Abstract:
Es wird ein Leuchtdiodenchip angegeben, mit - einem Halbleiterkörper (1), der einen Strahlungserzeugenden aktiven Bereich (13) umfasst, - zumindest zwei Kontaktstellen (2a, 2b) zum elektrischen Kontaktieren des aktiven Bereichs, - einem Träger (3), und - einem Verbindungsmittel (4), das zwischen dem Träger (3) und dem Halbleiterkörper (1) angeordnet ist, wobei - der Halbleiterkörper (1) an seiner dem Träger (3) zugewandten Außenflächen eine Aufrauung (15) aufweist, - der Halbleiterkörper (1) mittels des Verbindungsmittels (4) mechanisch mit dem Träger (3) verbunden ist, - das Verbindungsmittel (4) stellenweise in direktem Kontakt mit dem Halbleiterkörper (1) und dem Träger (3) steht, und - die zumindest zwei Kontaktstellen (2a, 2b) an der dem Träger (3) abgewandten Oberseite des Halbleiterkörpers (1) angeordnet sind.
Abstract:
Es wird eine Beleuchtungsvorrichtung angegeben. Gemäß zumindest einem Aspekt weist die Beleuchtungsvorrichtung einen vorderseitigen Träger (1), einen rückseitigen Träger (2) und eine Mehrzahl von Leuchtdiodenchips (3) auf, die im Betrieb der Beleuchtungsvorrichtung Licht emittieren und Verlustwärme abgeben. Der rückseitige Träger (2) ist zumindest stellenweise von dem vorderseitigen Träger (1) bedeckt. Die Leuchtdiodenchips (3) sind zwischen dem rückseitigen Träger (2) und dem vorderseitigen Träger (1) angeordnet und von diesen mechanisch arretiert. Sie sind mittels des rückseitigen und/oder des vorderseitigen Trägers (1, 2) elektrisch kontaktiert. Der vorderseitige Träger (1) ist wärmeleitend mit den Leuchtdiodenchips (3) gekoppelt und weist eine von den Leuchtdiodenchips (3) abgewandte Lichtauskoppelfläche (101) auf, die zur Abgabe eines Teils der von den Leuchtdiodenchips (3) erzeugten Verlustwärme an die Umgebung ausgebildet ist.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform des elektrisch gepumpten optoelektronischen Halbleiterchips (1) weist dieser mindestens zwei strahlungsaktive Quantentröge (2) auf, wobei die strahlungsaktiven Quantentröge (2) InGaN umfassen oder hieraus bestehen. Weiterhin beinhaltet der optoelektronische Halbleiterchip (1) zumindest zwei Deckschichten (4), die AlGaN umfassen oder hieraus bestehen. Jede der Deckschichten (4) ist genau einem der strahlungsaktiven Quantentröge (2) zugeordnet. Die Deckschichten (4) befinden sich je an einer p-Seite des zugeordneten strahlungsaktiven Quantentrogs (2). Ein Abstand zwischen dem strahlungsaktiven Quantentrog (2) und der zugeordneten Deckschicht (4) beträgt höchstens 1,5 nm.
Abstract:
Es wird ein Strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement mit - einem ersten, einem zweiten und einem dritten Halbleiterkörper (10, 20, 30) angegeben, die im Betrieb eine erste, zweite und dritte elektromagnetische Strahlung (11, 21, 31) in einem ersten, zweiten und dritten Wellenlängenbereich emittiert, - einem ersten Kantenfilter (41), der zwischen dem ersten Halbleiterkörper (10) und dem zweiten Hableiterkörper (20) angeordnet ist, und - einem Spiegel (50), der an der dem zweiten Halbeiterkörper (20) abgewandten Seite des ersten Halbleiterkörpers (10) angeordnet ist.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform des optoelektronischen Halbleiterchips (1) basiert dieser auf einem Nitrid-Materialsystem und umfasst mindestens einen aktiven Quantentrog (2). Der mindestens eine aktive Quantentrog (2) ist dazu eingerichtet, im Betrieb eine elektromagnetische Strahlung zu erzeugen. Weiterhin weist der mindestens eine aktive Quantentrog (2) in einer Richtung parallel zu einer Wachstumsrichtung z des Halbleiterchips (1) N aufeinander folgende Zonen (A) auf, wobei N eine natürliche Zahl größer oder gleich 2 ist. Zumindest zwei der Zonen (A) des aktiven Quantentrogs (2) weisen einen voneinander verschiedenen mittleren Indiumgehalt c auf.
Abstract:
Es wird eine Leuchtdiode angegeben, mit einem ersten Halbleiterkörper (10), der zumindest einen aktiven Bereich (11) umfasst, der elektrisch kontaktiert ist, wobei im Betrieb der Leuchtdiode im aktiven Bereich (11) elektromagnetische Strahlung (110) eines ersten Wellenlängenbereichs erzeugt wird, und einem zweiten Halbleiterkörper (20), der an einer Oberseite (10a) des ersten Halbleiterkörpers (10) am ersten Halbleiterkörper (10) befestigt ist, wobei der zweite Halbleiterkörper (20) einen Re-Emissionsbereich (21) mit einer Mehrfachquantentopfstruktur (213) aufweist und wobei im Betrieb der Leuchtdiode im Re-Emissionsbereich (21) elektromagnetische Strahlung (110) des ersten Wellenlängenbereichs absorbiert und elektromagnetische Strahlung eines zweiten Wellenlängenbereichs (220) reemittiert wird, und einem Verbindungsmaterial (30), das zwischen erstem (10) und zweitem Halbleiterkörper (20) angeordnet ist, wobei das Verbindungsmaterial (30) den ersten (10) und den zweiten Halbleiterkörper (20) mechanisch miteinander verbindet.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauelement mit einer zur Emission von Strahlung geeigneten aktiven Schicht (4), die von Mantelschichten (3a, 3b) umgeben ist, angegeben, bei dem die Mantelschichten (3a, 3b) und/oder die aktive Schicht (4) ein Indium-enthaltendes Phosphidverbindungshalbleitermaterial aufweisen und das Phosphidverbindungshalbleitermaterial als zusätzliches Element der V. Hauptgruppe mindestens eines der Elemente Sb oder Bi enthält. Weiterhin wird ein optoelektronisches Halbleiterbauelement mit einer zur Emission von Strahlung geeigneten aktiven Schicht (4) angegeben, bei dem die aktive Schicht ein Indium-enthaltendes Nitridverbindungshalbleitermaterial aufweist, wobei das Nitridverbindungshalbleitermaterial der aktiven Schicht (4) als zusätzliches Element der V. Hauptgruppe mindestens eines der Elemente As, Sb oder Bi enthält.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform des optoelektronischen Halbleiterchips (1) umfasst dieser eine Halbleiterschichtenfolge (2) mit mindestens einer aktiven Schicht (3), die zur Erzeugung einer elektromagnetischen Strahlung eingerichtet ist. Weiterhin weist der optoelektronische Halbleiterchip (1) Auskoppelstrukturen (4) auf, die mindestens mittelbar auf einer Strahlungsdurchtrittsfläche (20) der Halbleiterschichtenfolge (2) angebracht sind. Ein Material der Auskoppelstrukturen (4) ist hierbei von einem Material der Halbleiterschichtenfolge (2) verschieden. Die Brechungsindices der Materialien der Auskoppelstrukturen (4) und der Halbleiterschichtenfolge (2) weichen um höchstens 30 % voneinander ab. Des Weiteren weisen Facetten (40) der Auskoppelstrukturen (4) eine Gesamtfläche auf, die mindestens 30 % eines Flächeninhalts der Strahlungsdurchtrittsfläche (20) beträgt.
Abstract:
In at least one embodiment of the optoelectronic semiconductor chip (1), said chip comprises a semiconductor layer sequence (2) having at least one active layer (3), which is equipped to generate electromagnetic radiation. The optoelectronic semiconductor chip (1) further comprises decoupling structures (4), which are applied at least indirectly onto a radiation penetration surface (20) of the semiconductor layer sequence (2). A material of the decoupling structures (4) differs from a material of the semiconductor layer sequence (2). The refractive indices of the materials of the decoupling structures (4) and of the semiconductor layer sequence (2) deviate from each other by no more than 30%. In addition, facets (40) of the decoupling structures (4) comprise an overall surface, which carries at least 30% of the surface area of the radiation penetration surface (20).
Abstract:
Es wird ein optoelektronischer Halbleiterkörper mit einer Halbleiterschichtenfolge (1), die eine zur Erzeugung von elektromagnetischer Strahlung geeignete aktive Schicht (100) aufweist, und einer ersten elektrischen Anschlussschicht (4) angegeben. Der Halbleiterkörper ist zur Emission elektromagnetischer Strahlung von einer Vorderseite (2) vorgesehen. Die Halbleiterschichtenfolge (1) weist mindestens eine Öffnung (110) auf, welche die Halbleiterschichtenfolge (1) in Richtung von der Vorderseite (2) zu einer der Vorderseite (2) gegenüberliegenden Rückseite (3) vollständig durchdringt. Die erste elektrische Anschlussschicht (4) ist an der Rückseite (3) des Halbleiterkörpers angeordnet, ein Teilstück (40) der ersten elektrischen Anschlussschicht (4) verläuft von der Rückseite (3) her durch die Öffnung (110) zur Vorderseite (2) hin verläuft und bedeckt einen ersten Teilbereich (11) einer vorderseitigen Hauptfläche (10) der Halbleiterschichtenfolge (1). Ein zweiter Teilbereich (12) der vorderseitigen Hauptfläche (10) ist von der ersten elektrischen Anschlussschicht (4) unbedeckt.