公开(公告)号：CN109485590B

公开(公告)日：2021-02-23

申请号：CN201811066172.3

申请日：2018-09-13

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  长谷川幸士 ,  畠山润

IPC: C07C381/12 ,  C07D333/76 ,  C07D335/12 ,  C07D335/16 ,  C07D339/08 ,  C07D327/08 ,  C07D307/00 ,  C07D279/22 ,  C07D279/20 ,  C07D333/46 ,  C07D333/54 ,  C07D335/02 ,  C07D327/06 ,  C07C25/18 ,  C07C43/225 ,  C08F112/14 ,  C08F120/38 ,  C08F120/16 ,  C08F120/32 ,  C08F120/20 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明为单体、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。提供了具有式(A)的单体。RA为H、甲基或三氟甲基，X1为单键，醚键、酯键或酰胺键，Ra为C1‑C20一价烃基，Rb为H或酸不稳定性基团，X为卤素，n为1至4的整数，m为0至3的整数，和1≤n+m≤4。包含衍生自所述单体的聚合物的抗蚀剂组合物具有对高能辐射、特别是EUV的高的感光度。

公开(公告)号：CN111440104A

公开(公告)日：2020-07-24

申请号：CN202010046427.0

申请日：2020-01-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  大桥正树 ,  片山和弘

IPC: C07C381/12 ,  C07D307/33 ,  C07D307/93 ,  C07D327/06 ,  C07D333/76 ,  C07D495/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32

Abstract: 本发明涉及新颖鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供一种新颖鎓盐，其是在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光刻中，高感度且酸扩散小、曝光裕度、掩膜误差因子、线宽粗糙度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用；并提供含有该鎓盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用了该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种鎓盐，是以下式(1)表示的。

公开(公告)号：CN107544206A

公开(公告)日：2018-01-05

申请号：CN201710504684.2

申请日：2017-06-28

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  大桥正树 ,  藤原敬之 ,  福岛将大 ,  本田和也

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  C07C381/12 ,  C07C309/12 ,  C07C25/18 ,  C07D279/20 ,  C07D333/76 ,  C07D327/08

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组合物和图案化方法。本发明的抗蚀剂组合物，其包括基础聚合物和含有碘代苯甲酰氧基的氟代磺酸的锍盐或碘鎓盐，无论其为正型或负型，都提供高感光度和最小的LWR或改善的CDU。

公开(公告)号：CN119569626A

公开(公告)日：2025-03-07

申请号：CN202411224683.9

申请日：2024-09-03

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大

IPC: C07C381/12 ,  C07C309/12 ,  C07C309/42 ,  C07C309/43 ,  C07C323/62 ,  C07D333/76 ,  C07D333/54 ,  C07D327/08 ,  C07C211/63 ,  C07C25/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038

Abstract: 本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在远紫外线光刻、EUV光刻及电子束(EB)光刻等使用高能射线的光学光刻中，LWR、分辨率优良，且可抑制抗蚀剂图案的崩塌的化学增幅抗蚀剂组成物、使用其的鎓盐、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种鎓盐，以下式(1)表示。#imgabs0#

公开(公告)号：CN119490478A

公开(公告)日：2025-02-21

申请号：CN202411097770.2

申请日：2024-08-12

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大

IPC: C07D327/06 ,  C07D211/62 ,  C07D207/16 ,  C07D211/44 ,  C07D405/12 ,  C07D221/14 ,  C07D333/76 ,  C07C43/225 ,  C07C211/63 ,  C07C381/12 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供：在远紫外线光刻、EUV光刻及电子束(EB)光刻等使用高能射线的光学光刻中，LWR、分辨性优异，又，可抑制抗蚀剂图案的倒塌的化学增幅抗蚀剂组成物；使用于其中的鎓盐；以及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段为下式(1)表示的鎓盐。#imgabs0#

公开(公告)号：CN119439614A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202411039990.X

申请日：2024-07-31

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  福岛将大

IPC: G03F7/004

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供为高感度，且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料以及使用该抗蚀剂材料的图案形成方法。该课题的解决手段是一种抗蚀剂材料，含有：基础聚合物，具有三氟甲氧基苯磺酰胺阴离子、二氟甲氧基苯磺酰胺阴离子、三氟甲氧基苯磺酰亚胺阴离子或二氟甲氧基苯磺酰亚胺阴离子键结于主链而成的锍盐结构。

公开(公告)号：CN119431206A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202411046998.9

申请日：2024-08-01

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  大桥正树 ,  畠山润

IPC: C07C381/12 ,  C07C309/24 ,  C07C25/18 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供：在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度，且高对比度，又曝光裕度、线宽粗糙度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的鎓盐；包含该鎓盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物；以及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段为下式(1)表示的鎓盐。#imgabs0#式中，R13及R14中的一者是具有下式(1a)表示的部分结构的基团；#imgabs1#式中，Q1～Q3各自独立地为氢原子、氟原子或碳数1～6的氟化饱和烃基，但当Q1及Q2皆为氢原子时，Q3为氟原子或碳数1～6的氟化饱和烃基。又，Q1～Q3中的氟原子的数量的合计为2以上。

公开(公告)号：CN119264100A

公开(公告)日：2025-01-07

申请号：CN202410876419.7

申请日：2024-07-02

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  渡边聪 ,  增永惠一 ,  小竹正晃 ,  松泽雄太

IPC: C07D327/06 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07D333/76 ,  C07C25/18 ,  C07C43/225 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/42

Abstract: 本发明涉及鎓盐、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供能够产生扩散小的酸的鎓盐、含有此鎓盐的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。一种鎓盐，以下式(1)表示。#imgabs0#

公开(公告)号：CN118938598A

公开(公告)日：2024-11-12

申请号：CN202410567506.4

申请日：2024-05-09

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 增永惠一 ,  渡边聪 ,  福岛将大 ,  小竹正晃 ,  松泽雄太

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题为提供：可改善图案形成时的矩形性，且可获得LER、分辨性、图案忠实性及剂量宽容度经改善的抗蚀剂图案的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及抗蚀剂图案形成方法。本发明的解决手段为一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，包含：(A)包含下式(A)表示的鎓盐的淬灭剂；及(B)包含含有下式(B1)表示的重复单元，且会因为酸的作用而分解，在碱显影液中的溶解度会增大的聚合物的基础聚合物。#imgabs0#

公开(公告)号：CN118878505A

公开(公告)日：2024-11-01

申请号：CN202410519474.0

申请日：2024-04-28

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  畠山润

IPC: C07D319/08 ,  C07D493/20 ,  C07D495/20 ,  C07D319/24 ,  C07D327/08 ,  C07D311/86 ,  C07D273/01 ,  C07D327/00 ,  C07D321/12 ,  C07D323/00 ,  C07C381/12 ,  C07D333/76 ,  C07D335/02 ,  C07D333/08 ,  C07D327/06 ,  C07D279/20 ,  C07D333/54 ,  C07C43/225 ,  C07C205/12 ,  C07C25/18 ,  C07C63/70 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供一种鎓盐，在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度、且曝光裕度(EL)、LWR等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用。并提供含有该鎓盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。下式(1)表示的鎓盐。#imgabs0#