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公开(公告)号：JP6769893B2
公开(公告)日：2020-10-14
申请号：JP2017033350
申请日：2017-02-24
Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社 , 国立大学法人福井大学
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公开(公告)号：JP2020033222A
公开(公告)日：2020-03-05
申请号：JP2018160714
申请日：2018-08-29
Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社
Abstract: 【課題】反射率(不透明性)のより高い、具体的には、厚み3mmにおいて波長0.4〜2.5μmの全光線反射率の平均値が50%以上の不透明石英ガラスの製造方法を提供する。 【解決手段】シリカ粉末と窒化珪素粉末の混合粉末を酸水素火炎で溶融し、ターゲット上に石英ガラスを堆積させて、独立した気泡を含有する不透明石英ガラスを製造する方法。前記混合粉末中への窒化珪素粉末の添加量は0.1〜0.5質量%の範囲であり、前記窒化珪素粉末における2μm未満の窒化珪素粒子の割合は85体積%以上であり、かつ製造される不透明石英ガラスは、厚み3mmにおいて波長0.4〜2.5μmの全光線反射率の平均値が50%以上である。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2020033221A
公开(公告)日：2020-03-05
申请号：JP2018160713
申请日：2018-08-29
Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社
Abstract: 【課題】反射率(不透明性)のより高い不透明石英ガラスの製造方法を提供する。 【解決手段】シリカ粉末と窒化珪素粉末の混合粉末を酸水素火炎で溶融し、石英ガラスをターゲット上に堆積させて、独立した気泡を含有する不透明石英ガラスを製造する方法。前記シリカ粉末の粒度範囲は20〜500μmの範囲であり、D50(平均粒子径)は80〜160μmの範囲であり、かつ製造される不透明石英ガラスは、厚み3mmにおいて波長0.4〜2.5μmの全光線反射率の平均値が50%以上の範囲である。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2016088765A
公开(公告)日：2016-05-23
申请号：JP2014221362
申请日：2014-10-30
Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社
CPC classification number: Y02P40/57
Abstract: 【課題】薄肉・長尺化したリング形状であっても、加熱伸展成型ときの偏芯を抑制して、肉厚に偏りのないリング形状の石英ガラス製品を製造できる方法を提供する。 【解決手段】加熱伸展成型である鋳型の底板7と下外筒6とで形成される空間に被成形用石英ガラス塊QGを供給し、被成形用石英ガラス塊QGが変形可能な温度において、被成形用石英ガラス塊QGを重石の作用によりパンチ2で押圧して変形させてリング状の石英ガラス製品を製造する方法。 【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：即使在薄壁和长型环形的情况下，提供一种能够通过抑制加热延伸成型期间产生的偏心而产生厚度不变的环形石英玻璃制品的方法。 提供了一种将待模制的石英玻璃料滴QG供给到由作为加热延伸模具的模具的底板7和下外筒6形成的空间中的石英玻璃料滴QG， 通过冲压件2的压制和变形，在待模制的石英玻璃料滴QG的可变形温度下通过重量的作用，从而制成环形石英玻璃制品。图1
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公开(公告)号：JP4458963B2
公开(公告)日：2010-04-28
申请号：JP2004201253
申请日：2004-07-08
Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社
Inventor： 秀春 堀越
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for efficiently producing doped silica glass in which a dopant element exists uniformly and which has excellent uniformity. SOLUTION: The doped silica glass is produced by vitrifying a silica glass precursor, obtained by incorporating the dopant element into silica, by heating it by the irradiation with electromagnetic waves. The doped silica glass contains no aggregated particle of the dopant element, having a particle diameter of ≥1 μm. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP4213413B2
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：JP2002186599
申请日：2002-06-26
Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社 , 東ソー株式会社
Inventor： 秀春 堀越
IPC: C03B20/00 , C03B8/04 , C03C3/06 , G03F1/60 , H01L21/027
CPC classification number: C03B19/1461 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , Y02P40/57
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a low cost synthetic quartz glass for vacuum ultraviolet light which has excellent homogeneity and is manufactured using existing general equipment without carrying out excessive and needless modification of a quartz glass synthesized by the soot method (VAD method) using a glass forming raw material such as SiCl 4 and a manufacturing method of the same and a mask substrate for vacuum ultraviolet light using the same. SOLUTION: The synthetic quartz glass for vacuum ultraviolet light has ≥70% transmissivity per 10 mm thickness in 163 mm wave length, the difference (refractive index distribution) of ≤5×10 -6 per 10 mm thickness between the maximum refractive index and the minimum refractive index in a region of 200 mm diameter and ≤5 nm/cm birefringence. The manufacturing method of the same and the mask substrate for vacuum ultraviolet light using the same are provided. COPYRIGHT: (C)2004,JPO
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公开(公告)号：JP2006008452A
公开(公告)日：2006-01-12
申请号：JP2004188510
申请日：2004-06-25
Applicant: Tohos Sgm Kk , 東ソ−・エスジ−エム株式会社
Inventor： KAMO KENJI , MITARAI KAZUHARU , YOSHIDA NAOKI
CPC classification number: C03B19/01
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for highly pure quartz glass which is excellent in ultraviolet transmission, emits no fluorescence when exposed to ultraviolet radiation and contains extremely few bubbles.
SOLUTION: In this manufacturing method for the highly pure quartz glass, an amorphous silica powder is heated and melted in oxyhydrogen flame and deposited in a furnace. The amorphous silica powder contains Ti, Na, K and Li each independently in an amount of ≤0.5 ppm. Fire bricks that compose the furnace and contact the deposited quartz glass contain Ti, Na, K and Li each independently in an amount of ≤0.5 wt.%. The quartz glass contains Ti, Na, K and Li each independently in an amount of ≤0.5 ppm.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPIAbstract translation: 要解决的问题：为了提供一种紫外线透射性优异的高纯度石英玻璃的制造方法，当暴露于紫外线并且含有极少的气泡时，不发出荧光。 解决方案：在这种高纯石英玻璃的制造方法中，将无定形二氧化硅粉末在氢氧焰中加热熔化并沉积在炉中。 无定形二氧化硅粉末分别独立地含有≤0.5ppm的Ti，Na，K和Li。 组成炉并与沉积的石英玻璃接触的防火砖各自独立地含有≤0.5重量％的Ti，Na，K和Li。 石英玻璃含有Ti，Na，K和Li各自独立地为≤0.5ppm。 版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI
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公开(公告)号：JP6943679B2
公开(公告)日：2021-10-06
申请号：JP2017159943
申请日：2017-08-23
Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社
IPC: C03B11/00
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公开(公告)号：JP2020083725A
公开(公告)日：2020-06-04
申请号：JP2018222950
申请日：2018-11-29
Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社
Abstract: 【課題】石英ガラスの溶融部に耐火金属を用いる必要がなく、そのための水素雰囲気によらずに石英ガラスを溶融して成型することができる石英ガラス成型体の製造方法およびその製造装置を提供する。 【解決手段】石英ガラスの原料粉を酸水素火炎で溶融させて、溶融したガラスを溶融部内に堆積させる溶融過程と、溶融部内の側壁近傍以外の溶融ガラスを予備成型部内を流下させて、予備成型部の下流の成型部での流出に適した粘度の溶融ガラスを得る粘度調整過程と、粘度調整された溶融ガラスを成型部内を流下させ、かつ成型口から流出させる冷却過程と、次いで、流出した石英ガラスの成型部材を冷却部で冷却する冷却過程とを有する、石英ガラス成型体の製造方法。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2018184335A
公开(公告)日：2018-11-22
申请号：JP2018009919
申请日：2018-01-24
Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社
Inventor： 堀越 秀春
Abstract: 【課題】優れた高調波レーザーに対する耐久性を有する耐紫外線性石英ガラス及びその製造方法を提供する。 【解決手段】合成シリカ粉を熔融することを含む耐紫外線性石英ガラスの製造方法。シリカ粉をアークプラズマ熔融することを含む耐紫外線性石英ガラスの製造方法。YAGレーザー(照射条件:YAGレーザー出力180mW、パルス幅20nsec、周波数80kHz)の4倍高調波(266nm)照射時の、光路長30mmでの初期透過率を100%とし、透過率が3%低下するまでの照射時間を紫外線に対する耐性(以下、耐紫外線性と呼ぶ)と定義し、前記耐紫外線性が、2500秒以上である耐紫外線性石英ガラス。本発明の石英ガラスからなる、YAGレーザーの高調波用光学部材。 【選択図】なし
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