处理盒和电子照相设备
    34.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112684684B

    公开(公告)日:2023-09-26

    申请号:CN202011115302.5

    申请日:2020-10-19

    Abstract: 本发明涉及处理盒和电子照相设备。一种处理盒,其包括具有第一支承体和感光层的电子照相感光构件;和充电构件。在感光构件中,当测量使电压在变化的同时施加至表面时流动的电流时,在图中低电场区域的斜率a1和高电场区域的斜率a2满足a2/a1≥1.50。充电构件包括具有导电性外表面的第二支承体,和包括基体和分散在基体中的多个域的第二导电层,域的至少一部分露出至至少包括基体、和域的至少一部分的外表面,并且基体的体积电阻率ρM为域的体积电阻率ρD的1.00×105倍以上。

    处理盒和电子照相设备
    35.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112684683B

    公开(公告)日:2023-07-18

    申请号:CN202011115290.6

    申请日:2020-10-19

    Abstract: 本发明涉及处理盒和电子照相设备。提供一种可拆卸地安装至电子照相设备的主体的处理盒,所述处理盒包括:电子照相感光构件和充电构件,其中当电子照相感光构件中的计算长度的平均局部电位差基于特定方法计算时,平均局部电位差的最大值为2V以上,该充电构件包括支承体和导电层,该导电层具有基质和分散于基质中的域,基质的体积电阻率ρM为域的体积电阻率ρD的1.00×105倍以上,并且特定计算长度SCP[μm]和与域间距离Dms[μm]相关的特定值满足SCP≥3×Dms。

    处理盒和电子照相设备
    39.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112684684A

    公开(公告)日:2021-04-20

    申请号:CN202011115302.5

    申请日:2020-10-19

    Abstract: 本发明涉及处理盒和电子照相设备。一种处理盒,其包括具有第一支承体和感光层的电子照相感光构件;和充电构件。在感光构件中,当测量使电压在变化的同时施加至表面时流动的电流时,在图中低电场区域的斜率a1和高电场区域的斜率a2满足a2/a1≥1.50。充电构件包括具有导电性外表面的第二支承体,和包括基体和分散在基体中的多个域的第二导电层,域的至少一部分露出至至少包括基体、和域的至少一部分的外表面,并且基体的体积电阻率ρM为域的体积电阻率ρD的1.00×105倍以上。

    处理盒和电子照相设备
    40.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112684683A

    公开(公告)日:2021-04-20

    申请号:CN202011115290.6

    申请日:2020-10-19

    Abstract: 本发明涉及处理盒和电子照相设备。提供一种可拆卸地安装至电子照相设备的主体的处理盒,所述处理盒包括:电子照相感光构件和充电构件,其中当电子照相感光构件中的计算长度的平均局部电位差基于特定方法计算时,平均局部电位差的最大值为2V以上,该充电构件包括支承体和导电层,该导电层具有基质和分散于基质中的域,基质的体积电阻率ρM为域的体积电阻率ρD的1.00×105倍以上,并且特定计算长度SCP[μm]和与域间距离Dms[μm]相关的特定值满足SCP≥3×Dms。

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