公开(公告)号：CN108699320B

公开(公告)日：2020-11-06

申请号：CN201780011656.5

申请日：2017-03-30

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 松土和彦 ,  渡边智志

IPC: C08L63/00 ,  C08F2/44 ,  C08F2/48 ,  C08G59/22 ,  C08G59/32 ,  C08G65/18 ,  C08K5/00 ,  C08K5/06 ,  C08K5/103

Abstract: 本发明提供固化物的玻璃化转变温度高、密合性优异的固化性组合物、固化物的制造方法、及其固化物。其含有：阳离子聚合性成分(A)30～99质量份、阳离子聚合引发剂(B)0.1～10质量份、自由基聚合性成分(C)0～55质量份、自由基聚合引发剂(D)0～10质量份、及聚合物(E)1～30质量份，所述聚合物(E)的重均分子量为1000～30000，选自由式(I)所示的单体得到的聚合物、由式(II)所示的单体得到的聚合物等，式(I)中，X为碳原子数1～7的烷基等，式(II)中，R1表示氢原子等，X’为碳原子数1～7的烷基等，(A)成分是分子量200以上的多元醇的缩水甘油化物等及脂环式环氧化合物，(C)成分是具有环氧基等的化合物等。

公开(公告)号：CN111630099A

公开(公告)日：2020-09-04

申请号：CN201980006822.1

申请日：2019-11-06

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 中富美奈子 ,  上田直人 ,  正井省吾

IPC: C08L23/00 ,  C08K5/20

Abstract: 提供：具有优异的β晶形成作用的聚烯烃系树脂用成核剂、含有其的聚烯烃系树脂用成核剂组合物、聚烯烃系树脂用母料、聚烯烃系树脂组合物、其成型品、其薄膜、多孔薄膜的制造方法和包装体。所述聚烯烃系树脂用成核剂包含下述通式(1)所示的化合物(通式(1)中，M表示1～3价的比重为4.0以下的金属原子等，a表示1或2，b表示1或3，x表示1～3的整数，满足ax＝2b。Z表示下述通式(2)或(3)所示的基团。(通式(2)和(3)中，*表示与通式(1)的Z连接的位置，Y表示直接键合、或碳原子数1～4的亚烷基，R1～R10各自独立地表示氢原子、羟基、卤素原子、碳原子数1～10的烷基等。))。

公开(公告)号：CN111433335A

公开(公告)日：2020-07-17

申请号：CN201880078716.X

申请日：2018-11-27

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 山本贤二 ,  五十岚修平 ,  花村亮

IPC: C10M171/06 ,  C10M171/04 ,  C10N20/00 ,  C10N20/04 ,  C10N20/06 ,  C10N30/06 ,  C10N40/00 ,  C10N40/02 ,  C10N40/04 ,  C10N40/08 ,  C10N40/12 ,  C10N40/16 ,  C10N40/20 ,  C10N40/24 ,  C10N40/25 ,  C10N40/30 ,  C10N50/10

Abstract: 本发明的润滑剂组合物含有：基础油，和基本上由碳、氢和氧三种元素构成、且粒径10nm～10μm的粒子的比例为90％以上的有机微粒；其中，所述有机微粒的含量相对于基础油100质量份，为0.01～50质量份。

公开(公告)号：CN111093616A

公开(公告)日：2020-05-01

申请号：CN201880057975.4

申请日：2018-08-28

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 坂本孝雄 ,  津岛康宏 ,  竹石友纪

IPC: A61K8/87 ,  A61K8/04 ,  A61K8/73 ,  A61K8/81 ,  A61Q1/00

Abstract: 本发明的目的在于，提供一种与以往的化妆料相比、性能得以进一步改良的化妆料组合物。为了实现上述目的，本发明提供一种含有作为下述通式(1)所示的水系凝胶化剂的成分(A)和作为高分子增稠剂的成分(B)的化妆料组合物、该水系凝胶化剂的制造方法以及该化妆料组合物的制造方法，在所述化妆料组合物中，成分(A)的25℃下的1质量％水溶液的粘度为1000～5000mPa·s，成分(A)的1质量％水溶液的浊点为60℃以上且80℃以下，成分(A)的重均分子量为10000～30000。(式中，R1、R2、R8以及R9分别独立地表示碳数4～20的烃基，R3、R5以及R7分别独立地表示碳数2～4的二价的烃基，R4和R6分别独立地表示碳数3～16的二价的烃基，a和e分别独立地表示10～100的数，d表示100～500的数，g表示0～10的数。)

公开(公告)号：CN111032663A

公开(公告)日：2020-04-17

申请号：CN201880052124.0

申请日：2018-08-09

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 冈田奈奈 ,  畑濑雅子 ,  西田章浩 ,  樱井淳

IPC: C07F5/00 ,  C23C16/18 ,  H01L21/31

Abstract: 本发明在于提供由下述通式(1)表示的金属醇盐化合物、含有该化合物的薄膜形成用原料及使用该原料来形成含有金属的薄膜的薄膜的制造方法：[化1](式中，R1表示氢原子或者碳原子数1～4的烷基，R2表示异丙基、仲丁基、叔丁基、仲戊基、1-乙基丙基或者叔戊基，R3表示氢或者碳原子数1～4的烷基，R4表示碳原子数1～4的烷基，M表示钪原子、钇原子、镧原子、铈原子、镨原子、钕原子、钷原子、钐原子、铕原子、钆原子、铽原子、镝原子、钬原子、铒原子、铥原子、镱原子或者镥原子，n表示由M表示的原子的价数。但是，在M为镧原子的情况下，R2为仲丁基、叔丁基、仲戊基、1-乙基丙基或者叔戊基)。

公开(公告)号：CN107076907B

公开(公告)日：2020-04-14

申请号：CN201580052532.2

申请日：2015-09-18

Applicant: 株式会社ADEKA ,  住友化学株式会社

Inventor： 本间英里 ,  松土和彦 ,  渡边智志 ,  久米悦夫 ,  古川达也

IPC: G02B5/30 ,  B32B27/30 ,  B32B27/38 ,  C09J11/06 ,  C09J133/00 ,  C09J163/00 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明提供一种光固化性胶粘剂、以及使用该光固化性胶粘剂的偏振板、层叠光学构件及液晶显示装置，所述光固化性胶粘剂含有：包含作为芳香族环氧化合物的第1光阳离子固化性成分(A1)的光阳离子固化性成分(A)、包含规定的单体(I)和/或单体(II)的聚合物(B)、以及光阳离子聚合引发剂(C)，相对于光阳离子固化性成分(A)及聚合物(B)的总量100重量份，聚合物(B)的含量为2～10重量份，第1光阳离子固化性成分(A1)的含量为10～40重量份，光阳离子聚合引发剂(C)的含量为1～10重量份。

公开(公告)号：CN110741053A

公开(公告)日：2020-01-31

申请号：CN201880039373.6

申请日：2018-06-12

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 原宪司 ,  入泽正福

IPC: C09D129/04 ,  C08L29/04 ,  C08L29/14 ,  C08L33/00 ,  C08L39/06 ,  C09D4/06 ,  C09D7/63 ,  C09D7/65 ,  C09D139/06 ,  C09D175/04

Abstract: 本发明涉及含有选自下述(1)和(2)的水溶性聚合物的涂料组合物：(1)聚乙烯醇、其改性物或其衍生物；(2)聚乙烯吡咯烷酮、其改性物或其衍生物。

公开(公告)号：CN110383430A

公开(公告)日：2019-10-25

申请号：CN201880016111.8

申请日：2018-01-26

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 大宫大辅

IPC: H01L21/308

Abstract: 提供即使不含氯化氢，蚀刻所产生的窄化宽度也较少，能够形成直线性良好且具有期望宽度的细线的对氧化铟系层的蚀刻有用的蚀刻液组合物。用于蚀刻氧化铟系层的蚀刻液组合物。含有：(A)过氧化氢0.01～15质量％；(B)硫酸1～40质量％；(C)下述通式(1)(R1、R2和R3：氢、碳原子数1～8的烷基等)所示的酰胺化合物0.01～10质量％；(D)卤化物离子供给源(其中，不包括氟化物离子供给源)0.00001～0.1质量％；(E)氟化物离子供给源0.001～1质量％；和水。

公开(公告)号：CN110114376A

公开(公告)日：2019-08-09

申请号：CN201880005553.2

申请日：2018-03-29

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 松土和彦 ,  关新之介 ,  板野和幸 ,  长坂一辉

IPC: C08F2/48 ,  C08G59/68 ,  C09J4/02 ,  C09J4/06 ,  C09J171/00

Abstract: 提供能得到粘性小、密合性优异的固化物的固化性组合物、固化物的制造方法、其固化物、及使用其的粘接剂。所述固化性组合物含有：自由基聚合性成分(A)50～80质量份、自由基聚合引发剂(B)1～10质量份、阳离子聚合性成分(C)20～50质量份及阳离子聚合引发剂(D)1～10质量份，且自由基聚合性成分(A)与阳离子聚合性成分(C)的合计为100质量份，阳离子聚合性成分(C)含有碳原子数11以上的醇的缩水甘油醚。

公开(公告)号：CN109844910A

公开(公告)日：2019-06-04

申请号：CN201780064257.5

申请日：2017-10-10

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 青木珠美 ,  正元祐次 ,  斋尾佳秀 ,  石崎隼郎

IPC: H01L21/308 ,  C23F1/18

Abstract: 提供一种用于对铜系层进行蚀刻的蚀刻液组合物，其蚀刻所产生的细线的细化宽度小，细线上部处的1～5μm左右的大小的缺口的发生被抑制，能形成具有期望宽度的细线。一种蚀刻液组合物，其为用于对铜系层进行蚀刻的蚀刻液组合物，所述蚀刻液组合物含有：(A)过氧化氢0.1～35质量％；(B)羟基烷烃磺酸0.1～20质量％；(C)选自唑系化合物、和结构中具备包含1个以上氮原子且具有3个双键的六元杂环的化合物中的至少1种化合物0.01～1质量％；和，水，所述蚀刻液组合物的25℃下的pH为0.1～4的范围内。