Abstract:
PURPOSE: A module filter used as a semiconductor clean room is provided to remove dust and particles without pressure losses by using the module filter having functions of a high cleaning filter and a chemical filter. CONSTITUTION: The module filter comprises a plurality of separator(12) formed in a frame(11) and spaced apart from each other; a filter medium(13) attached in the separator(12) in turn; and a chemical filter(21) is formed between the filter mediums. The chemical filter(21) is removed the ionic particles from an air by absorbing and coupling counter ions included in the air.
Abstract:
본 발명은 토너 조성물 및 이를 이용한 토너의 제조방법을 개시한다. 상기 토너 조성물은 결합수지 형성용 모노머, 착색제, 안정제, 전하제어제, 윤활제 및 중합개시제를 포함하고 있는데, 상기 안정제가, pH 10∼14로 조절된 증류수에 소수성 실리카를 분산시킨 다음, pH 6∼8로 조절하여 얻어진 결과물인 것을 특징으로 한다. 본 발명의 토너 조성물을 이용하면, 전하량, 평균입경 및 입경분포 특성이 개선된 토너를 제조할 수 있다. 특히 상기 토너 조성물이 계면활성제를 포함하는 경우에는 착색제 및 전하제어제의 분산성이 매우 향상된 토너를 얻을 수 있으며, 이러한 토너를 이용하면 종래보다 개선된 화상 품질을 얻을 수 있다.
Abstract:
본 발명은 반도체제조설비용 고청정필터에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 청정실내로 유입되는 프레시에어가 필터를 통과할 때 경사기류가 형성되도록 구성된 반도체제조설비용 고청정필터에 관한 것이다. 본 발명에 따른 반도체제조설비용 경사기류 형성 고청정필터는, 세퍼레이터(21)와 그에 걸쳐져서 고정되는 여재(22)로 구성되는 고청정필터의 후단부의 주름높이(Pleat Depth)(H1)를 전단부의 주름높이(H2) 보다 더 높게 형성시켜서 이루어진다. 따라서, 작업벤치 상에 와류를 형성시키지 않고, 파티클들을 작업벤치 외부로 효율적으로 배출할 수 있는 경사기류를 형성시킬 수 있는 고청정필터를 제공하는 효과가 있다.
Abstract:
리소그라피 공정 중에서 레지스트와 하지막과의 계면에 HMDS 처리를 실시하기 위한 HMDS 분사 장치가 개시되어 있다. 상기 장치는 피라미드 형태의 그레이팅 홀더를 갖는 HMDS 분사 균일기를 구비한다. 상기 그레이팅의 밀도가 중앙부보다 엣지쪽으로 갈수록 높아지므로, HMDS 분사 균일성을 증가시켜 HMDS 도포시의 도포 불량을 줄일 수 있다.
Abstract:
A backlight unit and a display apparatus including the same are provided to enhance the uniformity of brightness and the color index and to reduce the manufacturing cost. A light guide panel(41) is located at the rear of an LCD panel. The first light source member(50a) is located along a side surface of the light guide panel. The second light source member(50b) is located at the other side surface of the light guide panel. A light source driving member(90) drives the first and second light source members. The light source driving member and the first and second light source members are connected to one another in series. The first and second light source members include plural light emitting diodes. The light source driving member includes the first and second driving member connection terminals connected with the first and second light source members and a connection line for connecting the first and second driving member connection terminals.
Abstract:
A temperature adjusting unit, an apparatus for treating a substrate having the same unit, and a method for controlling temperature of the same apparatus are provided to enhance process compatibility by utilizing the temperature adjusting unit in a wide temperature range. A process chamber is used for receiving a semiconductor substrate and performing a predetermined process. A cooling fluid supply tube(200) is used for supplying a cooling fluid to a cooling line provided in the process chamber. A temperature control unit controls the temperature of the cooling fluid supplied to the cooling fluid supply tube. The temperature control unit includes a cooler(304) for providing a circulating cycle. The cooler includes a compressor(310) for compressing a refrigerant, a condenser(320) for condensing the compressed refrigerant, an expansion unit(330) having a plurality of expansive valves, and an evaporator(340) for evaporating the expanded refrigerant.
Abstract:
PURPOSE: A sampling container is provided to prevent pollution of sample ultrapure water by shutting off introduction of ambient air when extracting a sample at a sampling point and supplying the prepared sample ultrapure water to an analysis device. CONSTITUTION: A sampling container includes a main body having an inner space for containing a sample solution, a lid for covering an inlet of the main body, a first injection tube(16) mounted in the lid for injecting a sampling solution into the inner space of the main body and connected to a sampling point(40) via a tube(42), a second injection tube(18) mounted in the lid for injecting purge gas into the inner space, and a discharge tube(20) mounted in the lid and connected to the injection an analysis device(30) for supplying the sample solution filled in the container to the analysis device, wherein introduction of ambient air is shut off when extracting a sample at the sampling point and supplying the sample solution to the analysis device.
Abstract:
반도체 클린 룸에 대해 기재되어 있다. 이는 천정에 주 덕트와 부 덕트가 배치되어 있고, 바닥에 펌프 스태이지가 배치되어 있는 플리넘 및 덕트 샤프트가 중앙복도를 따라 배치되어 있는 클린 영역을 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 덕트의 용량을 용이하게 증가시킬 수 있고, 스태이지와 스태이지 사이의 왕복을 용이하게 할 수 있으며, 클린 영역의 공간 활용에 대한 제한을 줄일 수 있다. 또한, 플리넘 내의 기류의 유동이 차단되는 것을 방지할 수 있고, 스태이지 상에 설치되는 장비의 변경 혹은 증가를 용이하게 할 수 있다.
Abstract:
대전체를 중화시키는 이오나이저를 구성하는 전극의 사용시간 및 교체주기를 디스플레이 수단을 이용해서 표시하는 이오나이저의 전극 사용시간 표시장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 이오나이저의 전극 사용시간 표시장치는, 복수 개의 전극이 양, 음의 전압을 인가받아서 대전체를 중화시키는 이오나이저의 전극 사용시간 표시장치에 있어서, 버튼을 구비하고, 상기 버튼의 조작으로 상기 전극의 교체주기와 크리닝 주기가 설정되고 표시되는 디스플레이 수단을 구비하여 이루어진다. 따라서, 본 발명에 의하면 시간이 표시되는 디스플레이 수단을 제공하여 전극의 사용시간을 관리함으로써 크리닝 주기 및 교체주기를 관리하여 이오나이저 전극불량 및 그로 인한 공정불량 발생을 사전에 방지하여 수율을 높여서 결과적으로 생산성이 향상되는 효과가 있다.