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公开(公告)号：CN104529187B
公开(公告)日：2017-06-30
申请号：CN201410696923.5
申请日：2011-10-14
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03C21/00
CPC classification number: C03C23/0075 , C03C21/002 , C03C2218/31
Abstract: 本发明提供能够抑制凹状缺陷产生的显示装置用化学强化玻璃板的制造方法。本发明涉及一种显示装置用化学强化玻璃板的制造方法，其中，化学强化工序前的最后清洗工序中使用的清洗液中的钙浓度为5ppm以下。
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公开(公告)号：CN106458707A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580026160.6
申请日：2015-05-20
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明涉及一种无碱浮法平板玻璃，其玻璃化转变温度为730～850℃，粘度η变成104泊的温度T4为1220～1350℃，以氧化物基准的质量％表示，含有：SiO2：57～65％、Al2O3：14～23％、B2O3：0～5.5％、MgO：1～8.5％、CaO：3～12％、SrO：0～10％、及BaO：0～5％，MgO+CaO+SrO+BaO：12～23％，含有0.1～0.35质量％的F，含有0.3～3质量ppm的Cu，含有0～0.05质量％的Cl，从浮法平板玻璃的顶面起深度1μm的区域的F量f1与从该浮法平板玻璃的顶面起深度13μm的区域的F量f2之比f1/f2为0.05～0.5。本发明的无碱浮法平板玻璃的顶面的缺陷得以抑制。
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公开(公告)号：CN105992749A
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：CN201480065338.3
申请日：2014-11-26
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/091 , G02F2001/133302 , H01L51/0096 , Y02E10/549
Abstract: 本发明涉及一种无碱玻璃基板，其为通过氢氟酸(HF)蚀刻处理减薄了5μm以上的、板厚为0.4mm以下的无碱玻璃基板，上述无碱玻璃基板为规定的无碱玻璃，减薄后的上述无碱玻璃基板的比模量为31MNm/kg以上，光弹性常数为30nm/MPa/cm以下。
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公开(公告)号：CN105793207A
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201480066289.5
申请日：2014-12-02
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/091
Abstract: 本发明涉及玻璃基板的精研磨方法，其使用含有氧化铈作为研磨磨粒的研磨浆料对玻璃基板的主面进行研磨，其中，所述玻璃基板的组成为下述的无碱玻璃，所述玻璃基板的精研磨方法包括以下阶段：在将所述玻璃基板的主面的换算为20mm间距的起伏而得到的起伏高度自0.14μm变化至0.10μm时的所述玻璃基板的研磨量设为X(μm)时，在使0.04/X为0.12以上的条件下进行研磨。
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公开(公告)号：CN105314846A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201510279139.9
申请日：2015-05-27
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: Y02P40/57
Abstract: 本发明提供应变点高且为高杨氏模量、并且玻璃制造时的熔解性优良、浮法成形容易的无碱玻璃及其制造方法。该无碱玻璃的杨氏模量为84.5GPa以上，应变点为680℃以上，50～350℃下的平均热膨胀系数为30×10-7～47×10-7/℃，以氧化物基准的质量％表示，含有SiO2 55～69，Al2O3 17～27，B2O3 0～4，MgO 0～20，CaO 2～20，SrO 0～3，BaO 0～7，SnO2 0.01～1，SiO2+Al2O3+MgO+CaO为90以上，MgO+CaO+SrO+BaO为12～23，满足[SiO2]×6.7+[Al2O3]+[B2O3]×4.4-458≤0。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104254501A
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201380022228.4
申请日：2013-04-23
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03C21/00
CPC classification number: C03C21/002 , C03C23/007 , H05K5/03 , Y10T428/268 , Y10T428/315
Abstract: 本发明的目的在于提供具备适合于电子设备的壳体的遮蔽性并且通过在低温的离子交换温度下进行离子交换处理而使强度提高的化学强化玻璃的制造方法。本发明涉及一种化学强化玻璃的制造方法，其包括对分相的玻璃进行离子交换处理的工序。
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公开(公告)号：CN103999140A
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201280062281.2
申请日：2012-11-01
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C21/002 , C03C3/083 , C03C3/085 , C03C3/087 , C03C3/093 , C03C4/18 , C03C23/007 , C03C2204/00 , G06F1/1626 , G06F3/041 , Y10T428/315
Abstract: 本发明提供即使压应力大且压应力深度深、对缓慢破裂的耐性也高并且损伤强度也强的显示器用保护玻璃。本发明涉及一种显示器用保护玻璃，其中，压应力深度(DOL)为30μm以上，表面压应力为300MPa以上，压应力为表面压应力值的一半的位置(HW)为距离玻璃表面8μm以上的位置，并且压应力深度(DOL)和压应力为表面压应力值的一半的位置(HW)满足下式(I)：式(I) 0.05≤HW/DOL≤0.23。
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公开(公告)号：CN103097315A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201180044270.7
申请日：2011-09-26
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03C3/085 , C03C21/00 , G02F1/1333
CPC classification number: C03C3/085 , C03C3/087 , C03C3/091 , C03C21/00 , C03C21/001 , C03C21/002 , G02F2001/133302 , Y10T428/26 , Y10T428/315
Abstract: 本发明提供用于即使带有压痕、强度也不容易降低的化学强化玻璃的玻璃。化学强化用玻璃以氧化物基准的摩尔百分率表示，含有62～68％的SiO2、6～12％的Al2O3、7～13％的MgO、9～17％的Na2O、0～7％的K2O，由Na2O和K2O的总含量减去Al2O3的含量而得的差低于10％，含有ZrO2时，其含量为0.8％以下。本发明还提供对上述化学强化用玻璃进行化学强化而得的化学强化玻璃。还提供在玻璃表面所形成的压缩应力层的厚度为30μm以上、表面压缩应力为550MPa以上的上述化学强化玻璃。
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公开(公告)号：CN102892722A
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201180024403.4
申请日：2011-05-18
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03C3/085 , C03C3/087 , C03C21/00 , G02F1/1333
CPC classification number: C03C3/087 , C03C3/085 , C03C21/002 , C03C23/007 , G02F2001/133302
Abstract: 本发明提供即使带有损伤也不容易破坏的用于化学强化玻璃的玻璃。一种化学强化用玻璃，其以下述氧化物基准的摩尔百分率表示，含有65～85％的SiO2、3～15％的Al2O3、5～15％的Na2O、0～低于2％的K2O、0～15％的MgO、0～1％的ZrO2，SiO2及Al2O3的含量的总和SiO2＋Al2O3为88％以下。
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公开(公告)号：CN105722800B
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：CN201480061692.9
申请日：2014-11-10
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明涉及一种平板玻璃制造方法，其是将玻璃原料熔化而制成熔融玻璃、并将该熔融玻璃利用成形装置成形为板状的玻璃带、然后将该玻璃带利用缓冷装置进行缓冷的平板玻璃制造方法，该平板玻璃制造方法中，所述平板玻璃包含无碱玻璃，在将所述无碱玻璃的应变点设为Tst(℃)时，在Tst+70℃～Tst‑50℃的温度范围内，以使所述玻璃带的下表面的直接下方的SO2和/或SO3气氛浓度达到500～20000ppm的时间为30秒以上的方式供给SO2和/或SO3气体。
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