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公开(公告)号:KR100157110B1
公开(公告)日:1999-02-18
申请号:KR1019950040128
申请日:1995-11-07
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G01R19/165
Abstract: 본 발명은 극점검출회로에 관한 것으로, 특히 극점을 측정할 교류신호의 직류 오프셋전압을 발생하는 직류 오프셋전압 발생부;직류 오프셋전압과 교류신호를 합성하여 직류성분을 제거하여 영교차점을 가지는 교류신호를 발생하는 신호 합성부;영교차점을 가지는 교류신호의 포지티브 및 네가티브 극점을 검출하는 극점 검출부;검출된 포지티브 및 네가티브 극점값에 상기 직류 오프셋전압을 합성하여 각 극점의 제로점으로부터의 전압값을 상기 측정할 교류신호의 극점값으로 출력하는 출력부를 구비한 것을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에서는 영전압 교차점이 없는 교류신호도 간단한 하드웨어 구성으로 용이하게 구할 수 있다.-
公开(公告)号:KR1019970006183B1
公开(公告)日:1997-04-24
申请号:KR1019920010046
申请日:1992-06-08
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor: 김종필
IPC: G11B19/02
Abstract: Disclosed is a manless accompaniment system with LDP image. The system comprises a data receiver(70), LDP1(10), and LDP2(20). The data receiver(70) which is externally installed receives the data from the remote controller(60). The internal microcomputer recognizes the data from the data receiver(70) by the LDP1(10) and LDP2(20). Thereby, the booking record and manipulation is conveniently performed according to the data receiver(70), LDP1(10), and LDP2(20).
Abstract translation: 公开了具有LDP图像的无人伴奏系统。 该系统包括数据接收器(70),LDP1(10)和LDP2(20)。 外部安装的数据接收器(70)从遥控器(60)接收数据。 内部微型计算机通过LDP1(10)和LDP2(20)识别来自数据接收器(70)的数据。 因此,根据数据接收器(70),LDP1(10)和LDP2(20)方便地执行预约记录和操作。
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公开(公告)号:KR1020160097671A
公开(公告)日:2016-08-18
申请号:KR1020150019658
申请日:2015-02-09
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G06F19/3406 , G06F3/04817 , G06F3/04842 , G06F3/04847 , G06F3/0488 , G06F19/00 , G06F2203/04806 , G16H40/63 , A61B5/0022 , G06F3/048 , H04L12/12
Abstract: 터치스크린을가지는모바일단말기및 터치스크린을가지는모바일단말기에서의료기기를제어하는방법이제공된다. 본터치스크린을가지는모바일단말기에서의료기기를제어하는방법은, 실내에설치된복수개의의료기기들의위치정보를이용하여모바일단말기로부터일정범위이내에위치한적어도하나의의료기기가결정되면, 상기결정된적어도하나의의료기기각각에대응하는적어도하나의식별정보를터치스크린상에디스플레이하고, 상기적어도하나의식별정보중 제1 식별정보를선택하는사용자입력에응답하여, 상기제1 식별정보에대응하는제1 의료기기를제어하기위한사용자인터페이스를상기터치스크린상에디스플레이할수 있다.
Abstract translation: 提供了包括触摸屏的移动终端和包括触摸屏的移动终端对医疗设备进行控制的方法。 由包括触摸屏的移动终端控制医疗设备的方法包括:当至少一个医疗设备在来自移动设备的预定范围内时,在触摸屏上显示与至少一个医疗设备相对应的至少一个识别信息 终端通过使用安装在室内的医疗设备的位置信息来确定; 以及响应于用于在所述识别信息中选择所述第一识别信息的用户输入,在所述触摸屏上显示用于控制对应于第一识别信息的第一医疗设备的用户界面。 本发明的方法使得用户能够通过使用移动终端方便地控制医疗设备。
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公开(公告)号:KR1020150059450A
公开(公告)日:2015-06-01
申请号:KR1020130143063
申请日:2013-11-22
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: A61B6/00
CPC classification number: A61B6/4233 , A61B6/469 , A61B6/542
Abstract: 복수의픽셀들로구성된어레이에서, 대상체를고려하여설정된엑스선조사영역에대응되는픽셀들을이용하여엑스선을조사함으로써, 엑스선의피폭을최소화함과동시에진단및 치료를보다정확하고용이하게수행할수 있도록하는엑스선영상촬영장치및 방법을개시한다.
Abstract translation: 公开了一种用于拍摄x射线图像的装置和方法。 拍摄X射线图像的方法包括通过使用与通过考虑包括多个像素的阵列上的对象而设置的x射线辐射区域相对应的像素来辐射x射线的步骤。 因此,X射线曝光最小化,诊断和治疗可以一次更准确,容易地进行。
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公开(公告)号:KR1020150005805A
公开(公告)日:2015-01-15
申请号:KR1020130078826
申请日:2013-07-05
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G06Q50/22
CPC classification number: A63B22/0605 , A63B22/0023 , A63B24/0087 , A63B71/0622 , A63B2024/009 , A63B2024/0096 , A63B2071/0081 , A63B2071/0638 , A63B2071/0666 , A63B2220/78 , A63B2220/805 , A63B2225/20 , A63B2225/50 , A63B2230/06 , A63F13/245 , A63F13/816 , A63F13/90 , G06F3/011 , G06F2203/012
Abstract: 본 발명은 가상 하이킹(Hiking) 장치 및 그 방법에 관한 것으로서, 특히, 실내에서도 실제 느낌을 느끼며 하이킹을 할 수 있도록 한 가상 하이킹 시스템 및 방법에 관한 것이다.
본 발명은 시뮬레이션 화면을 표시하는 PC; 상기 PC에 표시되는 시뮬레이션 화면의 도로의 상태에 대응하여 움직이는 모션플랫폼; 상기 모션플랫폼의 상부에 고정되어 구성되며, 핸들의 이동 및 속도에 대응하여 시뮬레이션 화면이 변화하는 사이클을 포함하는 것을 특징으로 한다.Abstract translation: 虚拟徒步旅行装置及其方法技术领域本发明涉及一种虚拟徒步旅行装置及其方法,更具体地说,涉及一种虚拟远足系统及其方法,其使用户能够在室内实际感觉到徒步旅行。 根据本发明的虚拟远足系统包括:显示模拟屏幕的个人计算机(PC); 在PC中显示的模拟画面中对应于道路状态移动的运动平台; 以及被配置为固定在运动平台上的循环,并且改变与手柄的运动和速度相对应的模拟屏幕。
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公开(公告)号:KR1020120038279A
公开(公告)日:2012-04-23
申请号:KR1020100099954
申请日:2010-10-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/8238 , H01L23/528 , H01L23/532 , H01L27/092
CPC classification number: H01L27/092 , H01L21/823807 , H01L21/823814 , H01L23/528 , H01L23/53295 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: PURPOSE: A semiconductor device and a manufacturing method thereof are provided to prevent an over-etch in a control hole forming process by differently controlling the thicknesses of etch stop layers on an NMOS area and a PMOS area. CONSTITUTION: A substrate(100) includes an NMOS area(10) and a PMOS area(20). A first etch stop layer(161) is formed on the substrate of the NMOS area. A second etch stop layer(162) is formed on the substrate of the PMOS area. A contact hole(116,117) passes through the first etch stop layer and the second etch stop layer. A first contact plug and a second contact plug are formed on a semiconductor extension layer(103) and a compression stress pattern(170).
Abstract translation: 目的:提供半导体器件及其制造方法,以通过不同地控制NMOS区域和PMOS区域上的蚀刻停止层的厚度来防止控制孔形成过程中的过度蚀刻。 构成:衬底(100)包括NMOS区域(10)和PMOS区域(20)。 第一蚀刻停止层(161)形成在NMOS区域的衬底上。 在PMOS区的衬底上形成第二蚀刻停止层(162)。 接触孔(116,117)穿过第一蚀刻停止层和第二蚀刻停止层。 第一接触插塞和第二接触插塞形成在半导体延伸层(103)和压缩应力模式(170)上。
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