公开(公告)号：CN115247034A

公开(公告)日：2022-10-28

申请号：CN202210396973.6

申请日：2022-04-15

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  五十岚智美 ,  新见洋人 ,  积田幸衣 ,  山口和哉 ,  林益史

IPC: C09J7/29 ,  C09J7/40 ,  C09J7/30 ,  G02B1/14 ,  G02B1/16

Abstract: 提供一种表面保护膜以及光学部件。表面保护膜(10)具备：基材膜(1)，由具有透明性的树脂构成；抗静电剂层(2)，形成于基材膜(1)的一面；以及粘合剂层(3)，形成于基材膜(1)的与抗静电剂层(2)相反侧的面。抗静电剂层(2)具备：第一层(2a)，包含导电性聚合物；以及第二层(2b)，相对于第一层(2a)设置于与基材膜(1)相反侧，并包含纳米碳。

公开(公告)号：CN107083197B

公开(公告)日：2021-06-15

申请号：CN201610886407.8

申请日：2016-10-11

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  春日充 ,  新见洋人 ,  铃木千惠 ,  五十岚智美 ,  木俣绘美子 ,  林益史

IPC: C09J7/40 ,  B32B7/04 ,  G02B1/14

Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘物污染少、对被粘物的低污染性不经时变化、具有不经时劣化的优异抗剥离静电性能的表面保护膜及使用其的光学部件。表面保护膜(10)，其通过在粘着剂层(2)上贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)而成，剥离膜(5)通过在树脂膜(3)的一个面上层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)含有以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、含至少一个以上醚键的酯类增塑剂，抗静电剂成分为熔点小于30℃的离子性化合物，抗静电剂成分与酯类增塑剂从剥离膜(5)的剥离剂层(4)转印到粘着剂层(2)的表面，降低将粘着剂层(2)从被粘物上剥离时的剥离静电压。

公开(公告)号：CN106520000B

公开(公告)日：2021-05-11

申请号：CN201610555118.X

申请日：2016-07-14

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  新见洋人 ,  铃木千惠 ,  木俣绘美子 ,  林益史

IPC: C09J7/30 ,  C09J133/08 ,  C09J11/08 ,  C09D183/04 ,  C09D5/20 ,  C09D5/24 ,  G02B1/14

Abstract: 本发明提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件，所述表面保护膜即使对表面具有凹凸的光学用膜也能够贴合，对被粘物的污染少，且对被粘物的低污染性不发生经时变化，不会经时劣化地具有优异的抗剥离静电性能。该表面保护膜(5)在由具有透明性的树脂所构成的基材膜(1)的一个面上形成有剥离剂层(2)，在基材膜(1)的另一个面上形成有粘着剂层(4)，剥离剂层(2)含有由碱金属盐构成的抗静电剂(3)及硅酮类剥离剂，剥离剂层(2)中所含的所述由碱金属盐构成的抗静电剂(3)的成分仅存在于粘着剂层(4)的表面。

公开(公告)号：CN105950041B

公开(公告)日：2020-07-14

申请号：CN201610059877.7

申请日：2016-01-28

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 宫坂洋之 ,  林益史

IPC: C09J7/40 ,  C08J7/04 ,  C09D101/28 ,  C09D183/04 ,  C09D129/04 ,  C09D7/61 ,  C08L67/00

Abstract: 本发明提供一种剥离性优异的离型膜，其剥离力小，即使以贴合于粘合剂层的状态经时间流逝，剥离力也难以变大，且有机硅成分向粘合剂层转移少，不会降低贴合的粘合剂层的粘合力。该剥离性优异的离型膜的特征在于，其为在基材膜(1)的一个面上设有厚度0.4～2μm、含有有机硅类离型剂的离型剂层(4)、在另一个面上设有含有作为微粒(3)的无机微粒及/或聚合物微粒的粘合剂树脂层(2)的离型膜(5)，微粒(3)、粘合剂树脂层(2)及离型剂层(4)满足条件(1)及(2)：(1)微粒(3)的体积基准平均粒径为离型剂层(4)厚度的2倍以上；(2)粘合剂树脂层(2)的厚度在微粒(3)的体积基准平均粒径的25～60％的范围内。

公开(公告)号：CN111196909A

公开(公告)日：2020-05-26

申请号：CN201911113004.X

申请日：2019-11-14

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  铃木千惠 ,  五十岚智美 ,  新见洋人 ,  林益史

IPC: C09J7/29 ,  C09J7/40 ,  C09J7/30 ,  C09J133/08 ,  C09J133/14 ,  C09J133/24 ,  G02B1/14

Abstract: 本发明提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件，该表面保护膜对光学用膜的翘曲的抑制效果高，且贴合有表面保护膜的光学用膜的处理性能得以提升，并且在使用后易剥离去除，其在出货时等无需进行重贴或擦拭污渍。表面保护膜(P)依次层叠有第一透明膜(1)、第一粘着剂层(2)、第二透明膜(3)及第二粘着剂层(4)。第一粘着剂层(2)在23℃下的储能模量为1.0×104Pa以上且小于8.0×104Pa，且第一粘着剂层(2)对玻璃的粘着力为5N/25mm以下。

公开(公告)号：CN105331296B

公开(公告)日：2020-04-28

申请号：CN201510397304.0

申请日：2015-07-08

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 新见洋人 ,  小林弘幸 ,  春日充 ,  五十岚智美 ,  木俣绘美子 ,  林益史

IPC: C09J7/25 ,  C09J7/40 ,  G02B1/10

Abstract: 本发明提供在切裁时难以出现因粘结剂引起的异物(胶块)且对表面有凹凸的光学用膜的适应性(润湿性)也好，对被粘附体的污染少，对被粘附体的低污染性无经时变化，还具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件。表面保护膜在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成由聚氨酯类粘结剂构成的粘结剂层(2)，在粘结剂层(2)上贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，其中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠有包含剥离剂和不与该剥离剂发生反应的抗静电剂的剥离剂层(4)，抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，减少将粘结剂层(2)从被粘附体剥离时的剥离静电压。

公开(公告)号：CN106905869A

公开(公告)日：2017-06-30

申请号：CN201610857251.0

申请日：2016-09-27

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  新见洋人 ,  春日充 ,  铃木千惠 ,  五十岚智美 ,  木俣绘美子 ,  林益史

IPC: C09J7/02 ,  C09J133/08 ,  G02B1/16

CPC classification number: C09J7/405 ,  C09J7/255 ,  C09J7/401 ,  C09J133/08 ,  C09J2201/122 ,  C09J2201/60 ,  C09J2203/318 ,  G02B1/16

Abstract: 本发明提供一种抗静电表面保护膜，其对被粘物的污染少，且具有不经时劣化的优异的剥离抗静电性能，使用时易剥离剥离片。本发明提供的抗静电表面保护膜，通过在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的一面上形成粘着剂层(2)，在粘着剂层(2)的表面上贴合剥离片(5)而形成，其中，剥离片(5)通过在基材(3)的一面上具有剥离剂层(4)而形成，剥离剂层(4)由含有以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂、和抗静电剂的树脂组合物而形成。

公开(公告)号：CN106675427A

公开(公告)日：2017-05-17

申请号：CN201610555189.X

申请日：2016-07-14

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  新见洋人 ,  铃木千惠 ,  木俣绘美子 ,  林益史

IPC: C09J7/02 ,  C09J133/08 ,  C09J11/06 ,  C08J7/04 ,  C09D5/20

CPC classification number: C08J7/04 ,  C08J7/047 ,  C08K5/435 ,  C08K2201/017 ,  C09D5/20 ,  C09J7/255 ,  C09J11/06 ,  C09J133/08 ,  C09J2201/122 ,  C09J2205/102 ,  C09J2433/00 ,  C09J2467/006

Abstract: 本发明提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件，所述表面保护膜即使对表面具有凹凸的光学用膜也能够贴合，对被粘物的污染少，且对被粘物的低污染性不发生经时变化，不会经时劣化地具有优异的抗剥离静电性能。该表面保护膜(5)在由具有透明性树脂构成的基材膜(1)的单面上，设有含有由碱金属盐构成的抗静电剂(3)和剥离剂的剥离剂层(2)，在基材膜(1)的另一面上，设有粘着剂层(4)，由碱金属盐构成的抗静电剂(3)的成分仅存在于粘着剂层(4)的表面。

公开(公告)号：CN106189894A

公开(公告)日：2016-12-07

申请号：CN201510396987.8

申请日：2015-07-08

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  新见洋人 ,  春日充 ,  五十岚智美 ,  木俣绘美子 ,  林益史

IPC: C09J7/02 ,  C09J133/08 ,  B32B27/36 ,  B32B27/08

Abstract: 本发明提供对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘附体的污染少、且对被粘附体的低污染性无经时变化，并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜和使用了该表面保护膜的光学部件。表面保护膜(10)在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，该剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)包含以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂和由不与该剥离剂发生反应的离子性化合物构成的抗静电剂，抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，减少将粘结剂层(2)从被粘附体剥离时的剥离静电压。

公开(公告)号：CN104342044B

公开(公告)日：2016-10-05

申请号：CN201410242459.2

申请日：2014-06-03

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  春日充 ,  远藤佳子 ,  林益史

IPC: C09J7/02 ,  C09D183/04 ,  C09D7/12 ,  G02B1/14

Abstract: 本发明提供一种对被粘附体的污染少，并且对被粘附体的低污染性随着时间推移不发生变化的表面保护膜，并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。表面保护膜(10)在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，并在该粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，其中，所述剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面形成剥离剂层(4)而成，该剥离剂层(4)是通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物和熔点为30～80℃的离子性化合物的树脂组合物来形成；所述粘结剂层(2)是丙烯酸类粘结剂层。