電子デバイスの製造方法
    32.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2020096131A

    公开(公告)日:2020-06-18

    申请号:JP2018234601

    申请日:2018-12-14

    Inventor: 臼井 孝英

    Abstract: 【課題】簡便に底部が丸みを帯びた凹部を形成することができる電子デバイスの製造方法を提供する。 【解決手段】シリコン基板1の所望の領域に底面が丸みを帯びた凹状マスク部7を形成し、この凹状マスク部表面の形状をトレースするようにトレンチを形成する。凹状マスク部は、多孔質膜5をエッチングすることで形成することができる。 【選択図】図2

    MEMS素子及びその製造方法
    36.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2018074427A

    公开(公告)日:2018-05-10

    申请号:JP2016213152

    申请日:2016-10-31

    Abstract: 【課題】ASICを大きくすることなく、MEMS素子においてもサイズが大きくなったり、コストが増大したりすることなく、感度調整を良好に行う。 【解決手段】固定電極3と、この固定電極3にエアーギャップGを介して略平行に配置された可動電極2とを備えるMEMS素子で、固定電極3の外周に3つ(1つでもよい)のトリミング用の固定電極リング10A〜10Cを配置する。この固定電極リング10A〜10Cは、例えば連結ライン9の両端に設けられたヒューズ部12を介してこの連結ライン9に接続されており、電極パッド15A〜15Cのそれぞれからヒューズ部12に切断電流を流し、選択された固定電極リング10A〜10Cを固定電極3から切り離すことにより、プルイン電圧を所望の一定値とし感度を調整する。 【選択図】図1

    MEMS素子及びその製造方法
    37.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2018058150A

    公开(公告)日:2018-04-12

    申请号:JP2016196806

    申请日:2016-10-04

    Abstract: 【課題】強度の低下がなく、可動電極の大きな変位により感度を向上させ、しかも面積効率よく感度を高めることが可能となるようにする。 【解決手段】バックチャンバー10を有する基板1上に固定電極5を配置し、この固定電極5にエアーギャップGを介して略平行に、変位可能な可動電極3を配置したMEMS素子において、絶縁膜6から固定電極5に形成された孔hを貫通し、可動電極3まで到達する支持柱7を、可動電極面においてマトリクス状に配置する。これにより、薄い可動電極3と狭いエアーキャップGを実現し、感度を高めることができる。 【選択図】図1

    発振装置及びその製造方法
    38.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2018026649A

    公开(公告)日:2018-02-15

    申请号:JP2016156123

    申请日:2016-08-09

    Abstract: 【課題】制御回路等を搭載したシリコン基板へ与える機械的、化学的なストレスや損傷、或いは材質の違いにより加えられる応力を低減し、装置として高品質、高性能の維持、低背化を図る。 【解決手段】制御回路2が形成され、水晶振動子4が搭載されたシリコン基板1と、スルービア11と外面の外部端子12を設けたシリコン蓋9とを備え、シリコン基板1に、接続部分6a,13aを介してスルービア11を接続しながら金属接合材6b,13bによりシリコン蓋9を接合することで、水晶振動子4を密封空間に配置すると共に、外部端子12をシリコン蓋9側に設ける。また、シリコン基板1とシリコン蓋9の接合の後、シリコン基板1の底面を研磨することで、低背化を図る。 【選択図】図1

    MEMS素子
    40.
    发明专利
    MEMS素子 审中-公开

    公开(公告)号:JP2017158128A

    公开(公告)日:2017-09-07

    申请号:JP2016041792

    申请日:2016-03-04

    Abstract: 【課題】スリットが形成された可動電極膜の破損を防止しながら、MEMS素子の感度を向上させることができるMEMS素子を提供する。 【解決手段】スペーサーを挟んで固定電極と可動電極とが配置し、可動電極膜3に形成されたスリット8と、このスリットを覆うように形成された庇部12とを備える構造としている。この庇部と可動電極との間は、空気抵抗の高い狭窄部となりMEMS素子の低域感度の低下を防止する構造となる。 【選択図】図2

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