公开(公告)号：WO2012113591A1

公开(公告)日：2012-08-30

申请号：PCT/EP2012/050676

申请日：2012-01-18

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V. ,  YAKUNIN, Andrei ,  BANINE, Vadim ,  FRIJNS, Olav

Inventor： YAKUNIN, Andrei ,  BANINE, Vadim ,  FRIJNS, Olav

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08

CPC classification number: G03F7/702 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70058 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061

Abstract: A grazing incidence reflector (300) for EUV radiation includes a first mirror layer (310) and a multilayer mirror structure (320) beneath the first mirror layer. The first mirror layer reflects at least partially EUV radiation incident on the reflector with grazing incidence angles in a first range, and the first mirror layer transmits EUV radiation in a second range of incidence angles, which overlaps and extends beyond the first range of incidence angles. The multilayer mirror structure reflects EUV radiation that is incident on the reflector with grazing incidence angles in a second range that penetrates through the first mirror layer. A grazing incidence reflector can be used in a lithographic apparatus and in manufacturing a device by a lithographic process.

Abstract translation: 用于EUV辐射的掠入射反射器（300）包括第一镜层下面的第一镜层（310）和多层反射镜结构（320）。 第一镜层反射入射在反射器上的至少一部分EUV辐射，其具有在第一范围内的掠入射角，并且第一镜层在与入射角的第一范围重叠并延伸超过入射角的第二范围内传输EUV辐射 。 多层反射镜结构反射入射在反射器上的EUV辐射，其中掠射入射角在穿过第一镜层的第二范围内。 掠入射反射器可以用在光刻设备中并且通过光刻工艺制造器件。

公开(公告)号：WO2012091269A1

公开(公告)日：2012-07-05

申请号：PCT/KR2011/008143

申请日：2011-10-28

Applicant: 포항공과대학교 산학협력단 ,  제정호 ,  정지원

Inventor： 제정호 ,  정지원

IPC: G21K7/00 ,  C23C16/44 ,  C23C16/30

CPC classification number: G02B3/08 ,  B82Y10/00 ,  C23C16/45555 ,  G21K1/062 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/067

Abstract: 본 발명은 엑스선/감마선 집속 광학계의 제조 방법에 관한 것으로서, 모세관 기판을 제공하는 단계, 그리고 상기 모세관 기판의 내부 표면상에 각각 엑스선/감마선 불투명 물질과 엑스선/감마선 투명 물질로 이루어진 복수의 교대 층을 프레넬 형식에 따라 원자층 증착에 의해 순차적으로 퇴적하는 단계를 포함한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于制造X射线/γ射线聚焦光学系统的方法，包括以下步骤：制备毛细管基底并连续地堆积多个交替层，交替地由对X射线/ 以及通过原子层沉积以菲涅耳方式在毛细管基底的内表面上对X射线/λ射线透明的材料。

公开(公告)号：WO2012029676A1

公开(公告)日：2012-03-08

申请号：PCT/JP2011/069369

申请日：2011-08-23

Applicant: CANON KABUSHIKI KAISHA ,  OKAMOTO, Kohei ,  KOMOTO, Atsushi ,  KUBO, Wataru ,  MIYATA, Hirokatsu ,  NOMA, Takashi

Inventor： OKAMOTO, Kohei ,  KOMOTO, Atsushi ,  KUBO, Wataru ,  MIYATA, Hirokatsu ,  NOMA, Takashi

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G21K1/06 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061

Abstract: A X-ray waveguide includes a core (101) for guiding X-rays having a wavelength band in which the real part of refractive index of material is smaller than 1 and a cladding (102, 103) for confining the X-rays in the core. The core has a one - dimensional periodic structure in which a plurality of layers respectively formed of inorganic materials having different real parts of refractive index are periodically laminated. The core and the cladding are configured so that a critical angle for total reflection for the X-rays at an interface between the core and the cladding is larger than a Bragg angle due to a periodicity of the one - dimensional periodic structure. A critical angle for total reflection for the X-rays at an interface between layers in the one - dimensional periodic structure is smaller than the Bragg angle due to the periodicity of the one - dimensional periodic structure.

Abstract translation: X射线波导包括用于引导材料的折射率的实部的波长带的X射线的芯（101），以及用于将X射线限制在的包层（102,103）， 核心。 芯具有一维周期性结构，其中分别由具有不同实际折射率部分的无机材料形成的多个层周期性地层压。 芯和包层构造成使得在芯和包层之间的界面处的X射线的全反射的临界角度大于由于一维周期性结构的周期性而产生的布拉格角。 由于一维周期结构的周期性，在一维周期结构中的层之间的界面处的X射线的全反射的临界角小于布拉格角。

公开(公告)号：WO2012013748A1

公开(公告)日：2012-02-02

申请号：PCT/EP2011/062997

申请日：2011-07-28

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  ASML NETHERLANDS B.V. ,  BAER, Norman ,  LOERING, Ulrich ,  NATT, Oliver ,  WITTICH, Gero ,  LAUFER, Timo ,  KUERZ, Peter ,  LIMBACH, Guido ,  HEMBACHER, Stefan ,  WALTER, Holger ,  KWAN, Yim-Bun-Patrick ,  HAUF, Markus ,  STICKEL, Franz-Josef ,  VAN SCHOOT, Jan

Inventor： BAER, Norman ,  LOERING, Ulrich ,  NATT, Oliver ,  WITTICH, Gero ,  LAUFER, Timo ,  KUERZ, Peter ,  LIMBACH, Guido ,  HEMBACHER, Stefan ,  WALTER, Holger ,  KWAN, Yim-Bun-Patrick ,  HAUF, Markus ,  STICKEL, Franz-Josef ,  VAN SCHOOT, Jan

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08

CPC classification number: G03F7/7015 ,  B82Y10/00 ,  G02B3/00 ,  G02B5/08 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B7/1815 ,  G02B17/0647 ,  G02B27/0043 ,  G03B27/542 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064

Abstract: A projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system, comprising a plurality of reflective optical elements, each comprising a body and a reflective surface for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light, wherein at least one reflective optical element comprises a material with a temperature dependent coefficient of thermal expansion which is zero at a zero cross temperature, and wherein the body of the optical element is semitransparent to IR radiation. Further, the body comprises a coating on or on almost its entire surface, wherein the coating reflects IR radiation inside the body.

Abstract translation: EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，包括多个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于将投影透镜与基板上的图像场一起投射到基板上的图像场上， EUV光的曝光功率，其中至少一个反射光学元件包括在零交叉温度下具有温度依赖的热膨胀系数为零的材料，并且其中所述光学元件的主体与IR辐射半透明。 此外，主体包括在其整个表面上或之上的涂层，其中涂层反射体内的IR辐射。

公开(公告)号：WO2011160861A1

公开(公告)日：2011-12-29

申请号：PCT/EP2011/054057

申请日：2011-03-17

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V. ,  YAKUNIN, Andrei ,  BANINE, Vadim ,  LOOPSTRA, Erik ,  VAN DER SCHOOT, Harmen ,  STEVENS, Lucas ,  VAN KAMPEN, Maarten

Inventor： YAKUNIN, Andrei ,  BANINE, Vadim ,  LOOPSTRA, Erik ,  VAN DER SCHOOT, Harmen ,  STEVENS, Lucas ,  VAN KAMPEN, Maarten

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G03F1/14 ,  G02B5/20 ,  G02B5/08 ,  C01B31/04

CPC classification number: G03F1/64 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C01B32/20 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/204 ,  G02B5/208 ,  G02B27/0006 ,  G03B27/54 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  H01B1/04 ,  H01B1/24

Abstract: A lithographic apparatus includes a radiation source configured to produce a radiation beam, and a support configured to support a patterning device. The patterning device is configured to impart the radiation beam with a pattern to form a patterned radiation beam. A chamber is located between the radiation source and patterning device. The chamber contains at least one optical component configured to reflect the radiation beam, and is configured to permit radiation from the radiation source to pass therethrough. A membrane (44) is configured to permit the passage of the radiation beam, and to prevent the passage of contamination particles (54) through the membrane. A particle trapping structure (52) is configured to permit gas to flow along an indirect path from inside the chamber to outside the chamber. The indirect path is configured to substantially prevent the passage of contamination particles (58) from inside the chamber to outside the chamber.

Abstract translation: 光刻设备包括被配置为产生辐射束的辐射源和被配置为支撑图案形成装置的支撑件。 图案形成装置被配置为使辐射束具有图案以形成图案化的辐射束。 腔室位于辐射源和图案形成装置之间。 所述腔室包括被配置为反射辐射束的至少一个光学部件，并且被配置为允许来自辐射源的辐射通过。 膜（44）构造成允许辐射束的通过，并且防止污染颗粒（54）通过膜。 颗粒捕获结构（52）被配置为允许气体沿着室内的间接路径流动到室外。 间接路径构造成基本上防止污染颗粒（58）从腔室内部通过到室外。

公开(公告)号：WO2011047120A1

公开(公告)日：2011-04-21

申请号：PCT/US2010/052613

申请日：2010-10-14

Applicant: RIGAKU INNOVATIVE TECHNOLOGIES, INC. ,  VERMAN, Boris ,  PLATONOV, Yuriy ,  JIANG, Licai

Inventor： VERMAN, Boris ,  PLATONOV, Yuriy ,  JIANG, Licai

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064

Abstract: An x-ray optical system includes an x-ray source which emits x-rays, a first optical element which conditions the x-rays to form two beams and at least a second optical element which further conditions at least one of the two beams from the first optical element.

Abstract translation: X射线光学系统包括发射x射线的X射线源，调节X射线以形成两个光束的第一光学元件和至少另外将来自两个光束中的至少一个的条件的第二光学元件 第一光学元件。

公开(公告)号：WO2010001015A1

公开(公告)日：2010-01-07

申请号：PCT/FR2009/051058

申请日：2009-06-04

Applicant: SAGEM DEFENSE SECURITE ,  MERCIER-YTHIER, Renaud ,  GEYL, Roland

Inventor： MERCIER-YTHIER, Renaud ,  GEYL, Roland

IPC: G02B17/06 ,  G21K1/06 ,  G02B19/00

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G02B17/061 ,  G02B17/0694 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70166 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: Un collecteur de rayonnement (10) est adapté pour concentrer dans une tache (100) une partie d'un rayonnement produit par une source. Le collecteur comprend un miroir primaire concave (1) et un miroir secondaire convexe (2), chacun à symétrie de révolution autour d'un axe optique (X-X) du collecteur. Le miroir primaire est adapté pour réfléchir le rayonnement collecté avec un angle d'incidence (i) qui est sensiblement constant entre des points différents dudit miroir primaire. Un tel collecteur est particulièrement adapté pour être utilisé avec une source du type plasma produit par décharge.

Abstract translation: 本发明涉及一种设计用于将由源产生的辐射的一部分集中在点（100）上的辐射收集器（10）。 收集器包括一个初级凹面镜（1）和一个副凸面镜（2），它们都围绕收集器的光轴（X-X）旋转对称。 主镜被配置成以在所述主镜上的不同点之间基本上恒定的入射角（i）反射所收集的辐射。 这种集电器特别适用于放电产生的等离子体源。

公开(公告)号：WO2009076111A2

公开(公告)日：2009-06-18

申请号：PCT/US2008085312

申请日：2008-12-03

Applicant: GEN ELECTRIC ,  HOPKINS FORREST FRANK ,  LEE SUSANNE MADELINE ,  EDIC PETER MICHAEL

Inventor： HOPKINS FORREST FRANK ,  LEE SUSANNE MADELINE ,  EDIC PETER MICHAEL

IPC: G21K1/06 ,  G21K1/10 ,  H01J35/16

CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G21K1/10 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067 ,  H01J35/16 ,  H01J2235/183

Abstract: A multi-energy imaging system and method for selectively generating high-energy X-rays and low-energy X-ray beams are described. A pair of optic devices are used, one optic device being formed to emit high X-ray energies and the other optic device being formed to emit low X-ray energies. A selective filtering mechanism is used to filter the high X-ray energies from the low X-ray energies. The optic devices have at least a first solid phase layer having a first index of refraction with a first photon transmission property and a second solid phase layer having a second index of refraction with a second photon transmission property. The first and second layers are conformal to each other.

Abstract translation: 描述了用于选择性地产生高能量X射线和低能量X射线束的多能量成像系统和方法。 使用一对光学装置，一个光学装置形成为发射高的X射线能量，而另一个光学装置形成为发射低的X射线能量。 选择性过滤机制用于过滤来自低X射线能量的高X射线能量。 该光学器件至少具有第一固相层，该第一固相层具有第一光子透射特性的第一折射率和具有第二光子透射特性的第二折射率的第二固相层。 第一层和第二层彼此保形。

公开(公告)号：WO2009061192A1

公开(公告)日：2009-05-14

申请号：PCT/NL2008/050704

申请日：2008-11-07

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V. ,  SCHIMMEL, Hendrikus Gijsbertus ,  VAN EMPEL, Tjarko Adriaan Rudolf ,  SWINKELS, Gerardus Hubertus Petrus Maria ,  VAN HERPEN, Maarten Marinus Johannes Wilhelmus ,  LABETSKI, Dzmitry

Inventor： SCHIMMEL, Hendrikus Gijsbertus ,  VAN EMPEL, Tjarko Adriaan Rudolf ,  SWINKELS, Gerardus Hubertus Petrus Maria ,  VAN HERPEN, Maarten Marinus Johannes Wilhelmus ,  LABETSKI, Dzmitry

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  H05G2/00

CPC classification number: G03F7/70916 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/10 ,  G21K2201/061 ,  H05G2/003

Abstract: A radation system (3) configured to generate a radiation beam (B). The system (3) has a chamber (3). The chamber (3) includes a radiation source (50) configured to generate radiation (B), and a radiation collector (70) configured to collect radiation (B) generated by the source (50), to transmit collected radiation to a radiation beam emission aperture (60). A spectral purity filter (80) enhances a spectral purity of the radiation (B) that is to be emitted via the aperture (60). The filter (80) is divided the chamber (3) into a high pressure region (Rl) and a low pressure region (R2).

Abstract translation: 辐射系统（3），被配置为产生辐射束（B）。 系统（3）具有腔室（3）。 腔室（3）包括被配置为产生辐射（B）的辐射源（50）和被配置为收集由源（50）产生的辐射（B））的辐射收集器（70），以将收集的辐射传输到辐射束 发射孔径（60）。 光谱纯度滤光器（80）增强了经由孔径（60）发射的辐射（B）的光谱纯度。 过滤器（80）将腔室（3）分成高压区域（R1）和低压区域（R2）。

公开(公告)号：WO2007019053A1

公开(公告)日：2007-02-15

申请号：PCT/US2006/028890

申请日：2006-07-26

Applicant: X-RAY OPTICAL SYSTEMS, INC. ,  CHEN, Zewu ,  GAO, Ning ,  GIBSON, Walter

Inventor： CHEN, Zewu ,  GAO, Ning ,  GIBSON, Walter

IPC: G21K1/06 ,  G01N23/223

CPC classification number: G01N23/223 ,  B82Y10/00 ,  G01N2223/076 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064

Abstract: An x-ray system or method for exciting a sample under x-ray analysis, using a curved monochromating optic for directing a monochromatic x-ray beam from an x-ray source towards a first focal area. A second optic is positioned within, and receives, the monochromatic x-ray beam, and directs a focused x-ray beam towards a second focal area on the sample. A detector is positioned near the sample to collect radiation from the sample as a result of the focused x-ray beam. The curved monochromating optic produces a beam spot size at the first focal area larger than a beam spot size produced by the second optic at the second focal area, therefore, a beam spot size on the sample is thereby reduced using the second optic. Doubly-curved monochromating optics, and polycapillary optics, are disclosed as possible implementations of the optics.

Abstract translation: 一种用于在x射线分析下激发样本的X射线系统或方法，使用弯曲单色光学器件将来自x射线源的单色x射线束引导到第一焦点区域。 第二光学器件位于单色X射线束内并接收单色X射线束，并将聚焦的X射线束引导到样品上的第二焦点区域。 检测器位于样品附近以由于聚焦的X射线束而从样品收集辐射。 弯曲单色光学器件在第一焦点区域处产生大于由第二焦点区域处的第二光学器件产生的光束尺寸的光束尺寸，因此，使用第二光学元件，样品上的光束尺寸因此减小。 公开了双折射单色光学器件和多毛细管光学器件作为光学器件的可能实现。