公开(公告)号：KR1020140074829A

公开(公告)日：2014-06-18

申请号：KR1020130149176

申请日：2013-12-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이케다,타로오 ,  고마츠,도모히토 ,  가사이,시게루 ,  미야시타,히로유키 ,  오사다,유키 ,  다니하라,아키라 ,  후지노,유타카

IPC: H05H1/34 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/3222 ,  H01J37/32201 ,  H05H1/34 ,  H01L21/31 ,  H05H1/46

Abstract: Provided are a microwave radiation antenna, a microwave plasma source and plasma processing apparatus which uniformly form plasma while suppressing the power loss and abnormal discharge of microwave. A microwave radiation antenna (45) of the present invention to radiate microwave into a chamber transmitted along a microwave transmission line and generate surface wave plasma includes an antenna body (121) which is formed with a conductor; a process gas introduction hole (124) formed in the antenna body (121); a gas diffusion space (123); a plurality of gas outlet holes (125); a plurality of slots (122) formed corresponding to the microwave transmission line in the antenna body (121) while being separated from the gas diffusion space (123) and the gas outlet holes (125); and a ring-shaped dielectric member (126) which is installed to include a slot-formed region in the microwave radiation side of the antenna body (121).

Abstract translation: 提供了一种微波辐射天线，微波等离子体源和等离子体处理装置，其在抑制微波的功率损耗和异常放电的同时均匀地形成等离子体。 本发明的微波辐射天线（45）将微波辐射到沿着微波传输线传输并产生表面波等离子体的腔室中包括形成有导体的天线体（121）; 形成在所述天线体（121）中的处理气体导入孔（124）。 气体扩散空间（123）; 多个气体出口孔（125）; 与天线体（121）中的微波传输线对应形成的多个槽（122），同时与气体扩散空间（123）和气体出口孔（125）分离; 以及安装成在天线体（121）的微波辐射侧包括狭缝形成区域的环状电介质构件（126）。

公开(公告)号：KR1020140038433A

公开(公告)日：2014-03-28

申请号：KR1020137031522

申请日：2012-04-25

Applicant: 사이렘 소시에떼 프흐 라플리까시옹 에뒤스트리엘 드 라 레세르세 앙 엘렉트로니끄 에 마이크로 옹데

Inventor： 그랑데멩제아드리엥 ,  자코미노쟝-마리 ,  라뒤마릴레나 ,  라뜨하쎄루이스

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H05B6/6447 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32201 ,  H01J37/32229 ,  H01J37/32266 ,  H01J37/32302 ,  H01J37/32311 ,  H01J37/32678 ,  H05B6/664 ,  H05B6/74

Abstract: 본 발명은 부하의 마이크로웨이브 처리 설비(1)에 관한 것으로서, 하나 이상의 인가 기구(30); 전자기파를 가이드하는 수단(5)에 의하여 하나 이상의 인가 기구(30)에 연결된, 마이크로웨이브 영역의 하나 이상의 고상 발생기(4); 대응되는 발생기(4)에 의하여 생성된 상기 전자기파의 주파수(f
(i) )를 조정하도록 설계된 하나 이상의 주파수 조정 시스템(40); 인가 기구(30)에 의하여 반사된 출력(P
R(i) )을 측정하도록 설계된, 상기 인가 기구(30) 또는 각각의 인가 기구(30)를 위한 측정 시스템(31); 그리고 각각의 주파수 조정 시스템(40) 및 각각의 측정 시스템(31)에 연결되어, 반사 출력(P
R(i) ) 및/또는 전송 출력(P
T(i) )을 조정하도록, 반사 출력에 따라 전자기파의 주파수(f
(i) )의 조정을 제어하는 자동화 제어 수단(6)을 포함한다.

公开(公告)号：KR1020130127357A

公开(公告)日：2013-11-22

申请号：KR1020127015107

申请日：2010-11-05

Applicant: 마이어 버거 (저머니) 아게

Inventor： 뮈게,호르스트 ,  바움게르트너,클라우스-마틴 ,  카이저,마티아스 ,  알버츠,루카스

IPC: H01J37/32 ,  C23C16/511

CPC classification number: H01J37/32211 ,  C23C16/511 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32266 ,  H01J37/32201

Abstract: 본 발명은 기판을 코팅하는 CVD 용 마이크로파를 사용하여 플라즈마를 생성하는 장치로서, 진공 용기(2) 및 전기 전도체(3)를 포함하고, 상기 진공 용기 안으로 반응 가스가 공급되고, 상기 전기 전도체는 진공 용기 안에 배치되고 마이크로파 결합 장치(6)와 연결되어 있는, 플라즈마 생성 장치로서, 상기 전기 전도체(3)의 양 단부는 각각 마이크로파 결합 장치(6)와 연결되어 있고, 상기 전기 전도체(3)는 전압원(7)과 연결되어 있고, 상기 전압원을 사용하여 상기 전기 전도체(3)와 주변 진공 용기(2) 사이에서 전위차가 생성될 수 있고, 상기 전기 전도체(3)는 마이크로파 생성 장치(6)에 결합된 상기 장치와 절연되어 있는 플라즈마 생성 장치에 관한 것이다. 상기 전기 전도체(3)는 막대 형태 또는 굴곡진 형태이다. 상기 전기 전도체(3)는 피드스루 필터를 통해서 상기 전압원(7)에 연결되어 있다. 마이크로파 생성 장치(6)에 결합된 상기 장치는 상기 전기 전도체(3)를 따라서 깔때기 형상과 같이 넓어지고 유전 물질(11)로 부분적으로 또는 완전히 채워져 있다. 마이크로파 생성 장치(6)에 결합된 상기 장치는 상기 전기 전도체 주변을 따라서 홈이 난 오목부를 가진다.

公开(公告)号：KR1020080108922A

公开(公告)日：2008-12-16

申请号：KR1020080054759

申请日：2008-06-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  고쿠리츠다이가쿠호진 도호쿠다이가쿠

Inventor： 히라야마마사키 ,  오미다다히로

IPC: H05H1/24 ,  H05H1/30 ,  H05H1/34

CPC classification number: H01J37/32201 ,  H01J37/32348 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32541 ,  H01J37/3255 ,  H01J37/32559 ,  H05H1/2406 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/2412 ,  H05H2001/4607

Abstract: A plasma processing apparatus including antenna is provided to prevent a discharge error and to generate uniform and stable plasma by not generating a gap between a metal electrode and dielectric cover. A plasma processing apparatus processes an object using plasma generated by exciting a gas with an electromagnetic wave, and includes a treatment receptacle, an electromagnetic wave source, a conductor rod, a dielectric plate(305), and a metal electrode(310). The electromagnetic wave source outputs an electromagnetic wave. The conductor rod transmits the electromagnetic wave outputted from the electromagnetic wave source. A penetration hole(305a) is formed on the dielectric plate which emits the electromagnetic wave transmitted from the conductor rod. The metal electrode is connected to the conductor rod through the penetration hole formed in the dielectric plate. An open surface of the metal electrode is covered with the dielectric cover(320).

Abstract translation: 提供包括天线的等离子体处理装置，以防止放电误差，并且通过不产生金属电极和电介质盖之间的间隙来产生均匀且稳定的等离子体。 等离子体处理装置使用通过用电磁波激发气体产生的等离子体处理物体，并且包括处理容器，电磁波源，导体棒，电介质板（305）和金属电极（310）。 电磁波源输出电磁波。 导体棒传输从电磁波源输出的电磁波。 在电介质板上形成有从导体棒发射的电磁波的贯通孔（305a）。 金属电极通过形成在电介质板中的贯通孔与导体棒连接。 金属电极的开放表面被绝缘盖（320）覆盖。

公开(公告)号：KR1020020046922A

公开(公告)日：2002-06-21

申请号：KR1020010064036

申请日：2001-10-17

Applicant: 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 ,  가부시키가이샤 히타치디스플레이디바이시스

Inventor： 오구라토시오 ,  쿠가마스미 ,  오구로토모카츠 ,  모리이케토오루

IPC: H01J23/12

CPC classification number: H01J37/32201 ,  H01J23/005 ,  H01J23/02 ,  H01J23/20 ,  H01J23/213 ,  H01J23/22 ,  H01J23/48 ,  H01J25/587 ,  H01J2223/05 ,  H01J2223/12 ,  H01J2223/14 ,  H01J2223/15

Abstract: PURPOSE: To provide a magnetron having an oscillation frequency of 400 to 600 MHz and a processing device using the magnetron. CONSTITUTION: The magnetron is provided with a negative electrode part including a thermion emission source, a positive electrode part including a plurality of positive electrode vanes, magnetic circuit part including magnet-generating means and a output part including an antenna, and each electrode measures as follows. F (outer diameter of a negative electrode filament)=5.0 to 6.0 mm G (inner diameter of a vane end)=10 to 13 mm D1 (inner diameter of positive electrode cylinder part)=110 to 130 mm F/G £(outer diameter of a negative electrode filament)/(inner diameter of a vane end)|=0.38 to 0.6 L1 (total length of a positive electrode vane)=50 to 56 mm H1 (height of a positive electrode vane)=13 to 15 mm H2 (height of a notched part)=0 to 3 mm T1 (thickness of a positive electrode vane)=7.5 to 8.5 mm.

Abstract translation: 目的：提供振荡频率为400〜600MHz的磁控管和使用该磁控管的处理装置。 构成：磁控管设置有包括热电子发射源的负极部分，包括多个正电极叶片的正电极部分，包括磁体产生装置的磁路部分和包括天线的输出部分，并且每个电极测量为 如下。 F（负极灯丝的外径）= 5.0〜6.0mm G（叶片端部的内径）= 10〜13mm D1（正极筒部的内径）= 110〜130mm F / G£ 负极灯丝的直径）/（叶片端部的内径）| = 0.38〜0.6 L1（正极叶片的总长度）= 50〜56mm H1（正极叶片的高度）= 13〜15mm H2（切口部的高度）= 0〜3mm T1（正极叶片的厚度）= 7.5〜8.5mm。