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公开(公告)号：CN114200781A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202111515272.1
申请日：2021-12-13
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明公开了一种无掩膜光刻校准方法。该方法的具体步骤为：控制系统生成掩膜图案并输出给光刻显微光路中的数字微镜器件，数字微镜器件在样品表面投射出掩膜图案，利用CMOS传感器对样品的表面状态进行实时拍摄，并将采集到的样品曝光场图案传输至控制系统；控制系统将掩膜图案和样品曝光场图案叠加得到干涉摩尔条纹，然后基于摩尔条纹的图形学计算测量原曝光场的位置信息，根据所述位置信息进行曝光位置的校准。本发明的方法引入了光栅测量技术用于无掩膜光刻曝光位置的校准，具有极高的图形的对准和拼接精度，能有力提升精密光刻加工性能。
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公开(公告)号：CN110596878B
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN201910975310.8
申请日：2019-10-14
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明公开了一种超短焦距的双透镜显微系统。该显微系统包括显微装置和手机，显微装置包括透镜组和光源，透镜组由两片凸面相对的平凸透镜组成；光源位于透镜组的下方，手机的镜头放置在透镜组的上方。本发明的显微装置具有放大倍数高、分辨率高、边缘畸变较小、成本低廉、小巧便携的优点，配合手机使用可以达到高质量的放大成像，在复杂情景下尤其是家居化诊疗方面，应用前景十分广阔。
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公开(公告)号：CN118131476B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202410565419.5
申请日：2024-05-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
Abstract: 本申请提供一种空间光场成像器件及其制备方法。该空间光场成像器件包括：基材；单层微纳结构，设置于基材的一侧，单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构；其中，目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后，目标中间像逆向传播至透过初始成像结构时于初始成像结构的表面形成的相位分布图与初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。上述空间光场成像器件有利于实现“消色差”的空间光场成像，保证成像的清晰度，并且不仅可实现近距离三维空间成像效果，也可以实现远距离空间投影成像效果。
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公开(公告)号：CN117970553A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202211497397.0
申请日：2022-11-25
Applicant: 苏州维旺科技有限公司 , 苏州大学 , 南京大学
IPC: G02B6/00
Abstract: 本申请涉及显示技术领域，具体公开一种导光板、前置光源及显示装置。导光板包括导光基板，包括反射面、出光面以及至少一组相对设置的两个入光面，其中，所述反射面和所述出光面相对设置，所述反射面和所述出光面分别与所述入光面相接；在所述反射面上，多个对称式导光微结构以所述反射面的几何中心对称设置，多个非对称式导光微结构以所述反射面的几何中心为对称中心对称设置；所述多个对称式导光微结构和所述多个非对称式导光微结构的分布密度之和从所述对称中心分别向一组相对设置的两个入光面方向对称地递减。在保证导光板画面对比度和视角均匀性的同时，满足出光均匀性和亮度需求，进而满足大幅面反射式显示设备的照明需求。
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公开(公告)号：CN117761912A
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202211473675.9
申请日：2022-11-22
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 南京大学
IPC: G02B30/31
Abstract: 本发明提供一种显示装置，包括激光发射组件、位相液晶显示面板和振幅显示面板，激光发射组件用于为振幅显示面板提供显示光源，位相液晶显示面板设置于振幅显示面板的出光侧，振幅显示面板加载有至少一幅多视角图像，位相液晶显示面板能通过施加电压或不施加电压的方式改变位相液晶显示面板中的液晶分子的排布，当不施加电压时，位相液晶显示面板能对输入的多视角图像进行调制，并将各视角图像投影到空间不同位置形成不同的视点，使显示装置进行3D显示，当施加电压时，位相液晶显示面板不对输入的多视角图像进行调制，使显示装置进行2D显示。因此本发明的显示装置能够通过施加电压实现3D显示和2D显示之间的切换。本发明还涉及一种显示装置的制作方法及显示方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117589348A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202311599002.2
申请日：2023-11-28
Applicant: 南京大学
IPC: G01L1/24
Abstract: 本发明公开了一种基于偏振光栅的光弹性应力测量系统及方法。该应力测量系统沿光路方向依次包括光源、起偏器、待测光弹性样品和偏振光栅，光源发出的光经起偏器被转换为线偏振光，透过部分经过光弹性样品光矢量在两个主应力方向被分为两个组分，偏振光栅使得入射的线偏振光的衍射分布仅在±1级和0级上，光弹性模型具有双折射特性，从光弹性模型中出射的线偏振光束在偏振光栅的作用下被衍射到±1级和0级，绝大部分在±1级为圆偏振光束，极少部分偏振状态与入射偏振状态相同的光分布在0级。本发明解决了传统的光弹性测应力方法设备复杂、测量结果不准确、相位延迟与光弹性模型主应力方向的角度两个信息不可分离等问题。
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公开(公告)号：CN114137195B
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN202111468895.8
申请日：2021-12-03
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明公开了一种基于图像拍摄分析的高通量生化检测系统及其方法。该检测系统包括光学拍摄系统、温度测量装置及控制系统，光学拍摄系统包括镜头、图像传感器和光源，镜头与图像传感器连接，光源用于待测样品的照明；温度测量装置包括红外加热模块和温度读取模块；控制系统包括数据传输模块、数据处理模块、存储模块、显示模块、电源模块和输入输出模块；图像传感器、光源、温度读取模块均与输入输出模块相连；温度读取模块和红外加热模块均与数据处理模块相连。本发明的检测系统具有体积小，可自动控制反应温度，检测快速准确，全程界面化操作等优点。
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公开(公告)号：CN115782179A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202211563686.6
申请日：2022-12-07
Applicant: 南京大学
IPC: B29C64/386 , B29C64/264 , B33Y50/00 , B33Y30/00 , G03B21/00 , G03B21/28
Abstract: 本发明公开了一种光固化3D打印机的调平方法，属于3D打印技术领域，为了解决微米精度3D打印技术中的调平问题而设计。该方法的具体实现步骤为：控制系统将投影图案输出到数字微镜阵列，数字微镜阵列经红光照射将图样反射，经显微投影光路中投射在树脂液面，图像传感器对液面上的投影图案进行拍摄，将采集的投影图案传输至计算机；对采集的图片进行投影图案的数字处理，计算该位置处评估值，根据所述评估值进行调平操作。本发明采用了光学投影和数字图像处理的方法用于光固化3D打印机的调平，可有效避免平台倾斜问题，且精度高、调平效果好。
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公开(公告)号：CN114137195A
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN202111468895.8
申请日：2021-12-03
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明公开了一种基于图像拍摄分析的高通量生化检测系统及其方法。该检测系统包括光学拍摄系统、温度测量装置及控制系统，光学拍摄系统包括镜头、图像传感器和光源，镜头与图像传感器连接，光源用于待测样品的照明；温度测量装置包括红外加热模块和温度读取模块；控制系统包括数据传输模块、数据处理模块、存储模块、显示模块、电源模块和输入输出模块；图像传感器、光源、温度读取模块均与输入输出模块相连；温度读取模块和红外加热模块均与数据处理模块相连。本发明的检测系统具有体积小，可自动控制反应温度，检测快速准确，全程界面化操作等优点。
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公开(公告)号：CN110673353B
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN201911104030.6
申请日：2019-11-13
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明提供了一种基于高折射率材料的超分辨聚焦装置。该装置包括光源、聚焦元件和类透镜聚焦结构，光源发出的光束先经过聚焦元件初步聚焦为聚焦光或者平行光后，再入射到类透镜聚焦结构进一步聚焦，在类透镜聚焦结构的聚焦面处形成亚波长尺寸的聚焦光斑；类透镜聚焦结构的材料采用折射率大于3的材料。本发明的装置可以将聚焦光斑缩小至λ/10，利用径向偏振光照明方式可以进一步提高聚焦光斑的焦深，同时聚焦光斑尺寸可以保持λ/8，且焦深可达到λ/5，有望用于纳米尺度超分辨光刻技术、成像以及数据存储等领域。
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