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    白色非晶質ガラス
    31.
    发明专利
    白色非晶質ガラス 审中-公开

    公开(公告)号：JP2019073421A

    公开(公告)日：2019-05-16

    申请号：JP2017202335

    申请日：2017-10-19

    Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社

    Inventor： 菊池 僚 ,  堀越 秀春

    IPC: C03C4/08 ,  H01L21/3065 ,  C03C3/095

    Abstract: 【課題】プラズマを用いる半導体製造装置または液晶製造装置の部材として、充分な耐久性及び遮熱性(熱線に対する遮断性)を有する石英ガラスを提供する。 【解決手段】Si、Al及びYを含有する酸化物からなる非晶質ガラスであって、明度(L*)が90%以上である、非晶質ガラス。 【選択図】なし

    紫外線吸収性を有する石英ガラス物品及びその製造方法
    32.
    发明专利
    紫外線吸収性を有する石英ガラス物品及びその製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018138499A

    公开(公告)日：2018-09-06

    申请号：JP2017033349

    申请日：2017-02-24

    Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社 ,  国立大学法人福井大学

    Inventor： 堀越 秀春 ,  葛生 伸

    IPC: C03C3/06 ,  C03C23/00

    Abstract: 【課題】高温でのNH 3 ガス含有雰囲気で熱処理を要することなく紫外線吸収性を有する石英ガラス物品を製造できる新たな方法及び新たな紫外線吸収性を有する石英ガラス物品を提供すること。 【解決手段】熔融石英ガラス物品の少なくとも一部に放射線を照射することで、放射線を照射した部位の紫外線吸収性を高めることを含む、紫外線吸収性を有する石英ガラス物品の製造方法。アルミニウム含有量が30ppm以下であり、アルミニウム以外の金属不純物の含有量が20ppm以下であり、かつアルミニウム及びアルミニウム以外の金属不純物の合計含有量が50ppm以下である熔融石英ガラス物品であって、前記物品の少なくとも一部に、厚さ10mmにおける波長220nmの紫外光の透過率が10%未満である紫外線吸収性を有する構造欠陥部位を有する、紫外線吸収性を有する石英ガラス物品。 【選択図】なし

    Melted quartz glass and method for manufacturing the same
    33.
    发明专利
    Melted quartz glass and method for manufacturing the same 有权
    熔融石英玻璃及其制造方法

    公开(公告)号：JP2014005204A

    公开(公告)日：2014-01-16

    申请号：JP2013215033

    申请日：2013-10-15

    Applicant: Tosoh Corp ,  東ソー株式会社 ,  Tohos Sgm Kk ,  東ソ−・エスジ−エム株式会社

    Inventor： ARAI KAZUYOSHI ,  TAKAHATA TSUTOMU ,  HASHIMOTO SHINKICHI ,  UCHIDA MASATO ,  YAMADA SHUSUKE ,  HARADA YOSHINORI ,  HORIKOSHI HIDEHARU

    IPC: C03C3/06 ,  C03B3/02 ,  C03B5/235 ,  C03B20/00

    CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03C3/06 ,  C03C4/10 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54 ,  Y02P40/57

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To inexpensively provide a melted quartz glass which is suitably usable for various optical materials that use ultraviolet rays, visible rays and infrared rays, a member for manufacturing a semiconductor, a member for manufacturing a liquid crystal, a member for manufacturing MEMS, and a glass substrate for a liquid crystal, has a high transmittance to ultraviolet rays, visible rays and infrared rays, has high purity and high heat resistance, and a low diffusion speed of a Cu ion.SOLUTION: In a melted quartz glass, an internal transmittance to ultraviolet light having a wavelength of 245 nm in a thickness of 10 mm is 95% or more, an OH content is 5 ppm or less, and each content of Li, Na, K, Mg, Ca and Cu is less than 0.1 ppm. Preferably, Al is contained therein in weight ratio of 2 ppm or less, the viscosity at 1,215°C is 10Pa s or more, and a diffusion coefficient of a Cu ion in a depth of 20 to 100 μm from the surface in thermal diffusion of the Cu ion at 1,050°C in the atmosphere is 1×10cm/sec or less. Such a melted quartz glass can be obtained by previously converting raw material silica powder into cristobalite, and then melting the cristobalitized silica powder in a non-reducing atmosphere.

    Abstract translation: 要解决的问题：为了廉价地提供适用于使用紫外线，可见光和红外线的各种光学材料的熔融石英玻璃，用于制造半导体的部件，用于制造液晶的部件，制造用部件 MEMS和用于液晶的玻璃基板对紫外线，可见光线和红外线具有高透射率，具有高纯度和高耐热性以及较低的Cu离子扩散速度。在熔融石英玻璃 对于厚度为10mm的波长为245nm的紫外线的内部透射率为95％以上，OH含量为5ppm以下，Li，Na，K，Mg，Ca，Cu的含量为 小于0.1ppm。 优选地，其中含有2重量％以下的Al，1,215℃下的粘度为10Pa·s以上，Cu离子的热扩散表面的深度为20〜100μm的扩散系数 大气中1,050℃的Cu离子为1×10cm /秒以下。 这种熔融的石英玻璃可以通过将原料二氧化硅粉末预先转化为方英石，然后在非还原气氛中熔化澄清二氧化硅粉末来获得。

    Quartz glass, method of producing the same, member using the same and apparatus
    36.
    发明专利
    Quartz glass, method of producing the same, member using the same and apparatus 审中-公开
    QUARTZ玻璃，其制造方法，使用它们的成员和装置

    公开(公告)号：JP2010018471A

    公开(公告)日：2010-01-28

    申请号：JP2008179537

    申请日：2008-07-09

    Applicant: Tohos Sgm Kk ,  Tosoh Corp ,  東ソ−・エスジ−エム株式会社 ,  東ソー株式会社

    Inventor： ARAI KAZUYOSHI ,  YAMADA SHUSUKE ,  HARADA YOSHINORI ,  HASHIMOTO SHINKICHI ,  UCHIDA MASAHITO ,  TAKAHATA TSUTOMU ,  HORIKOSHI HIDEHARU

    IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  H01L51/50 ,  H05B33/02 ,  H05B33/10

    CPC classification number: Y02P40/57

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To inexpensively provide quartz glass usable for various kinds of optical material, a member for manufacturing a semiconductor and a member for manufacturing a liquid crystal and having high transmittance to ultraviolet light, visible light and infrared light, high purity and high heat resistance and the low diffusion rate of Cu ion. SOLUTION: The quartz glass has Cu concentration of ≤0.01 ppm at the depth of 5 mm from the exposed surface when exposed to Cu oxide vapor at 1,050°C for four hours under the atmosphere, contains ≤0.2 ppm in total of Li and Na and 11.5 Pa s coefficient of viscosity at 1,215°C and the coefficient of viscosity increased to ≥10 12.0 Pa s by containing ≤3 ppm Al by weight. The quartz glass is obtained by forming raw material silica powder into cristobalite and melting in a non-reducing atmosphere. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

    Abstract translation: 要解决的问题：为了廉价地提供可用于各种光学材料的石英玻璃，用于制造半导体的部件和用于制造液晶的部件，对紫外线，可见光和红外光具有高透射率，高 纯度高，耐热性高，Cu离子扩散速率低。

    解决方案：在大气中，当1050℃暴露于氧化铜蒸汽4小时时，石英玻璃的Cu浓度在暴露表面5mm深度处的浓度≤0.01ppm，总共含有≤0.2ppm的Li 和Li，Na，K，Mg，Ca和Cu中的Na和<0.1ppm。 石英玻璃对于245nm波长的紫外光，在10mm厚度下具有≥95％的内部透射率，在1,215℃下粘度系数≥10 11.5 Pa的粘度系数，粘度系数增加到≥10< SP> 12.0 ，通过含有≤3ppm重量的Al。 通过将原料二氧化硅粉末成形为方石英并在非还原气氛中熔融而获得石英玻璃。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

    Doped silica glass and its producing method
    38.
    发明专利
    Doped silica glass and its producing method 有权
    二氧化硅玻璃及其生产方法

    公开(公告)号：JP2006021952A

    公开(公告)日：2006-01-26

    申请号：JP2004201253

    申请日：2004-07-08

    Applicant: Tohos Sgm Kk ,  東ソ−・エスジ−エム株式会社

    Inventor： HORIKOSHI HIDEHARU

    IPC: C03B8/00 ,  C03B8/02 ,  C03B8/04 ,  G02B6/13

    CPC classification number: C03B19/12 ,  C03B32/00

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for efficiently producing doped silica glass in which a dopant element exists uniformly and which has excellent uniformity. SOLUTION: The doped silica glass is produced by vitrifying a silica glass precursor, obtained by incorporating the dopant element into silica, by heating it by the irradiation with electromagnetic waves. The doped silica glass contains no aggregated particle of the dopant element, having a particle diameter of ≥1 μm. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种有效地生产其中掺杂剂元素均匀存在并且具有优异均匀性的掺杂石英玻璃的方法。 解决方案：掺杂二氧化硅玻璃通过将通过将掺杂剂元素掺入二氧化硅而获得的石英玻璃前体玻璃化，通过用电磁波照射进行加热来制造。 掺杂的石英玻璃不含有粒径≥1μm的掺杂剂元素的聚集粒子。 版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

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