Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing a black matrix is provided to obtain high resolution, minimum line width and high process margin by exposing a black resist in the direction of a substrate. CONSTITUTION: A negative black resist is coated on a glass substrate. A resist thin film is formed by pre-baking the black resist at 50-150deg.C of temperature for 0-200 seconds. The black resist is exposed in the direction of the substrate by using an ultraviolet ray source. The black resist is developed and post-baked at 100-300deg.C temperature for 0-70 seconds. Since the light is irradiated in the direction of the substrate, a developing solution is infiltrated easily.
Abstract:
Acrylic fine particles of the present invention are acrylic fine particles formed by polymerizing a cross-linker to a monomer comprising (meta)acrylate. The cross-linker comprises a first cross-linker containing more than three (meta)acryl groups and at least one kind of functional group among OH and -COOH. The acrylic particles have 20- 60% of dispersion index (C.V). The acrylic particles have high heat resistance and solvent resistance wherein compatibility with a binder and solvent is increased thereby having significantly increased dispersion on a film such as a diffusion film so as to be properly used in a diffusing agent.
Abstract:
본 발명은 실리콘계 고무 및 알킬 아크릴레이트를 포함하는 코어; 및 무기 아크릴계 화합물을 포함하는 쉘;의 코어-쉘 구조를 포함하는 그라프트 공중합체로 이루어지는 실리콘계 충격보강제를 제공한다. 상기 본 발명에 따른 실리콘계 충격보강제는 기존 물성을 유지하면서 굴절률이 향상되어 열가소성 수지 적용시 외관 특성이 우수하다. 실리콘계 고무, 무기 아크릴계 화합물, 코어-쉘 구조
Abstract:
본 발명은 하기 식에 의해 정의되는 OH Index 값이 0.6 이하인 것을 특징으로 하는 소수성 및 내알칼리성이 우수한 실리콘계 미립자에 관한 것이다. 본 발명은 실리콘계 미립자의 표면을 알칼리 금속이온 또는 알칼리 토금속이온으로 처리하여 표면수산기를 조절하는 방법을 제공한다. 또한 본 발명은 상기 표면수산기가 조절된 실리콘계 미립자를 코팅액에 사용하는 방법을 제공한다: OH Index = Abs(Si-OH)/Abs(Si-CH 3 ) Abs(Si-OH): 적외선 흡수영역 3,300~3,700 cm -1 에서의 최대흡광도 Abs(Si-CH 3 ): 적외선 흡수영역 2,900~3,100 cm -1 에서의 최대흡광도 폴리오가노실세스퀴옥산, 미립자, 알칼리 금속이온, 알칼리 토금속이온, 표면수산기, 소수성, 내알칼리성
Abstract:
본 발명의 표면 개질된 탄산칼슘은 탄산칼슘 및 상기 탄산칼슘 표면의 적어도 일부를 피복하는 실리카(silica)층을 포함하고, 열분해 온도가 300 내지 550℃이다. 본 발명의 표면 개질된 탄산칼슘은 분산성 및 고분자 수지와의 상용성이 우수하고, 낮은 열분해 온도를 갖는다. 표면 개질, 탄산칼슘, 규산염, 실리카, 도펀트, 고분자 수지
Abstract:
A silicone particle is provided to show excellent luminance and lightfastness and improved compatibility with a resin and workability by introducing a hydroxy group into the surface of a polyorganosilsesquioxane particle. A silicone particle is characterized in that it is surface treated to have an OH index value of 0.7-1.0, wherein the OH index value is calculated by dividing Si-OH peak of [Abs.(at 3,350-3,400-3,450 cm^-1)] into Si-CH3 peak of [Abs.(at 2,920-2,970-3,020 cm^-1)]. A method for preparing the silicone particle comprises the steps of: (a) drying polyorganosilsesquioxane latex to prepare a powder type silicone particle; and (b) drying or sintering the powder type silicone particle at a temperature of 200-400 deg.C for 0.5-3 hours. A light diffusing plate comprises 0.1-10 parts by weight of the silicone particle as a diffuser regarding 100 parts by weight of a thermoplastic resin. Further, an average diameter of the silicone particle is 0.1 to 20mum.
Abstract:
본 발명은 (1)하기 화학식 2의 나프탈렌계 에폭시 수지 3.5-7.0중량%, (2)수산기가 2개 이상이며 수산기 당량이 100-200인 통상의 페놀 노블락 수지, 자일록 수지, 디싸이클로펜타디엔 수지로 구성된 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 노볼락계 경화제 3.5-7.0중량%, (3)경화 촉진제 0.1-0.3중량% 및 (4)무기 충전제 88-92중량% 를 포함하는 반도체 소자 밀봉용 에폭시 수지 조성물에 관한 것으로서, 고온에 대한 내크랙성이 우수하고 고온에서의 열변형이 적으며 리드프레임과의 밀착성이 우수하여 반도체 소자 밀봉용 에폭시 수지 조성물로서 유용하다. [화학식 2]