the surfaces under a high temperature condition by a presser, wherein an elastic member with permeability is placed between the presser and the surfaces of the synthetic silica bulk pressed by the presser and wherein the synthetic silica bulk is pressed through the elastic member by the presser. This method is able to reduce bubbles remaining inside the synthetic glass formed product after the forming to a sufficiently small amount. Therefore, it becomes feasible to provide the method that permits high-yield production of silica glasses with excellent optical characteristics.

    Abstract translation: 二氧化硅玻璃的形成方法是通过压机在高温条件下的表面上压制具有至少一组相对面的合成二氧化硅体的方法，其中，具有渗透性的弹性构件设置在压脚与表面之间 合成二氧化硅体通过压片压制，其中合成二氧化硅体积通过压机压靠弹性构件。 该方法能够将形成后的合成玻璃成形体中残留的气泡减少至足够小的量。 因此，提供允许高产量生产具有优异光学特性的二氧化硅玻璃的方法变得可行。

    Process for production of a highly pure silicic acid aqueous solution
    295.
    发明公开
    Process for production of a highly pure silicic acid aqueous solution 失效
    Verfahren zur Herstellung einerwässrigenKieselsäurelösunghoher Reinheit。

    公开(公告)号：EP0430685A2

    公开(公告)日：1991-06-05

    申请号：EP90312973.2

    申请日：1990-11-29

    Applicant: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY

    Inventor： Sasaki, Shigeo, Mitsubishi Monsanto Chemical Co. ,  Kojima, Miho, Mitsubishi Monsanto Chemical Co.

    IPC: C01B33/148 ,  C01B33/18

    CPC classification number: C01B33/18 ,  C01B33/1485 ,  C01P2006/80 ,  C03B2201/03

    Abstract: A process is disclosed for removing non-alkali metals from an acidic silicate solution or suspension, the process comprising subjecting the solution or suspension to an electrochemical process in the presence of a strong acid and an oxidising agent such that non-alkali metals present form water-soluble salts, and ion-exchanging the solution. The acidic silicate solution or suspension may be generated by ion-exchanging an aqueous alkali silicate solution to remove alkali metals. The invention therefore enables a silicic acid aqueous solution having a low content of metal impurities, for example 1 ppm or less, to be prepared from an alkali metal silicate of low purity.

    Abstract translation: 公开了从酸性硅酸盐溶液或悬浮液中除去非碱金属的方法，该方法包括在强酸和氧化剂存在下使溶液或悬浮液经历电化学过程，使得非碱金属形成水 - 可溶性盐，并离子交换溶液。 酸性硅酸盐溶液或悬浮液可以通过离子交换碱金属硅酸盐水溶液以除去碱金属而产生。 因此，本发明能够由低纯度的碱金属硅酸盐制备具有低含量金属杂质，例如1ppm或更低的硅酸水溶液。

    실리콘 단결정 인상용 석영 그라스 도가니
    299.
    发明授权
    실리콘 단결정 인상용 석영 그라스 도가니 有权
    石英玻璃坩埚拉扯硅单晶

    公开(公告)号：KR100731833B1

    公开(公告)日：2007-06-25

    申请号：KR1020057012775

    申请日：2004-05-21

    Applicant: 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤

    Inventor： 오하마야수오 ,  토가와타카유키 ,  미즈노시게오

    IPC: C30B15/10

    CPC classification number: C03B19/095 ,  C03B2201/03 ,  C30B15/10 ,  Y02P40/57 ,  Y10S65/08 ,  Y10S117/90 ,  Y10T117/10

    Abstract: 실리콘 단결정의 인상에 사용되는 석영 그라스 도가니에 있어서, 적어도 그 만곡부가 합성 석영 그라스로 이루어지고 Al농도가 낮은 투명내층, 천연 또는 천연합성 혼합 석영 그라스로 이루어지고 Al농도가 높은 투명 또는 불투명 중간층, 및 천연석영그라스로 이루어지고 Al농도가 상기 중간층보다 높은 불투명외층의 3층구조로 함으로써, 투명내층의 변형이 적고, 또한, 단결정의 인상에 수반하는 석영그라스도가니의 용입량의 변화를 억제하고, 단결정의 길이방향의 산소농도를 균일하게할 수 있는 실리콘 단결정 인상용 석영 그라스 도가니이다.
    단결정, 합성석영, 천연석영, 도가니, 알루미늄 농도, 투명층, 불투명층

Patent Agency Ranking