公开(公告)号：JP2019073421A

公开(公告)日：2019-05-16

申请号：JP2017202335

申请日：2017-10-19

Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社

Inventor： 菊池 僚 ,  堀越 秀春

IPC: C03C4/08 ,  H01L21/3065 ,  C03C3/095

Abstract: 【課題】プラズマを用いる半導体製造装置または液晶製造装置の部材として、充分な耐久性及び遮熱性(熱線に対する遮断性)を有する石英ガラスを提供する。 【解決手段】Si、Al及びYを含有する酸化物からなる非晶質ガラスであって、明度(L*)が90%以上である、非晶質ガラス。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2020033222A

公开(公告)日：2020-03-05

申请号：JP2018160714

申请日：2018-08-29

Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社

Inventor： 加茂 賢治 ,  菊池 僚 ,  堀越 秀春 ,  江頭 英孝

IPC: C03C11/00 ,  C03C14/00 ,  C03C3/06 ,  C03B8/00 ,  C03B20/00

Abstract: 【課題】反射率(不透明性)のより高い、具体的には、厚み3mmにおいて波長0.4〜2.5μmの全光線反射率の平均値が50%以上の不透明石英ガラスの製造方法を提供する。 【解決手段】シリカ粉末と窒化珪素粉末の混合粉末を酸水素火炎で溶融し、ターゲット上に石英ガラスを堆積させて、独立した気泡を含有する不透明石英ガラスを製造する方法。前記混合粉末中への窒化珪素粉末の添加量は0.1〜0.5質量%の範囲であり、前記窒化珪素粉末における2μm未満の窒化珪素粒子の割合は85体積%以上であり、かつ製造される不透明石英ガラスは、厚み3mmにおいて波長0.4〜2.5μmの全光線反射率の平均値が50%以上である。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2020033221A

公开(公告)日：2020-03-05

申请号：JP2018160713

申请日：2018-08-29

Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社

Inventor： 菊池 僚 ,  加茂 賢治 ,  堀越 秀春 ,  江頭 英孝

IPC: C03B8/00 ,  C03C11/00 ,  C03C14/00 ,  C03C3/06 ,  C03B20/00

Abstract: 【課題】反射率(不透明性)のより高い不透明石英ガラスの製造方法を提供する。 【解決手段】シリカ粉末と窒化珪素粉末の混合粉末を酸水素火炎で溶融し、石英ガラスをターゲット上に堆積させて、独立した気泡を含有する不透明石英ガラスを製造する方法。前記シリカ粉末の粒度範囲は20〜500μmの範囲であり、D50(平均粒子径)は80〜160μmの範囲であり、かつ製造される不透明石英ガラスは、厚み3mmにおいて波長0.4〜2.5μmの全光線反射率の平均値が50%以上の範囲である。 【選択図】なし